一种可变焦毫米波反射面天线制造技术

技术编号:11029796 阅读:242 留言:0更新日期:2015-02-11 16:27
本实用新型专利技术公开了一种可变焦毫米波反射面天线,包括底座支架,所述底座支架一端设置有主反射面,支架另一端设置有副反射面,主反射面一端的支架上设置有馈源,馈源馈出的电磁波经副反射面反射到主反射面;所述副反射面内部中空,副反射面的背部设置有压力接口,压力接口通过压力管线与压力控制设备连接在一起;本实用新型专利技术通过控制副反射面内的压强使得副反射面发生形变,不同的压强导致形变不同,因此实现反射面聚焦焦点位置的可变,与传统的固定聚焦反射面天线相比本实用新型专利技术更能适用于多种不同的使用环境。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术公开了一种可变焦毫米波反射面天线,包括底座支架,所述底座支架一端设置有主反射面,支架另一端设置有副反射面,主反射面一端的支架上设置有馈源,馈源馈出的电磁波经副反射面反射到主反射面;所述副反射面内部中空,副反射面的背部设置有压力接口,压力接口通过压力管线与压力控制设备连接在一起;本技术通过控制副反射面内的压强使得副反射面发生形变,不同的压强导致形变不同,因此实现反射面聚焦焦点位置的可变,与传统的固定聚焦反射面天线相比本技术更能适用于多种不同的使用环境。【专利说明】一种可变焦毫米波反射面天线
本技术涉及毫米波发射天线领域,具体是指一种可变焦毫米波反射面天线。
技术介绍
随着毫米波和太赫兹技术的发展,在大功率毫米波无线能量传输、毫米波短程通 讯、毫米波成像和毫米波等离子体加热等领域获得了越来越多的应用。在其中的一些应用 中,目标与发射天线之间的距离实时变化,且距离变化范围较大。 为了提高与目标的功率耦合效率,希望使目标始终位于菲涅峰内,这就要求毫米 波发射天线在近场形成的菲涅尔峰可以随目标的距离变化而变化。
技术实现思路
本技术的目的是解决目前毫米波聚焦辐射系统中反射面天线的焦距难以随 着目标距离而实时变化等难题,根据双透镜焦距调节原理,提出采用可变形的副反射面来 实现双反射面焦点的调节,该可变焦毫米波反射面天线结构简单,焦距易于控制 本技术为实现上述目的采用如下技术方案: -种可变焦毫米波反射面天线,包括底座支架,所述底座支架一端设置有主反射 面,支架另一端设置有副反射面,主反射面一端的支架上设置有馈源,馈源馈出的电磁波经 副反射面反射到主反射面;所述副反射面内部中空,副反射面的背部设置有压力接口,压力 接口通过压力管线与压力控制设备连接在一起。 在上述技术方案中,所述副反射面为薄壁空腔结构,副反射面的面型为薄壁。 在上述技术方案中,所述压力控制设备设置在底座支架上。 在上述技术方案中,所述副反射面内部中空的空间设置有压力介质。 在上述技术方案中,所述压力介质包括但不限于气体、液压油、水。 本技术所述一种可变焦毫米波反射面天线,结合双透镜组合的等效焦距公式 (1)描述其工作原理: 【权利要求】1. 一种可变焦毫米波反射面天线,包括底座支架,所述底座支架一端设置有主反射面, 支架另一端设置有副反射面,主反射面一端的支架上设置有馈源,馈源馈出的电磁波经副 反射面反射到主反射面;其特征在于所述副反射面内部中空,副反射面的背部设置有压力 接口,压力接口通过压力管线与压力控制设备连接在一起。2. 根据权利要求1所述的一种可变焦毫米波反射面天线,其特征在于所述副反射面为 薄壁空腔结构,副反射面的面型为薄壁。3. 根据权利要求1所述的一种可变焦毫米波反射面天线,其特征在于所述压力控制设 备设置在底座支架上。4. 根据权利要求1所述的一种可变焦毫米波反射面天线,其特征在于所述副反射面内 部中空的空间填充有压力介质。5. 根据权利要求4所述的一种可变焦毫米波反射面天线,其特征在于所述压力介质包 括但不限于气体、液压油、水。【文档编号】H01Q15/16GK204156099SQ201420648651【公开日】2015年2月11日 申请日期:2014年11月3日 优先权日:2014年11月3日 【专利技术者】孟凡宝, 徐刚, 余川, 屈劲, 薛长江, 陈世韬, 施美友 申请人:中国工程物理研究院应用电子学研究所本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种可变焦毫米波反射面天线,包括底座支架,所述底座支架一端设置有主反射面,支架另一端设置有副反射面,主反射面一端的支架上设置有馈源,馈源馈出的电磁波经副反射面反射到主反射面;其特征在于所述副反射面内部中空,副反射面的背部设置有压力接口,压力接口通过压力管线与压力控制设备连接在一起。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:孟凡宝徐刚余川屈劲薛长江陈世韬施美友
申请(专利权)人:中国工程物理研究院应用电子学研究所
类型:新型
国别省市:四川;51

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