【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种在头骨和大脑中形成开口的颅骨钻系统以及方法。本发明特别应用于颅骨钻系统,用于在头骨中形成开口,所述开口适于接纳颅骨端口,诸如与装置(诸如引导装置、导管或电极等)连接的颅骨端口。
技术介绍
存在许多情形需要经由植入的导管将治疗剂输送至大脑实质中的特定目标。另外,这些治疗剂中的许多种如果被输送至大脑的健康部分将造成不期望的副作用。治疗大脑功能异常的例子包括:将γ-氨酪酸激动剂急性注射到癫痫灶点或者通道中以阻塞传递,以及将麻醉剂或者其它止痛剂慢性输送到水管周围的灰色神经组织或者丘脑目标以治疗棘手的病痛。同样,可以将细胞毒性药物直接输送到大脑肿瘤中。也可以应用主质内注入来将不能被系统输送的治疗剂输送到大脑目标,因为这些治疗剂不会横穿血-脑屏障。例如,对帕金森病、老年痴呆症、头部损伤、中风以及多种硬化症病人的治疗可以通过注入神经营养因子来实施,以保护和修补失效或者损坏的神经细胞。还可以注入神经营养因子,以支持被移植到损坏的或者失效的脑部区域中的神经移植物,以便恢复功能。还已知直接插入脑部实质中除导管之外的的仪器,诸如电极。例如,在多种外科手术中使用刺激或损伤电极,包括深度大脑刺激(DBS)电极。希望刺激或者损坏神经组织的特定区域的外科医生能够将电极端部瞄准目标地点,从而能够输送期望的电流。上述方法依赖于尽可能精确地瞄准所需地点。所插入仪器的稍许错位可以导致显著的发病率或者治疗失败。 ...
【技术保护点】
一种颅骨钻系统,包括用于钻入头骨中的外科钻孔元件以及用于穿透硬脑膜的元件,所述外科钻孔元件包括在所述头骨中形成开口的轮廓,所述开口具有较窄直径部和较宽直径部,所述元件布置成紧密配合在所述开口的所述较窄直径部中。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.06.01 GB 1209772.11.一种颅骨钻系统,包括用于钻入头骨中的外科钻孔元件以及用于穿
透硬脑膜的元件,所述外科钻孔元件包括在所述头骨中形成开口的轮廓,所
述开口具有较窄直径部和较宽直径部,所述元件布置成紧密配合在所述开口
的所述较窄直径部中。
2.根据权利要求1所述的颅骨钻系统,其中,所述元件是具有大致光
滑外表面的尖钉。
3.根据权利要求1所述的颅骨钻系统,其中,所述元件是另一钻孔元
件。
4.根据权利要求1所述的颅骨钻系统,包括用于刺穿所述硬脑膜的尖
钉以及用于钻入大脑中的另一钻孔元件。
5.一种颅骨钻系统,包括将要定位在穿过头骨形成的孔中的引导元
件以及用于穿刺硬脑膜的穿刺元件,所述引导元件具有位于其中的通道
或者槽道,用于接纳所述穿刺元件,使得所述穿刺元件能够相对于所述
引导元件移动以便刺穿所述硬脑膜。
6.根据权利要求5所述的颅骨钻系统,其中,所述引导元件包括一
钻孔元件,用于穿过所述头骨钻出所述孔。
7.根据权利要求5所述的颅骨钻系统,其中,所述引导元件是与用
来形成所述孔的钻孔元件分离的元件。
8.根据权利要求7所述的颅骨钻系统,其中,所述钻孔元件包括在
所述头骨中形成开口的轮廓,所述开口具有较窄直径部和较宽直径部,
并且所述引导元件包括与所述钻孔元件的轮廓相对应的轮廓。
9.根据权利要求5至8中任意一项所述的颅骨钻系统,其中,所述
引导元件和所述穿刺元件布置成一起协作,以便限定应用所述穿刺元件
形成的硬脑膜中的开口与由所述引导元件接合的所述头骨中的孔的相对
位置。
10.根据权利要求5至9中任意一项所述的颅骨钻系统,其中,所
述穿刺元件能够在所述通道或槽道中从一回缩位置以及一伸出位置移
动,其中在所述回缩位置,所述穿刺元件没有从所述引导元件的远端突
出,在所述伸出位置,所述穿刺元件从所述引导元件的远端伸出。
11.根据权利要求10所述的颅骨钻系统,其中,所述通道或者槽道
\t延伸穿过所述引导元件,使得所述穿刺元件能够插入所述引导元件的近
端部并且移动通过所述通道或者槽道以便从所述引导元件的远端突出。
12.根据权利要求5至10中任意一项所述的颅骨钻系统,其中,所
述穿刺元件是具有大致光滑外表面的尖钉,或者所述穿刺元件是钻孔元
件。
13.一种颅骨钻系统,包括一个或多个用于钻入大脑中的外科钻孔
元件。
14.根据权利要求13所述的颅骨钻系统,包括第一钻孔元件和第二
钻孔元件,它们布置成一起协作,以便限定应用所述第一钻孔元件和第
二钻孔元件形成的开口的相对位置,其中所述开口可以包括颅骨中的开
口以及大脑中的开口。
15.根据权利要求13或14所述的颅骨钻系统,包括用于钻入大脑
中的第一钻孔元件以及用于钻入头骨中的第二钻孔元件,所述第二钻孔
元件具有至少一部分,该部分的直径大于所述第一钻孔元件的直径。
16.根...
【专利技术属性】
技术研发人员:史蒂文·斯特里特菲尔德·吉尔,卡特里奥纳·芬内利,
申请(专利权)人:瑞尼斯豪公司,
类型:发明
国别省市:英国;GB
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