【技术实现步骤摘要】
移动体驱动系统及方法、图案形成装置及方法、曝光装置及 方法、组件制造方法 本申请是申请号为200780009923. 1(国际申请号为PCT/JP2007/067039、国际申 请日为2007年8月31日)、专利技术名称为移动体驱动系统及方法、图案形成装置及方法、曝 光装置及方法、组件制造方法的PCT专利技术专利申请的分案申请。
本专利技术,涉及一种移动体驱动系统及移动体驱动方法、图案形成装置及方法、组件 制造方法W及决定方法,更详细地说,涉及沿规定平面驱动移动体的移动体驱动系统及移 动体驱动方法、具备该移动体驱动系统的图案形成装置及利用该移动体驱动方法的图案形 成方法、具备该移动体驱动系统的曝光装置及利用该移动体驱动方法的曝光方法、利用该 图案形成方法的组件制造方法、W及决定用于测量移动体在规定方向的位置信息的编码器 系统测量值的修正信息的决定方法。
技术介绍
W主,在制造半导体组件、液晶表示组件等的微型组件(电子组件等)的光刻过程 中,较常使用步进重复方式的缩小投影曝光装置(所谓的步进器)、步进扫描方式的缩小投 影曝光装置(所谓的扫描步进器(也称为扫描仪))等。 此种曝光装置,为了将标线片(或掩膜)的图案转印于晶片上的多个照射区域,保 持晶片的晶片载台通过例如线性马达等在XY二维方向上被驱动。特别是扫描步进器,不仅 可驱动晶片载台,也可将标线片载台通过线性马达等在规定动程驱动于扫描方向。标线片 载台或晶片载台的测量,一般使用长期测量值的稳定性良好、具高分解能力的激光干涉仪。 然而,因半导体组件的高积体化所伴随的图案的 ...
【技术保护点】
一种透过投影光学系统以照明光将基板曝光的曝光方法,其特征在于包括:以通过从前述投影光学系统分离配置的标记检测系统检测前述基板的标记的方式,通过载置前述基板的载台将前述基板与前述标记检测系统对向配置的动作;以前述载台将前述基板与前述投影光学系统对向配置以使透过前述投影光学系统以前述照明光将基板曝光的动作;通过于前述载台设有栅格部与读头的一方且前述栅格部与前述读头的另一方设于前述载台的外部的编码器系统的与前述栅格部对向的复数前述读头来测量前述载台的位置信息的动作;基于用来补偿起因于关于与在与前述投影光学系统的光轴垂直的既定平面内互相正交的第1与第2方向的一方相异的方向的前述读头与前述栅格部的相对运动的前述编码器系统的测量误差的补正信息与前述已测量的位置信息来控制关于前述一方的方向的前述载台的驱动的动作;在前述标记的检测动作与前述基板的曝光动作分别以前述编码器系统测量前述载台的位置信息。
【技术特征摘要】
2006.08.31 JP 2006-2367831. 一种透过投影光学系统以照明光将基板曝光的曝光方法,其特征在于包括: 以通过从前述投影光学系统分离配置的标记检测系统检测前述基板的标记的方式,通 过载置前述基板的载台将前述基板与前述标记检测系统对向配置的动作; 以前述载台将前述基板与前述投影光学系统对向配置以使透过前述投影光学系统以 前述照明光将基板曝光的动作; 通过于前述载台设有栅格部与读头的一方且前述栅格部与前述读头的另一方设于前 述载台的外部的编码器系统的与前述栅格部对向的复数前述读头来测量前述载台的位置 信息的动作; 基于用来补偿起因于关于与在与前述投影光学系统的光轴垂直的既定平面内互相正 交的第1与第2方向的一方相异的方向的前述读头与前述栅格部的相对运动的前述编码器 系统的测量误差的补正信息与前述已测量的位置信息来控制关于前述一方的方向的前述 载台的驱动的动作; 在前述标记的检测动作与前述基板的曝光动作分别以前述编码器系统测量前述载台 的位置信息。2. 如权利要求1记载的曝光方法,其特征在于: 前述相异的方向包含与前述第1及第2方向正交的第3方向、绕与前述既定平面正交 的轴的旋转方向、绕与前述既定平面平行的轴的旋转方向的至少1个。3. 如权利要求1或2记载的曝光方法,其特征在于: 前述基板是以其表面与前述载台的上面大致同一面高的方式载置于前述载台。4. 如权利要求1?3中任一项记载的曝光方法,其特征在于: 前述载台是在其上面的凹部内以前述基板的表面与前述上面大致同一面高的方式保 持前述基板。5. 如权利要求1?4中任一项记载的曝光方法,其特征在于: 对前述栅格部照射测量光束,测量关于与前述第1及第2方向正交的第3方向的前述 载台的位置信息。6. 如权利要求1?5中任一项记载的曝光方法,其特征在于: 通过前述编码器系统来测量关于包含前述第1及第2方向、与前述第1及第2方向正 交的第3方向的6自由度方向的前述载台的位置信息。7. 如权利要求1?6中任一项记载的曝光方法,其特征在于: 通过设为包围前述投影光学系统的下端部的嘴单元,在前述投影光学系统下以前述液 体形成液浸区域,透过前述投影光学系统与前述液浸区域的液体以前述照明光曝光前述基 板, 前述栅格部与前述读头的另一方相对于前述投影光学系统设于前述嘴单元的外侧。8. 如权利要求1?7中任一项记载的曝光方法,其特征在于: 前述载台的移动中,将用于前述测量的前述复数读头的1个切换为其他读头,基于通 过前述切换前使用的前述复数读头测量的位置信息,决定为了以前述其他读头进行的测量 而使用的位置信息, 前述切换后,通过包含前述复数读头中除去前述1个读头的剩下的读头、前述其他读 头的复数读头来测量前述载台的位置信息。9. 如权利要求8记载的曝光方法,其特征在于: 前述切换前,通过与前述栅格部对向的3个前述读头测量前述载台的位置信息,前述 切换后,通过包含前述3个读头中除去前述1个读头的2个读头、与前述3个读头相异的前 述其他读头的3个读头来测量前述载台的位置信息, 为了以前述其他读头进行的测量而使用的位置信息是基于通过前述切换前使用的前 述3个读头测量的位置信息来决定。10. 如权利要求9记载的曝光方法,其特征在于: 为了以前述其他读头进行的测量而使用的位置信息是在包含前述切换前使用的前述3 个读头、前述其他读头的4个读头与前述栅格部对向的期间决定。11. 如权利要求10记载的曝光方法,其特征在于: 从前述1个读头往前述其他读头的切换是在前述4个读头与前述栅格部对向的期间进 行。12. 如权利要求8?11中任一项记载的曝光方法,其特征在于: 为了以前述其他读头进行的测量而使用的位置信息是以在前述切换的前后前述载台 的位置被维持或前述载台的位置信息连续的方式来决定。13. 如权利要求1?12中任一项记载的曝光方法,其特征在于: 前述编码器系统的3个或4个前述读头与前述栅格部对向,与前述栅格部对向的读头 是通过前述载台的移动而从前述3个读头、前述4个读头的一方变更为另一方。14. 如权利要求1?13中任一项记载的曝光方法,其特征在于: 前述栅格部具有分别形成反射型栅格的4个标尺构件, 通过与前述4个标尺构件的3个或4个分别对向配置的3个或4个前述读头测量前述 载台的位置信息。15. 如权利要求1?14中任一项记载的曝光方法,其特征在于: 前述载台设有前述读头,且于前述曝光动作中在前述栅格部的下方移动。16. -种透过投影光学系统以照明光将基板曝光的...
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