本实用新型专利技术涉及一种屋面瓦,包括瓦片本体,其特征在于:所述瓦片本体的瓦面上还设有高出上表面的定位基准台,瓦片本体的上边缘设有支撑檐,定位基准台的上边缘与支撑檐内边缘形成排水通道,排水通道的两端分别沿纵向中线方向向瓦片本体的下边缘设有导水槽,所述导水槽的下端距离定位基准台的下边缘一定距离;所述的定位基准台的下边缘沿中心线方向向瓦片本体的下边缘设有分割槽;所述排水通道内设有阻隔台;阻隔台将排水通道分为两个部分,但其阻隔台的上部互通。本实用新型专利技术既能解决漏水问题,避免了倒吸现象,又能兼顾铺设完成后,整体效果美观,平整度较高等问题,此外由于定位基准台的设计,提高铺设的质量和铺设效果。
【技术实现步骤摘要】
本技术属于建筑材料
,特别是涉及一种屋面瓦。
技术介绍
屋面瓦是一种用于建筑工程坡屋顶上的瓦,在我国建筑材料中占有重要地位,是我国传统的屋面材料,由于传统的屋面瓦的组合结构方式与选材所限,造成功能单一、体积笨重,施工繁琐等诸多弊病,国内外几十代人试图攻破传统的屋面瓦的弊端,但是苦心研究,最终都是在瓦片的形状方面变化而且,在对屋面瓦设计时最关键的整体瓦面的平整度、整体视觉效果、施工速度以及结合处漏水,现有的瓦片基本都是解决其中一个或者两个问题,再设计时,往往解决了其中一个问题而要放弃另外的问题,多者技术问题兼备目前市场上还没有此类的屋面瓦;根据实际的调研来看,现有的瓦片一般改进方向都是在于如何解决接缝不严紧、不密封问题,但是一旦遇到大雨时,水流较急,导水槽排水不及时,从而会造成从相邻的瓦缝之间流入瓦片下,造成屋顶漏水问题,而且还会有反吸现象,即水流过速时,相应对瓦下产生负压,进而雨水会从瓦缝内吸入,产生漏水问题,漏水后在实际检查和维修时很难发现问题的所在。
技术实现思路
本技术为解决公知技术中存在的技术问题而提供一种结构简单、施工效率高、即能解决漏水问题,节省用量,避免了倒吸现象,铺设完成后,整体效果美观,平整度较高的屋面瓦。本技术为解决公知技术中存在的技术问题所采取的技术方案是:一种屋面瓦,包括瓦片本体,所述瓦片本体的下表面为铺设面,所述铺设面为平面结构;瓦片本体的上表面为瓦面,其上设有导水槽和安装孔;其特征在于:所述瓦片本体的瓦面上还设有高出上表面的定位基准台,所述定位基准台的形状为长方形结构,定位基准台位于瓦片本体中线靠上位置;瓦片本体的上边缘设有支撑檐,所述支撑檐分为三段,其中中间段的上表面与定位基准台的上表面位于同一平面上,且宽度等于定位基准台的宽度,两侧段的上表面与瓦片本体的上表面位于同一平面上;定位基准台的上边缘与支撑檐内边缘形成排水通道,排水通道从纵向中线起向两侧延伸至瓦片本体的侧支撑檐上,所述侧支撑檐的上表面与瓦片本体的上表面位于同一平面上,排水通道的两端分别沿纵向中线方向向瓦片本体的下边缘设有导水槽,所述导水槽的下端距离定位基准台的下边缘一定距离;所述导水槽的下端部设有导水坡面;所述安装孔位于定位基准台的两侧;所述的定位基准台的下边缘沿中心线方向向瓦片本体的下边缘设有分割槽。本技术还可以采用如下技术措施:所述位于侧支撑檐内侧的导水槽至少设有分隔墙,分隔墙将导水槽分隔为相互独立的导水沟,其中位于最内侧的导水沟与排水通道连通。所述排水通道内设有阻隔台,阻隔台距离上表面定位基准台的上表面一定距离;阻隔台将排水通道分为两个部分,但其阻隔台的上部互通。本技术具有的优点和积极效果是:由于本技术采用上述技术方案,打破传统的左右对接、上下搭接等方式存在的弊端,解决了传统瓦在铺设时定位不准而造成累计误差越来越大的问题,同时和传统的同规格尺寸屋面瓦相比节省了瓦片的用量,降低了铺设工时;在漏水问题,通过相互连通的排水通道的独特设计,彻底解决了现有屋面瓦存在的倒吸现象;定位基准台的设计使得在实际施工时有了基准可循,随时铺设随时找相邻的瓦片作为基准,就能够保证铺设的整体效果;铺设完成后其表面会形成基本相同的矩形块拼装而成,看不见任何导水槽、导水沟等,从而从整体视觉效果上排列即整齐又有规律,给人一种耳目一新的感觉;尤其适用于现在繁华都市洋房与高层互搭的情况,从高层往下俯视洋房屋顶,给人一种美的享受。附图说明图1是本技术的结构示意图;图2是图1的后视图;图3是图1的左视图;图4是图1的俯视图;图5和图6是图1正反两面立体结构示意图;图7是铺设结构示意图;图8是图7的左视图;图9是铺设的后视图;图10和图11是铺设后正反立体图结构示意图。图中:1、瓦片本体;1-1、铺设面;1-2、瓦面;1-3、导水槽;1-30、导水坡面;1-4、安装孔;1-5、定位基准台;1-6、上边缘;1-7、支撑檐;1-8、排水通道;1-9、下边缘;1-10、分割槽;1-11、阻隔台;1-12、分隔墙;1-13、侧支撑檐。具体实施方式为能进一步了解本技术的
技术实现思路
、特点及功效,兹例举以下实施例,并配合附图详细说明如下:请参阅图1至图6,一种屋面瓦,包括瓦片本体1,所述瓦片本体的下表面为铺设面1-1,所述铺设面为平面结构;瓦片本体的上表面为瓦面1-2,其上设有导水槽1-3和安装孔1-4;所述瓦片本体的瓦面上还设有高出上表面的定位基准台1-5,所述定位基准台的形状为长方形结构,定位基准台位于瓦片本体中线靠上位置;瓦片本体的上边缘1-6设有支撑檐1-7,所述支撑檐分为三段,其中中间段的上表面与定位基准台的上表面位于同一平面上,且宽度等于定位基准台的宽度,两侧段的上表面与瓦片本体的上表面位于同一平面上;定位基准台的上边缘1-6与支撑檐1-7内边缘形成排水通道1-8,排水通道从纵向中线起向两侧延伸至瓦片本体的侧支撑檐1-13上,所述侧支撑檐的上表面与瓦片本体的上表面位于同一平面上,排水通道的两端分别沿纵向中线方向向瓦片本体的下边缘设有导水槽1-3,所述导水槽的下端距离定位基准台的下边缘1-9一定距离,此距离不限定,只要盖上相邻的瓦片不露出即可;所述导水槽的下端部设有导水坡面1-30,此导水坡面的设计有效防止水残留死角,彻底将雨水排除,解决雨水存留后的渗漏问题;所述安装孔位于定位基准台的两侧;采用两侧的设计和现有瓦片死角固定相比即保证了连接强度,又节约了安装成本;在定装时,安装孔内的连接件被相邻的瓦片盖在下面,从而减缓连接件的锈蚀,保证连接件的强度和使用寿命。所述的定位基准台的下边缘沿中心线方向向瓦片本体的下边缘设有分割槽1-10;此分割槽的设计一方面使得拼装后整体屋面是有数个一致的矩形拼装而成,从而在视觉效果上更加平整,和其它屋面相比更为突出;其次他可以在大雨时进行分流,保证雨水顺利的从屋面瓦表面进行下流。所述排水通道内设有阻隔台1-11,阻隔台距离上表面定位基准台的上表面一定距离;阻隔台将排水通道分为两个部分,但其阻隔台的上部互通,上述阻隔台的设计一方面提高排水通道的整体强度,另外一方面是保证两侧的导水槽能够互通,在雨水较小时此阻隔台起到放置雨水窜流的问题,当雨水较大时,雨水可以越过阻隔台,分担一侧导水槽排水能力;相通结构的设计有效避免了,大雨时产生负压而造成倒吸的问题。为了进一步解决漏水问题,在所述位本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种屋面瓦,包括瓦片本体,所述瓦片本体的下表面为铺设面,所述铺设面为平面结构;瓦片本体的上表面为瓦面,其上设有导水槽和安装孔;其特征在于:所述瓦片本体的瓦面上还设有高出上表面的定位基准台,所述定位基准台的形状为长方形结构,定位基准台位于瓦片本体中线靠上位置;瓦片本体的上边缘设有支撑檐,所述支撑檐分为三段,其中中间段的上表面与定位基准台的上表面位于同一平面上,且宽度等于定位基准台的宽度,两侧段的上表面与瓦片本体的上表面位于同一平面上;定位基准台的上边缘与支撑檐内边缘形成排水通道,排水通道从纵向中线起向两侧延伸至瓦片本体的侧支撑檐上,所述侧支撑檐的上表面与瓦片本体的上表面位于同一平面上,排水通道的两端分别沿纵向中线方向向瓦片本体的下边缘设有导水槽,所述导水槽的下端距离定位基准台的下边缘一定距离;所述导水槽的下端部设有导水坡面;所述安装孔位于定位基准台的两侧;所述的定位基准台的下边缘沿中心线方向向瓦片本体的下边缘设有分割槽。
【技术特征摘要】
1.一种屋面瓦,包括瓦片本体,所述瓦片本体的下表面为铺设面,所述铺设面为平
面结构;瓦片本体的上表面为瓦面,其上设有导水槽和安装孔;其特征在于:所述瓦片
本体的瓦面上还设有高出上表面的定位基准台,所述定位基准台的形状为长方形结构,
定位基准台位于瓦片本体中线靠上位置;
瓦片本体的上边缘设有支撑檐,所述支撑檐分为三段,其中中间段的上表面与定位
基准台的上表面位于同一平面上,且宽度等于定位基准台的宽度,两侧段的上表面与瓦
片本体的上表面位于同一平面上;
定位基准台的上边缘与支撑檐内边缘形成排水通道,排水通道从纵向中线起向两侧
延伸至瓦片本体的侧支撑檐上,所述侧支撑檐的上表面与瓦片本体的上表面位于同一平
...
【专利技术属性】
技术研发人员:吴在祥,
申请(专利权)人:吴在祥,
类型:新型
国别省市:天津;12
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