低辐射透明层叠体及包含其的建筑材料制造技术

本发明专利技术提供一种低辐射透明层叠体及适用该低辐射透明层叠体的建筑材料，上述低辐射透明层叠体包括基材及涂敷层，上述涂敷层是从上述基材起依次包括低辐射导电层、电介质层及吸光金属层的多层结构。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种低辐射透明层叠体及包含该低辐射透明层叠体的建筑材料。
技术介绍
低辐射玻璃(Low-Emissivity glass)是包含如银(Ag)一样在红外线范围中的反射率高的金属的低辐射层蒸镀成薄膜的玻璃。如上所述的低辐射玻璃在夏天反射太阳辐射热，并在冬天保存室内供暖器中所产生的红外线，以此用作带来建筑物的节能效果的功能性原材料。一般，使用于低辐射层的银(Ag)暴露于空气中的情况下进行氧化，在上述低辐射层的上部及上述低辐射层的下部将电介质层蒸镀成抗氧化膜。如上所述的电介质层还起到增加可见光透射率的作用。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题本专利技术的一实例提供一种不仅确保绝热性能，而且提高耐热性，由此可执行热处理加工的(temperable)的低辐射透明层叠体。本专利技术的再一实例提供一种包括上述低辐射透明层叠体的建筑材料。技术方案本专利技术的一实例中提供一种包括基材及涂敷层的低辐射透明层叠体。上述涂敷层是从上述基材起依次包括低辐射层、低辐射保护金属层、硅氮化物层及电介质层的多层结构形成。上述低辐射的辐射率可以为约0.01至约0.3。上述低辐射层可包含选自主要由银(Ag)、金(Au)、铜(Cu)、铝(Al)、铂(Pt)、离子掺杂金属氧化物及它们的组合组成的组中的至少一种。上述低辐射层的厚度可以为约10nm至约25nm。上述低辐射保护金属层的可见光范围的消光系数可以为约1.5至约3.5。上述吸光金属层可包含选自主要由镍(Ni)、铬(Cr)、镍(Ni)与铬(Cr)的合金、钛(Ti)及它们的组合组成的组中的至少一种。上述低辐射保护金属层的厚度可以为约1nm至约5nm。上述硅氮化物层可包含：SiNx(其中，1≤x≤1.5)；或者(Si1-yMy)Nz(其中，M是选自包含铝(Al)、钛(Ti)、钴(Co)及它们的组合的组中的一种，0.01≤y≤0.2，1≤z≤1.5)。上述硅氮化物层的厚度可以为约5nm至约20nm。上述电介质层可包含选自主要由金属氧化物、金属氮化物及它们的组合组成的组中的至少一种组分，或者在上述至少一种组分可掺杂选自包含铋(Bi)、硼(B)、铝(Al)、硅(Si)、镁(Mg)、锑(Sb)、铍(Be)及它们的组合的组中的至少一种元素。上述电介质层可包含选自主要由钛氧化物、锡锌氧化物、锌氧化物、锌铝氧化物、锡氧化物、铋氧化物、硅氮化物(Silicon nitride)、硅铝氮化物(Silicon aluminium nitride)及它们的组合组成的组中的至少一种。上述电介质层的厚度可以为约5nm至约60nm。上述基材可以是具有约90％至约100％的可见光透射率的透明基材。上述基材可以是玻璃或透明塑料基板。上述涂敷层是在上述低辐射层的双面依次层压低辐射保护金属层及电介质层的对称的结构，上述硅氮化物层可介于上述低辐射保护金属层及上述电介质层的至少一个层之间。上述涂敷层在最外廓的双面还可包括至少一个硅氮化物层。本专利技术的再一实例中，提供一种包括上述低辐射透明层叠体的建筑材料。有益效果上述低辐射透明层叠体不仅确保绝热性能，而且提高耐热性，从而能够执行热处理加工。附图说明图1是简要表示本专利技术的一实例的低辐射透明层叠体剖视图。图2是简要表示本专利技术的再一实例的低辐射透明层叠体的剖视图。具体实施方式下面，参照附图对本专利技术的实施例进行详细说明，以使本专利技术所属
的普通技术人员能够容易实施。本专利技术能够以多种不同的形态来体现，并不局限于在此所说明的实施例。本专利技术中省略了与说明无关的部分，以明确说明本专利技术，在说明书全文中，相同的附图标记表示相同的结构部件。附图中扩大了厚度，以明确地表现出多个层及范围。并且，附图中放大表示一部分层及范围的厚度，以便于说明。下面，在基材的“上部(或下部)”或者基材的“上(或下)”形成任一的结构，这将表示任一的结构为与上述基材的上表面(或下表面)相接而形成，并且，不局限于在形成于上述基材和基材上(或下)的任一的结构之间不包括其他结构。下面，参照图1对本专利技术的一实例的低辐射透明层叠体进行说明。图1是本专利技术一实例的包括基材110及涂敷层190的低辐射透明层叠体100的剖视图。上述涂敷层190是从上述基材110起依次包括低辐射层120、低辐射保护金属层130、硅氮化物层140及电介质层150的多层结构。上述低辐射透明层叠体100包括上述硅氮化物层140，从而赋予耐久性、耐化学性及耐热性等，可利用需要耐热性的热处理(temperable)来进行加工，并且，在上述硅氮化物层140的上部包括电介质层150，来减少对硅氮化物层140进行长时间工序时容易产生的污染问题，从而能够防止因这种污染而产生的问题，并且，能够扩大可设计低辐射(Low-e，low Emissivity)玻璃的光学性能的范围。上述涂敷层190作为基于在太阳光中选择性地反射远红外线的低辐射层120的多层薄膜结构，通过降低辐射率来向上述低辐射透明层叠体100赋予基于低辐射效果的绝热性能。上述低辐射透明层叠体100形成如上所述的结构，在夏天反射太阳辐射热，并在冬天保存室内供暖器中所产生的红外线，以此用作带来建筑物的节能效果的功能性原材料。“辐射率(Emissivity)”是指物体吸收、透射及反射具有任一特定波长的能量的比率。即，本说明书中，辐射率是指在红外线波长范围的红外线能量的吸收程度，具体地，在施加相当于呈现较强的热作用的约5μm至约50μm的波长范围的远红外线时，相对于所施加的红外线能量而所吸收的红外线能量的比率。根据基尔霍夫的规律，被物质所吸收的红外线能量与再次辐射而释放的能量相同，因而，吸收率与辐射率相同。并且，由于未吸收的红外线能量在物质的表面反射，因而，红外线能量反射越高则辐射率的值越低。如果将其以数值形态表示，则具有(辐射率＝1-红外线反射率)的关系。如上所述的辐射率可通过在该领域中通常公知的多种方法来测定而得，并不受特别的限制，例如，根据KSL2514标准，可利用傅立叶变换红外光谱仪(FT-IR)等的设备进行测定。对于呈现如上所述的较强的热作用的远红外线的吸收率即辐射率，在测定绝热性能的程度的方面，具有非常重要的意义。上述低辐射透明层叠体100在如玻璃等的透明的基材110上形成如上所述的涂敷层190，以此能够用作节能型功能性建筑材料，该节能型功能性建筑材料在可见光范围中维持规定的透射特性，并降低辐射率，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种低辐射透明层叠体，其特征在于，包括基材及涂敷层；所述涂敷层是从所述基材起的依次包括低辐射层、低辐射保护金属层、硅氮化物层及电介质层的多层结构。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.06.19 KR 10-2012-00655451.一种低辐射透明层叠体，其特征在于，
包括基材及涂敷层；
所述涂敷层是从所述基材起的依次包括低辐射层、低辐射保护金属层、硅
氮化物层及电介质层的多层结构。
2.根据权利要求1所述的低辐射透明层叠体，其特征在于，所述低辐射层
的辐射率为0.01至0.3。
3.根据权利要求1所述的低辐射透明层叠体，其特征在于，所述低辐射层
包含选自银、金、铜、铝、铂、离子掺杂金属氧化物及它们的组合中的至少一
种。
4.根据权利要求1所述的低辐射透明层叠体，其特征在于，所述低辐射层
的厚度为10nm至25nm。
5.根据权利要求1所述的低辐射透明层叠体，其特征在于，所述低辐射保
护金属层的可见光范围的消光系数为1.5至3.5。
6.根据权利要求1所述的低辐射透明层叠体，其特征在于，所述吸光金属
层包含选自镍、铬、镍与铬的合金、钛及它们的组合中的至少一种。
7.根据权利要求1所述的低辐射敷膜，其特征在于，所述低辐射保护金属
层的厚度为1nm至5nm。
8.根据权利要求1所述的低辐射透明层叠体，其特征在于，所述硅氮化物
层包含SiNx(其中，1≤x≤1.5)或者(Si1-yMy)Nz(其中，M是选自铝、钛、
钴及它们的组合中的一种，0.01≤y≤0.2，1≤z≤1.5)。
9.根据权利要求1所述的低辐射透明层叠体，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：金雄吉，田允淇，权大勋，
申请(专利权)人：乐金华奥斯有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR