表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件制造技术

本发明专利技术提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也能够使用且对被粘附体的污染少、对被粘附体的低污染性也不会经时劣化且具有优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用了该表面保护膜的光学部件。在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)，并在粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)的表面保护膜(10)中，剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠剥离剂层(4)而成，所述剥离剂层(4)含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂以及与该剥离剂不发生反应的抗静电剂，通过所述抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，能减少从被粘附体剥下前述粘结剂层(2)时的剥离静电压。

【技术实现步骤摘要】
表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件
本专利技术涉及一种贴合于偏光板、相位差板、显示器用透镜膜等光学部件(下面，有时也称“光学用膜”)的表面的表面保护膜。更详细而言，本专利技术提供一种对被粘附体的污染少的表面保护膜、进而具有无经时劣化的优良的抗剥离静电性能的表面保护膜、以及贴合有该表面保护膜的光学部件。
技术介绍
目前，当制造、搬运偏光板、相位差板、显示器用透镜膜、防反射膜、硬涂膜、触摸面板用透明导电膜等的光学用膜、以及使用了它们的显示器等光学产品时，通过在该光学用膜的表面贴合表面保护膜而防止后续工序中的表面污染、刮伤。为了节省对表面保护膜进行剥离后再进行贴合的劳力和时间从而提高作业效率，对作为产品的光学用膜的外观检查而言，有时也在光学用膜上贴合着表面保护膜的状态下直接实施。从以往以来，在光学产品的制造工序中，为了防止伤痕、污垢的附着，通常使用在基材膜的单面设置了粘结剂层的表面保护膜。表面保护膜是通过微粘结力的粘结剂层被贴合于光学用膜上。将粘结剂层设定为微粘结力的原因在于，为了将使用完毕的表面保护膜从光学用膜表面剥离而去除时能够容易地进行剥离，并且为了防止粘结剂附着并残留在作为被粘附体的产品的光学用膜上的现象(所谓的防止粘结剂残留的发生)。近年来，在液晶显示面板的生产工序中，由于将贴合于光学用膜上的表面保护膜剥离而去除时产生的剥离静电压，会破坏用于控制液晶显示器的显示画面的驱动IC等电路部件，还有液晶分子的取向会损伤，虽然这些现象发生的件数少但也在发生。另外，为了减少液晶显示面板的电耗，液晶材料的驱动电压趋于降低，随之驱动IC的击穿电压也趋于降低。最近，要求将剥离静电压控制在+0.7kV～－0.7kV的范围内。另外，近年来，伴随着3D显示器(立体视觉显示器)的普及，有在偏光板等光学用膜的表面贴合FPR(图案相位差膜，FilmPatternedRetarder)膜的情况。剥离在偏光板等光学用膜的表面所贴合的表面保护膜后，再贴合FPR膜。但是，当偏光板等的光学用膜表面被表面保护膜中使用的粘结剂、抗静电剂所污染时，存在难以粘贴FPR膜的问题。因此，对该用途上使用的表面保护膜而言，要求其对被粘附体的污染少。另一方面，在一些液晶面板制造厂商中，作为表面保护膜对被粘附体的污染性的评价方法，是采用如下方法：先对偏光板等的光学用膜上贴合的表面保护膜进行剥离，在混入了气泡的状态下进行再贴合，对再贴合后的物件在规定条件下进行加热处理，然后剥离表面保护膜并观察被粘附体的表面。在这种评价方法中，即使被粘附体的表面污染是微量的，但若在混入气泡的部分与表面保护膜的粘结剂相接触的部分之间存在被粘附体表面污染的差异，则会作为气泡痕迹(有时也称作“气泡污痕”)残留。因此，作为对被粘附体表面的污染性的评价方法，会是非常严格的评价方法。近年来，根据以这种严格的评价方法进行判定的结果，也需要对被粘附体的表面污染性方面没有问题的表面保护膜。为了防止从作为被粘附体的光学用膜上剥离表面保护膜时因剥离静电压高所引起的缺陷，有人提出了一种表面保护膜，其使用了含有用于降低剥离静电压的抗静电剂的粘结剂层。例如，在专利文献1中，公开了一种使用由烷基三甲基铵盐、含羟基的丙烯酸类聚合物、聚异氰酸酯组成的粘结剂的表面保护膜。另外，在专利文献2中，公开了一种由离子性液体和酸值为1.0以下的丙烯酸聚合物组成的粘结剂组合物、以及使用了该组合物的粘结片类。另外，在专利文献3中，公开了一种由丙烯酸聚合物、聚醚多元醇化合物、通过阴离子吸附性化合物处理过的碱金属盐组成的粘结剂组合物、以及使用了该组合物的表面保护膜。另外，在专利文献4中，公开了一种由离子性液体、碱金属盐、玻璃化转变温度为0℃以下的聚合物组成的粘结剂组合物、以及使用了该组合物的表面保护膜。上述专利文献1～4中，是在粘结剂层内部添加有抗静电剂。但是，粘结剂层的厚度越厚，并且随着贴合于被粘附体上后的时间推移，抗静电剂从粘结剂层向表面保护膜所贴合的被粘附体移动的量会越多。当抗静电剂向被粘附体移动的量增多时，作为被粘附体的光学用膜的外观品质降低；或者，在贴合FPR膜时，存在FPR膜的粘接性降低的可能性。为了减少此时从粘结剂层移向被粘附体的抗静电剂的经时变化，若降低粘结剂层的厚度，则会产生其它问题。例如，当用于为了防止晃眼而施加防眩光处理后的偏光板等表面有凹凸的光学用膜时，粘结剂层无法迎合光学用膜表面的凹凸而混入气泡，或者，由于光学用膜与粘结剂的粘接面积减少而降低粘结力，在使用中会存在表面保护膜发生分离或剥落的问题。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2005-131957号公报专利文献2：日本特开2005-330464号公报专利文献3：日本特开2005-314476号公报专利文献4：日本特开2006-152235号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题因此，需要一种在光学用膜中使用的表面保护膜，其对表面上有凹凸的光学用膜也能够使用，对被粘附体的污染非常少、且对被粘附体的污染性没有经时变化(不随着时间推移发生变化)，并且，还能够较低地抑制从被粘附体剥离表面保护膜时的剥离静电压的表面保护膜。本专利技术人等对该课题进行了精心研究。为了减少对被粘附体的污染并且也减少污染性的经时变化，需要降低被推测对被粘附体造成污染的抗静电剂成分的量。但是，当降低抗静电剂成分的量时，会导致从被粘附体上剥离表面保护膜时的剥离静电压变高。于是，本专利技术人等研究了在不增加抗静电剂成分的绝对量的情况下较低地抑制从被粘附体上剥离表面保护膜时的剥离静电压的方法。其结果发现，不在粘结剂组合物中添加抗静电剂并进行混合而形成粘结剂层，而是涂布粘结剂组合物并进行干燥而层叠粘结剂层后，通过对粘结剂层表面赋予适量的抗静电成分，能够较低地抑制从作为被粘附体的光学用膜上剥离表面保护膜时的剥离静电压，并基于上述发现完成了本专利技术。本专利技术就是鉴于上述情况而完成的，其课题在于，提供一种对表面上有凹凸的光学用膜也能够使用且对被粘附体的污染少，并且对被粘附体的低污染性不会因时间推移而发生变化的表面保护膜，进而具有无经时劣化(随着时间推移不发生劣化)的优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用了该表面保护膜的光学部件。解决课题的方法为了解决上述课题，本专利技术的表面保护膜的技术思想在于，在涂布粘结剂组合物并进行干燥而层叠粘结剂层后，对该粘结剂层的表面赋予适量的抗静电剂，由此，能够较低地抑制对被粘附体的污染性，而且能够较低地抑制从作为被粘附体的光学用膜上剥离时的剥离静电压。为了解决上述课题，本专利技术提供一种表面保护膜，其是在由具有透明性的树脂构成的基材膜的单面上形成有粘结剂层、并在该粘结剂层上贴合了具有剥离剂层的剥离膜的表面保护膜，其中，该剥离膜是在树脂膜的单面上层叠剥离剂层而成，该剥离剂层含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂以及与该剥离剂不发生反应的抗静电剂，前述抗静电剂成分从前述剥离膜向前述粘结剂层的表面转移，从而能够减少从被粘附体剥下前述粘结剂层时的剥离静电压。另外，优选前述抗静电剂是熔点为30～80℃的离子性化合物。另外，优选前述粘结剂层是使(甲基)丙烯酸酯共聚物交联而成。另外，优选从前述粘结剂层剥离前述剥离膜时的剥离力为0.2N/50mm以下。另外，本专利技术提供一种光学部件，其贴合本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种表面保护膜，在由具有透明性的树脂构成的基材膜的单面形成有粘结剂层，并在所述粘结剂层上贴合了具有剥离剂层的剥离膜，其中，所述剥离膜是在树脂膜的单面上层叠剥离剂层而成，所述剥离剂层含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂以及与该剥离剂不发生反应的抗静电剂，所述抗静电剂成分从所述剥离膜向所述粘结剂层的表面转移，从而减少从被粘附体剥下所述粘结剂层时的剥离静电压。

【技术特征摘要】
2013.08.13 JP 2013-1681101.一种表面保护膜，在由具有透明性的树脂构成的基材膜的单面形成有粘结剂层，并在所述粘结剂层上贴合了具有剥离剂层的剥离膜，其中，所述剥离膜是在树脂膜的单面上层叠剥离剂层而成，所述剥离剂层由以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂以及与该剥离剂不发生反应的抗静电剂的混合物形成，所述抗静电剂成分从所述剥离膜向所述粘结剂层的表面转移，从而将从作为被粘附体的光学用膜剥下所述粘结剂层时的表面电位减少为+0.7...

【专利技术属性】
技术研发人员：小林弘幸，春日充，远藤佳子，林益史，
申请(专利权)人：藤森工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP