化学研磨装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种不使用夹具也能够对玻璃基板实施化学研磨处理的单片式化学研磨装置。化学研磨装置(10)具备多个搬送辊(50)以及处理室(16、18、20、22)，多个搬送辊(50)构成为在水平方向搬送玻璃基板，处理室(16、18、20、22)构成为对由多个搬送辊(50)搬送的玻璃基板进行化学研磨处理。处理室(16、18、20、22)至少具有处理槽(161)与回收槽(162)。处理槽(161)构成为在与由搬送辊(50)搬送的玻璃基板相比更高位置溢出化学研磨液。回收槽(162)构成为回收从处理槽(161)溢出的化学研磨液。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】化学研磨装置
本专利技术涉及一种化学研磨装置，其构成为对被连续搬送的多个玻璃基板进行化学研磨处理。
技术介绍
为了使玻璃基板薄型化，通常需要使用含有氢氟酸的化学研磨液对玻璃基板进行化学研磨处理。作为这种化学研磨处理，可以举出分批式化学研磨和单片式化学研磨，所述分批式化学研磨将待处理玻璃基板以规定时间浸渍于放入有化学研磨液的槽中，所述单片式化学研磨将待处理玻璃基板用搬送辊依次搬送且同时喷洒化学研磨液。在这些化学研磨的方式中，对于分批方式的研磨而言，其通过将待处理玻璃基板以规定时间浸渍于研磨液浴槽中，从而使玻璃基板薄板化至所期望的板厚，因此具有能够一次性处理大量玻璃基板这样的优点。然而，分批方式的研磨至少存在以下问题。首先，在分批方式的研磨中，由于研磨液浴槽是向上方开放的结构，因此存在研磨液浴槽的周围形成浓氢氟酸气氛这样的问题。特别是，在对研磨液浴槽的研磨液进行发泡处理的情况下，具有气体状的氢氟酸容易向周围扩散这样的问题。在这样的氢氟酸气氛中操作的操作人员，如果不身着适当的保护装备进行操作，则有可能损害健康。因此，发给操作人员的保护装备的成本变高。此外，在分批方式的研磨中，为了消除研磨液浴槽的周围的浓氢氟酸气氛，需要强有力的洗涤器等排气设备，从而增加设备成本。进而，由于氢氟酸气体而容易发生设备腐蚀，因此存在为实施适当防蚀处理而花费成本或者设备的更换频率变大而花费成本这样的问题。因此，近年来，有时使用单片方式的化学研磨处理。例如，在以往技术中，存在平板显示器玻璃基板蚀刻设备，该设备构成为：利用能够附着玻璃基板的夹具来纵向支承玻璃基板，并且在搬送该夹具的同时对玻璃基板喷射化学研磨液(例如，参照专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2008-266135号公报。
技术实现思路
专利技术所要解决的课题然而，专利文献1中所记载的技术依然不得不使用用于支承玻璃基板的夹具。因此，与上述分批式化学研磨装置同样，也存在准备夹具的费用高，而且容易在玻璃基板上产生夹具痕迹这样的问题。如果在玻璃基板上产生夹具痕迹，则会使进行高效的倒角设计变得极其困难，因此存在使倒角效率降低这样的问题。本专利技术鉴于上述课题而做出的，其提供不使用夹具也能够对玻璃基板实施化学研磨处理的单片式化学研磨装置。解决课题的手段本专利技术所述的化学研磨装置构成为对被连续搬送的多个玻璃基板进行化学研磨处理。该化学研磨装置至少具备：多个搬送辊，所述多个搬送辊构成为在水平方向搬送玻璃基板；一个或者多个处理室，所述一个或者多个处理室的构成为对由所述多个搬送辊搬送的玻璃基板进行化学研磨处理。处理室至少包含处理槽和回收槽。处理槽构成为在与由所述搬送辊搬送的玻璃基板相比更高位置溢出化学研磨液。回收槽构成为回收从所述处理槽溢出的化学研磨液。在该构成中，被搬送辊依次搬送的玻璃基板，通过在处理室中与溢出的化学研磨液接触，在室内进行依次的化学研磨处理。此时玻璃基板仅被搬送辊部分地支撑，且玻璃基板的特定部分没有一直与搬送辊接触，因而不产生如使用夹具时的夹具跡。对于处理室的个数而言，单个也可以实施本专利技术，但优选为多个。其理由为：在以单个处理室构成的情况下，处理室内的槽和配管等容易巨大化，其结果，溢出的控制及对于配管的热变形、应力变形的应对处理等变得困难。在设有多个处理室的情况下，优选地，在各处理室之间分别设有中继部，并且，中继部至少具有处理槽，所述处理槽构成为在与被搬送辊搬送的玻璃基板相比更高位置溢出化学研磨液。其理由为通过在中继部也使玻璃基板与化学研磨液接触，可防止玻璃基板在从处理室向下个处理室搬送期间其表面变干，发生化学研磨不均等问题。另外，优选地，处理室的前段进一步具有预处理槽，所述预处理槽构成为使向所述处理室导入前的玻璃基板的表面湿润。其理由为，玻璃基板在干燥状态与从化学研磨液产生的气体(如氟化氢气体)接触，易于发生玻璃基板上白浊化等问题，但通过用水分等使玻璃基板的表面湿润，从而变得难以发生这样的问题。另外，优选地，多个搬送辊构成为在处理室中利用1对搬送辊从上下夹着并支撑玻璃基板。利用这样的构成，即使在被浸入溢出的化学研磨液的状态下，也使玻璃基板的位置稳定化。进一步而言，优选地，多个搬送辊构成为，在处理室中，隔着O型圈与玻璃基板接触。通过这样的构成，搬送辊与玻璃基板的接触面积变得更小，因此更难以发生化学研磨不均等问题。专利技术效果如果利用上述本专利技术，则不使用夹具也能够对玻璃基板实施化学研磨处理。附图说明图1是表示本专利技术的实施方式所述的单片式化学研磨装置的外观图。图2是表示单片式化学研磨装置的概略构成图。图3是表示第1处理室的概略构成图。图4是表示中继部的概略构成图。图5是表示对被搬送的玻璃基板进行化学研磨处理的状态图。图6是表示在预处理室进行预处理的状态图。图7是表示单片式化学研磨装置的概略构成的其他例的图。图8是表示单片式化学研磨装置概略构成的进一步的其他例的图。具体实施方式图1是表示根据本专利技术的实施方式的一例的单片式化学研磨装置10外观图。如图1所示，化学研磨装置10具备，搬入部12、预处理室14、第1处理室16、第2处理室18、第3处理室20、第4处理室22、第1中继部28、第2中继部30、第3中继部32、水洗室24、和搬出部26。各室和各中继部具有耐酸性，且设有由透明构件构成的窗40。搬入部12构成为能够接收通过由操作人员进行的手动操作或者由机器人等进行的自动操作而搬入的待薄型化处理的玻璃基板100。预处理室14，构成为接收从搬入部12搬送的玻璃基板100。第1处理室16构成为通过使玻璃基板100与化学研磨液接触以蚀刻(该实施方式为薄型化)玻璃基板100。第2处理室18、第3处理室20和第4处理室22构成为，分别具有与第1处理室16实质上相同的结构，且通过使与第1处理室16相同组成的化学研磨液与玻璃基板100接触以蚀刻玻璃基板100。第1中继部28、第2中继部30以及第3中继部32分别构成为将多个处理室连结。水洗室24构成为对经由第4处理室22的玻璃基板100进行水洗。搬出部26构成为能够取出经化学研磨处理以及水洗处理的玻璃基板100。到达搬出部26的玻璃基板100通过由操人作员进行的手动操作或者由机器人等进行的自动操作从化学研磨装置10中被取出并回收。然后，在玻璃基板100需要进一步的薄型化的情况下，将其再次导入化学研磨装置10中，而在不需要进一步薄型化的情况下，将其移送至成膜工序等后续工序中。各室和各中继部直接或间接地被连接至排气部34。排气部34被构成为：具备排气管和洗涤器等，以排出化学研磨装置10内部的气体。在上述化学研磨装置10中，除了向预处理室14的导入口和自水洗室24的导出口，预处理室14、第1处理室16、第2处理室18、第3处理室20、第4处理室22、第1中继部28、第2中继部30、第3中继部32和水洗室24作为整体被气密性且水密性地封闭。导入口和导出口呈现比玻璃基板100的板厚略高，比玻璃基板100的宽度略宽的狭缝形状。另外，预处理室14、第1处理室16、第2处理室18，第3处理室20、第4处理室22以及水洗室24连通至排气部34，各室的内部气体被吸引至排气部34，因此形成于化学研磨装置10的开口被维持在负压状态，不会通过这些开口漏出处理气体。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种化学研磨装置，其构成为对被连续搬送的多个玻璃基板进行化学研磨处理，其特征在于，至少具备：多个搬送辊，所述多个搬送辊构成为在水平方向搬送玻璃基板，一个或者多个处理室，所述一个或者多个处理室构成为对由所述多个搬送辊搬送的玻璃基板进行化学研磨处理，所述处理室至少具有：处理槽，所述处理槽构成为在与由所述搬送辊搬送的玻璃基板相比更高位置溢出化学研磨液，回收槽，所述回收槽构成为回收从所述处理槽溢出的化学研磨液。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.06.06 JP 2012-1285161.一种化学研磨装置，其构成为对被连续搬送的多个玻璃基板进行化学研磨处理，其特征在于，至少具备：多个搬送辊，所述多个搬送辊构成为在水平方向搬送玻璃基板，一个或者多个处理室，所述一个或者多个处理室构成为对由所述多个搬送辊搬送的玻璃基板进行化学研磨处理，所述处理室至少具有：处理槽，所述处理槽构成为在与由所述搬送辊搬送的玻璃基板相比更高位置溢出化学研磨液，并且用溢出的化学研磨液浸渍玻璃基板，回收槽，所述回收槽构成为回收从所述处理槽溢出的化学研磨液，...

【专利技术属性】
技术研发人员：西山荣，
申请(专利权)人：株式会社NSC，
类型：发明
国别省市：日本;JP