涂布装置、去除装置以及涂布去除系统与涂布方法、去除方法以及涂布去除方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种涂布装置(10)，其仅向含有实施表面处理的处理面(S1)和不实施表面处理的非处理面(S2)的被涂布物中的非处理面(S2)涂布热熔融性的涂布材料(A)，其具有：朝向被涂布物吐出熔融的涂布材料(A)的喷墨部(20)；向喷墨部(20)供给熔融的涂布材料(A)的供给部(30)；设置于供给部(30)的熔融涂布材料(A)的加热装置(31)。本发明专利技术还提供，对于仅涂布于被涂布物的非处理面(S2)的作为含有石蜡的掩蔽剂的涂布材料(A)，通过低于石蜡熔点的温度的制冷剂，以固体状直接从被涂布物中去除，或者，通过石蜡熔点以上的温度的流体，使其成为液体状并从被涂布物中去除。通过上述各个构成，能够在复杂且小型的非处理面上形成掩蔽，并且，能够容易地去除掩蔽剂。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种涂布装置、去除装置以及涂布去除系统与涂布方法、去除方法以及涂布去除方法。
技术介绍
在镀敷、蚀刻等的表面处理中，为了形成所需的图案使用有掩蔽剂。以往，通过掩蔽带覆盖基板的不实施表面处理的非处理面之后，实施规定的表面处理，并用规定的剥离装置对掩蔽带进行剥离(例如，参考专利文献1)。近年来，随着作为实施表面处理的对象的电子部件等的形状的复杂化，对于复杂且小型的非处理面实施表面处理的要求变高。但是，在专利文献1记载的技术中，通过掩蔽带实施了掩蔽，因此，难以对于复杂且小型的非处理面形成掩蔽。另外，当以仅对能够粘贴的部位粘贴掩蔽带的状态，例如，浸渍于镀敷液时，镀敷液涂布至不需要的部位，由此发生了镀敷材料的浪费。另外，因为必须设置用于剥离掩蔽带的剥离装置，由此增加了剥离掩蔽带所需的成本以及时间。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2004-43852号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题本专利技术为了解决上述课题而完成，其目的在于提供一种能够对复杂且小型的非处理面形成掩蔽的涂布装置以及涂布方法、能够容易去除掩蔽剂的去除装置、去除方法以及涂布去除系统。解决课题的方法本专利技术的上述目的通过下述(1)～(32)所述的专利技术达成。(1)一种涂布装置，其仅向含有实施表面处理的处理面和不实施所述表面处理的非处理面的被涂布物中的所述非处理面涂布室温为固体并且通过加热被液化的热熔融性的涂布材料，其具有：喷墨部，该喷墨部朝向所述被涂布物吐出熔融的所述涂布材料；供给部，该供给部向所述喷墨部供给熔融的所述涂布材料；加热装置，该加热装置设置于所述供给部并且熔融所述涂布材料。(2)上述(1)所述的涂布装置，其中，所述供给部具有：储罐部，该储罐部中能够投入固体状或者液体状的所述涂布材料；连接部，该连接部连接所述喷墨部和所述储罐部；送出部，该送出部以所述连接部为介将所述储罐部内的熔融的所述涂布材料送出至所述喷墨部，所述加热装置具有：第1加热部，该第1加热部设置于所述储罐部并且熔融所述涂布材料；第2加热部，该第2加热部设置于所述连接部并且维持所述涂布材料的熔融状态。(3)上述(2)所述的涂布装置，其中，所述送出部由自然流下机构或者泵机构构成，该自然流下机构通过使所述储罐部配置在所述喷墨部上方以使熔融的所述涂布材料从高处向低处流下而送出。(4)上述(1)～(3)中任一项所述的涂布装置，其中，其还具有：调整部，该调整部相对于所述被涂布物相对地三维地移动所述喷墨部以调整姿势，由此自由调整在所述被涂布物中所述涂布材料所涂布的位置。(5)上述(4)所述的涂布装置，其中，所述调整部具有第1转动部以及第2转动部，所述第1转动部以及第2转动部，各自绕所述被涂布物的所述涂布材料着落的着落面中的相互垂直的第1方向以及第2方向的轴，使所述喷墨部相对于所述被涂布物相对地转动并使所述喷墨部相对于所述着落面倾斜。(6)上述(5)所述的涂布装置，其中，设置于所述喷墨部的喷墨喷嘴的列排列在所述第2方向上，所述涂布材料通过所述喷墨部沿着所述第1方向依次吐出，所述调整部还具有第3转动部，所述第3转动部绕垂直于所述着落面的第3方向的轴，使所述喷墨部相对于所述被涂布物相对地转动并使所述喷墨喷嘴的列相对于所述第2方向倾斜。(7)上述(1)～(6)中任一项所述的涂布装置，其中，其还具有：其它喷墨部，该其它喷墨部朝着与由所述喷墨部吐出所述涂布材料的方向不同的方向吐出所述涂布材料。(8)上述(1)～(7)中任一项所述的涂布装置，其中，所述涂布材料是含有石蜡的掩蔽剂。(9)上述(8)所述的涂布装置，其中，所述涂布材料在80℃下的粘度为5～30mPa·s。(10)上述(8)或(9)所述的涂布装置，其中，相对于所述掩蔽剂的总重量，所述石蜡是85重量％以上并且低于100重量％。(11)上述(1)～(10)中任一项所述的涂布装置，其中，其还具有：搬送部，该搬送部相对地搬送所述喷墨部和所述被涂布物；温度控制部，该温度控制部设置于所述搬送部并且控制所述被涂布物的温度。(12)一种去除装置，其具有：冷却去除部，该冷却去除部对于室温为固体并且通过加热被液化的热熔融性的作为含有石蜡的掩蔽剂的涂布材料，通过低于所述石蜡的熔点的温度的制冷剂以固体状直接从所述被涂布物中去除，所述涂布材料仅涂布于含有实施表面处理的处理面和不实施所述表面处理的非处理面的被涂布物中的所述非处理面。(13)上述(12)所述的去除装置，其中，其具有：冷却侧回收部，该冷却侧回收部从所述制冷剂中回收通过所述冷却去除部去除的固体状的所述掩蔽剂，通过所述冷却侧回收部回收的所述掩蔽剂作为上述(1)～(11)中任一项所述的涂布材料进行再利用。(14)一种去除装置，其具有：冷却去除部，该冷却去除部对于室温为固体并且通过加热被液化的热熔融性的作为含有石蜡的掩蔽剂的涂布材料，通过低于所述石蜡的熔点的温度的制冷剂以固体状直接从所述被涂布物中去除，所述涂布材料仅涂布于含有实施表面处理的处理面和不实施所述表面处理的非处理面的被涂布物中的所述非处理面；熔融去除部，该熔融去除部对于所述冷却去除部去除之后的所述非处理面中残留的所述涂布材料，通过所述石蜡的熔点以上的温度的流体熔融而成为液体状并从所述被涂布物中去除。(15)上述(14)所述的去除装置，其中，其具有：冷却侧回收部，该冷却侧回收部从所述制冷剂中回收通过所述冷却去除部去除的固体状的所述掩蔽剂；以及熔融侧回收部，该熔融侧回收部使通过所述熔融去除部去除的液体状的所述掩蔽剂成为固体状之后进行回收，通过所述冷却侧回收部以及所述熔融侧回收部回收的所述掩蔽剂作为上述(1)～(11)中任一项所述的涂布材料进行再利用。(16)一种去除装置，其具有：熔融去除部，该熔融去除部对于室温为固体并且通过加热被液化的热熔融性的作为含有石蜡的掩蔽剂的涂布材料，通过所述石蜡的熔点以上的温度的流体熔融而成为液体状并从所述被涂布物中去除，所述涂布材料仅涂布于含有实施表面处理的处理面和不实施所述表面处理的非处理面的被涂布物中的所述非处理面。(17)上述(16)所述的去除装置，其中，其具有：熔融侧回收部，该熔融侧回收部使通过所述熔融去除部去除的液体状的所述掩蔽剂本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涂布装置，其仅向含有实施表面处理的处理面和不实施所述表面处理的非处理面的被涂布物中的所述非处理面涂布室温为固体并且通过加热被液化的热熔融性的涂布材料，其具有：喷墨部，该喷墨部朝向所述被涂布物吐出熔融的所述涂布材料；供给部，该供给部向所述喷墨部供给熔融的所述涂布材料；加热装置，该加热装置设置于所述供给部并且熔融所述涂布材料。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.06.25 JP 2012-142499;2013.03.11 JP 2013-047541.一种涂布装置，其仅向含有实施表面处理的处理面和不实施所述表面
处理的非处理面的被涂布物中的所述非处理面涂布室温为固体并且通过加热
被液化的热熔融性的涂布材料，
其具有：
喷墨部，该喷墨部朝向所述被涂布物吐出熔融的所述涂布材料；
供给部，该供给部向所述喷墨部供给熔融的所述涂布材料；
加热装置，该加热装置设置于所述供给部并且熔融所述涂布材料。
2.如权利要求1所述的涂布装置，其中，
所述供给部具有：
储罐部，该储罐部中能够投入固体状或者液体状的所述涂布材料；
连接部，该连接部连接所述喷墨部和所述储罐部；
送出部，该送出部以所述连接部为介将所述储罐部内的熔融的所述涂布
材料送出至所述喷墨部，
所述加热装置具有：
第1加热部，该第1加热部设置于所述储罐部并且熔融所述涂布材料；
第2加热部，该第2加热部设置于所述连接部并且维持所述涂布材料的
熔融状态。
3.如权利要求2所述的涂布装置，其中，
所述送出部由自然流下机构或者泵机构构成，该自然流下机构通过使所
述储罐部配置在所述喷墨部上方以使熔融的所述涂布材料从高处向低处流下
而送出。
4.如权利要求1～3中任一项所述的涂布装置，其中，其还具有：
调整部，该调整部相对于所述被涂布物相对地三维地移动所述喷墨部以
调整姿势，由此自由调整在所述被涂布物中所述涂布材料所涂布的位置。
5.如权利要求4所述的涂布装置，其中，
所述调整部具有第1转动部以及第2转动部，所述第1转动部以及第2
转动部，各自绕所述被涂布物的所述涂布材料着落的着落面中的相互垂直的
第1方向以及第2方向的轴，使所述喷墨部相对于所述被涂布物相对地转动
并使所述喷墨部相对于所述着落面倾斜。
6.如权利要求5所述的涂布装置，其中，
设置于所述喷墨部的喷墨喷嘴的列排列在所述第2方向上，所述涂布材
料通过所述喷墨部沿着所述第1方向依次吐出，
所述调整部还具有第3转动部，所述第3转动部绕垂直于所述着落面的
第3方向的轴，使所述喷墨部相对于所述被涂布物相对地转动并使所述喷墨
喷嘴的列相对于所述第2方向倾斜。
7.如权利要求1～6中任一项所述的涂布装置，其中，其还具有：
其它喷墨部，该其它喷墨部朝着与由所述喷墨部吐出所述涂布材料的方
向不同的方向吐出所述涂布材料。
8.如权利要求1～7中任一项所述的涂布装置，其中，
所述涂布材料是含有石蜡的掩蔽剂。
9.如权利要求8所述的涂布装置，其中，
所述涂布材料在80℃下的粘度为5～30mPa·s。
10.如权利要求8或9所述的涂布装置，其中，
相对于所述掩蔽剂的总重量，所述石蜡是85重量％以上并且低于100重
量％。
11.如权利要求1～10中任一项所述的涂布装置，其中，其还具有：
搬送部，该搬送部相对地搬送所述喷墨部和所述被涂布物；
温度控制部，该温度控制部设置于所述搬送部并且控制所述被涂布物的
温度。
12.一种去除装置，其具有：
冷却去除部，该冷却去除部对于室温为固体并且通过加热被液化的热熔
融性的作为含有石蜡的掩蔽剂的涂布材料，通过低于所述石蜡的熔点的温度
的制冷剂以固体状直接从所述被涂布物中去除，
所述涂布材料仅涂布于含有实施表面处理的处理面和不实施所述表面处
理的非处理面的被涂布物中的所述非处理面。
13.如权利要求12所述的去除装置，其中，其具有：
冷却侧回收部，该冷却侧回收部从所述制冷剂中回收通过所述冷却去除
部去除的固体状的所述掩蔽剂，通过所述冷却侧回收部回收的所述掩蔽剂作
为权利要求1～11中任一项所述的涂布材料进行再利用。
14.一种去除装置，其具有：
冷却去除部，该冷却去除部对于室温为固体并且通过加热被液化的热熔
融性的作为含有石蜡的掩蔽剂的涂布材料，通过低于所述石蜡的熔点的温度
的制冷剂以固体状直接从所述被涂布物中去除，所述涂布材料仅涂布于含有
实施表面处理的处理面和不实施所述表面处理的非处理面的被涂布物中的所
述非处理面；
熔融去除部，该熔融去除部对于所述冷却去除部去除之后的所述非处理
面中残留的所述涂布材料，通过所述石蜡的熔点以上的温度的流体熔融而成
为液体状并从所述被涂布物中去除。
15.如权利要求14所述的去除装置，其中，其具有：
冷却侧回收部，该冷却侧回收部从所述制冷剂中回收通过所述冷却去除
部去除的固体状的所述掩蔽剂；以及
熔融侧回收部，该熔融侧回收部使通过所述熔融去除部去除的液体状的
所述掩蔽剂成为固体状之后进行回收，
通过所述冷却侧回收部以及所述熔融侧回收部回收的所述掩蔽剂作为权
利要求1～11中任一项所述的涂布材料进行再利用。
16.一种去除装置，其具有：
熔融去除部，该熔融去除部对于室温为固体并且通过加热被液化的热熔
融性的作为含有石蜡的掩蔽剂的涂布材料，通过所述石蜡...

【专利技术属性】
技术研发人员：金敏秀，小西幸雄，
申请(专利权)人：JE国际株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP