粘合片以及光学构件制造技术

本发明专利技术涉及粘合片以及光学构件。本发明专利技术提供具有不产生经时的翘起或剥离的适度的粘合力，再剥离性以及作业性优良，并且具有耐白化性等优良的罩面涂层的粘合片(表面保护薄膜)。本发明专利技术的粘合片在支撑薄膜的单面具有由粘合剂组合物形成的粘合剂层，所述支撑薄膜在与具有所述粘合剂层的面相反侧的面上具有罩面涂层，其特征在于，所述罩面涂层含有作为润滑剂的蜡以及作为粘结剂的聚酯树脂，在所述罩面涂层的表面上，将セロテープ(注册商标)在23℃粘贴30分钟后的剥离速度0.3m/分钟下的背面粘合力(A)为4.0N/24mm以上，将所述粘合剂层的粘合面在TAC面上在23℃粘贴30分钟后的剥离速度0.3m/分钟下的对起偏振板粘合力(B)为0.1N/25mm以下，将所述粘合剂层的胶粘面积200mm2贴合到TAC起偏振板上并在23℃下施加剪切负荷500g的蠕变试验的30分钟后的偏移量为2.5mm以下。

【技术实现步骤摘要】
粘合片以及光学构件
本专利技术涉及粘合片以及光学构件。 本专利技术的粘合片作为以保护用于液晶显示器等的起偏振板、波长板、相位差板、光 学补偿薄膜、反射片、增亮薄膜等光学构件表面为目的而使用的表面保护薄膜是有用的。
技术介绍
近年来，在光学部件、电子部件的输送或往印刷基板上安装时，通过将各个部件用 规定的片材包装的状态或者粘贴有粘合带的状态进行转移。其中，在光学、电子部件的领域 中，特别广泛地使用表面保护薄膜。 表面保护薄膜一般通过涂布到支撑薄膜侧的粘合剂贴合到被保护物上，为了防止 被保护物的加工、运送时产生的划痕或污渍的目的而使用（专利文献1)。例如，液晶显示器 的面板通过利用粘合剂将起偏振板、波长板等光学构件贴合到液晶单元上而形成。这些光 学构件上利用粘合剂贴合有表面保护薄膜，防止被保护物的加工、运送时产生的划痕或污 渍。 并且，该表面保护薄膜在不需要的阶段被剥离除去，但是伴随液晶显示板的大型 化和薄层化，在剥离工序中容易产生对起偏振板或液晶单元的损伤，因此要求具有低速剥 离时不产生翘起等的适度的粘合力。 另外，表面保护薄膜在粘贴到被粘物（例如起偏振板）上的状态下进行外观检查 时，要求不容易产生擦伤的性能。这是因为：表面保护薄膜上存在擦伤时，产生无法判断该 擦伤是被粘物的擦伤或者是表面保护薄膜自身的擦伤的问题。 作为使表面保护薄膜的背面不容易产生擦伤的方法之一，可以列举在前述背面设 置硬质的表面层（罩面涂层）的方法。罩面涂层典型地通过在基材的背面涂布涂层材料并 干燥、固化而形成。并且，罩面涂层具有适度的润滑性可以实现更高的耐擦伤性（耐刮擦 性）。 作为用于赋予所述罩面涂层润滑性的添加剂（润滑剂），通常使用聚硅氧烷类润 滑剂或含氟型润滑剂等。 但是，使用聚硅氧烷类润滑剂等的罩面涂层的情况下，暴露于高温高湿条件下时， 产生外观发白的所谓的白化现象，所述外观检查时的可视性降低。 现有技术文献 专利文献 专利文献1 :日本特开平9-165460号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题 因此，本专利技术的目的在于为了解决现有的粘合片中的问题，提供具有不产生经时 的翘起或剥离的适度的粘合力，再剥离性以及作业性优良，并且具有耐白化性等优良的罩 面涂层的粘合片（表面保护薄膜）。 用于解决问题的手段 即，本专利技术的粘合片在支撑薄膜的单面具有由粘合剂组合物形成的粘合剂层，所 述支撑薄膜在与具有所述粘合剂层的面相反侧的面上具有罩面涂层，其特征在于，所述罩 面涂层含有作为润滑剂的蜡以及作为粘结剂的聚酯树脂，在所述罩面涂层的表面上，将★ σT-y(注册商标）在23°C粘贴30分钟后的剥离速度0· 3m/分钟下的背面粘合力（A) 为4. 0N/24mm以上，将所述粘合剂层的粘合面在TAC面上在23°C粘贴30分钟后的剥离速 度0. 3m/分钟下的对起偏振板粘合力⑶为0.lN/25mm以下，将所述粘合剂层的胶粘面积 200mm2贴合到TAC起偏振板上并在23°C下施加剪切负荷500g的蠕变试验的30分钟后的 偏移量为2. 5mm以下。 本专利技术的粘合片中，优选所述粘合剂组合物含有（甲基）丙烯酸类聚合物。 本专利技术的粘合片中，优选相对于构成所述（甲基）丙烯酸类聚合物的单体成分总 量，含有15重量％以下的含羟基（甲基）丙烯酸类单体。 本专利技术的粘合片中，优选相对于构成所述（甲基）丙烯酸类聚合物的单体成分总 量，含有50重量％以上的具有碳原子数为1?14的烷基的（甲基）丙烯酸类单体。 本专利技术的粘合片中，优选所述粘合剂组合物含有具有羟基以及羧基的（甲基）丙 烯酸类聚合物。 本专利技术的粘合片中，优选所述粘合剂组合物含有具有氧亚烷基链的有机聚硅氧 烧。 本专利技术的粘合片中，优选所述粘合剂组合物含有离子性化合物。 本专利技术的粘合片中，优选所述粘合剂组合物含有交联剂。 本专利技术的粘合片中，优选所述蜡为高级脂肪酸与高级醇的酯。 本专利技术的粘合片中，优选所述罩面涂层含有防静电成分。 本专利技术的光学构件，其优选由前述的粘合片保护。 【附图说明】 图1是表示背面粘合力（A)的测定方法的说明图。 图2是表示一个实施方式的粘合片的剥离方法的说明图。 图3是实施例等中用于剥离静电电压测定的电位测定部的概略构成图。 附图标记 1 粘合片（表面保护薄膜） IA罩面涂层的表面 2 起偏振板 3 丙烯酸类树脂板 4 固定台 5 电位测定器 12 支撑薄膜 14 罩面涂层 20 粘合剂层 20A粘合面 50 平面起偏振板 60 单面粘合带 62 粘合剂层（粘合面） 64 基材 130 双面粘合带 132 不锈钢板 160 单面粘合带 162 丙烯酸类粘合剂（粘合剂层） 162A粘合面 164 聚酯薄膜（支撑薄膜） 【具体实施方式】 以下，对本专利技术的实施方式进行详细说明。 〈粘合剂组合物〉 本专利技术的粘合片为在支撑薄膜的单面具有由粘合剂组合物形成的粘合剂层，所述 支撑薄膜在与具有所述粘合剂层的面相反侧的面上具有罩面涂层的粘合片，作为所述粘合 剂组合物，只要是具有粘合性的组合物则可以没有特别限制地使用，可以使用例如丙烯酸 类、合成橡胶类、天然橡胶类、聚硅氧烷类等任意一种粘合剂，可以没有特别限制地使用，使 用丙烯酸类粘合剂为更优选的方式。 本专利技术的粘合片中，优选所述粘合剂组合物含有（甲基）丙烯酸类聚合物。作为 所述粘合片使用使用前述（甲基）丙烯酸类聚合物的丙烯酸类粘合剂（粘合剂组合物）的 理由可以列举：容易调节粘合特性、以及透明性、耐热性等。 另外，本专利技术的粘合片中，优选构成前述（甲基）丙烯酸类聚合物的全部单体成分 中含有含羟基（甲基）丙烯酸类单体。通过使用所述具有羟基的（甲基）丙烯酸类聚合物， 容易控制粘合剂组合物的交联等，进而容易控制由流动引起的润湿性的改善与剥离中胶粘 力的下降的平衡。另外，与一般能够作为交联部位起作用的磺酸酯基等不同，羟基与作为防 静电剂的离子性化合物以及具有氧亚烷基链的有机聚硅氧烷具有适度的相互作用，因此在 防静电性的方面也可以优选使用。 作为所述含羟基（甲基）丙烯酸类单体，相对于构成所述（甲基）丙烯酸类聚合 物的单体成分总量，优选含有15重量％以下，更优选1?13重量％，进一步优选2?11重 量％，最优选3. 5?10重量％。在所述范围内时，容易控制粘合剂组合物的润湿性与凝聚 力的平衡，因此优选。另外，特别是在提高蠕变特性的情况下，优选含有11?15重量％。 作为所述含羟基（甲基）丙烯酸类单体，可以列举例如：（甲基）丙烯酸2-羟基 乙酯、（甲基）丙烯酸2-羟基丙酯、（甲基）丙烯酸4-羟基丁酯、（甲基）丙烯酸6-羟基 己酯、（甲基）丙烯酸8-羟基辛酯、（甲基）丙烯酸10-羟基癸酯、（甲基）丙烯酸12-羟 基月桂酯、丙烯酸（4-羟甲基环己基）甲酯、N-羟甲基（甲基）丙烯酰胺、乙烯醇、烯丙醇、 2-羟基乙基乙烯基醚、4-羟基丁基乙烯基醚、二乙二醇单乙烯基醚等。所述含羟基（甲基） 丙烯酸类单体可以使用一种或两种以上作为主要成分。特别是通过使用本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种粘合片，在支撑薄膜的单面具有由粘合剂组合物形成的粘合剂层，所述支撑薄膜在与具有所述粘合剂层的面相反侧的面上具有罩面涂层，其特征在于，所述罩面涂层含有作为润滑剂的蜡以及作为粘结剂的聚酯树脂，在所述罩面涂层的表面上，将セロテープ(注册商标)在23℃粘贴30分钟后的剥离速度0.3m/分钟下的背面粘合力(A)为4.0N/24mm以上，将所述粘合剂层的粘合面在TAC面上在23℃粘贴30分钟后的剥离速度0.3m/分钟下的对起偏振板粘合力(B)为0.1N/25mm以下，将所述粘合剂层的胶粘面积200mm2贴合到TAC起偏振板上并在23℃下施加剪切负荷500g的蠕变试验的30分钟后的偏移量为2.5mm以下。

【技术特征摘要】
2013.07.31 JP 2013-1597841. 一种粘合片，在支撑薄膜的单面具有由粘合剂组合物形成的粘合剂层，所述支撑薄 膜在与具有所述粘合剂层的面相反侧的面上具有罩面涂层，其特征在于， 所述罩面涂层含有作为润滑剂的蜡以及作为粘结剂的聚酯树脂， 在所述罩面涂层的表面上，将★ D于一7 (注册商标）在23°C粘贴30分钟后的剥离速 度0? 3m/分钟下的背面粘合力（A)为4. 0N/24mm以上， 将所述粘合剂层的粘合面在TAC面上在23°C粘贴30分钟后的剥离速度0. 3m/分钟下 的对起偏振板粘合力（B)为0? lN/25mm以下， 将所述粘合剂层的胶粘面积200mm2贴合到TAC起偏振板上并在23°C下施加剪切负荷 500g的蠕变试验的30分钟后的偏移量为2. 5mm以下。2. 如权利要求1所述的粘合片，其特征在于，所述粘合剂组合物含有（甲基）丙烯酸类 聚合物。3. 如权利要求2所述的粘合片，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：片冈贤一，天野立巳，新美健二郎，春田裕宗，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP