具有滴水边缘构造的衬底载体制造技术

衬底载体可具有引导液体离开衬底的排水区域，从而可将液滴引流离开衬底区域。排水区域可包括从衬底向着地面倾斜的线或表面。载体可进一步具有引导液滴到达载体的一端的排水区域，然后液体可被引流到地面，而不是自由滴落到地面。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有滴水边缘构造的衬底载体
本申请要求序列号61/625083、2012年4月17日提交的、名为“Substrate carrierhaving drip edge configurat1ns”的美国临时专利申请的权益，该美国临时专利申请通过引用被并入本文。
技术介绍
在半导体处理中，在半导体设施中处理大量半导体衬底。例如，在圆形的单晶硅衬底上制造集成电路设备。太阳能电池通常在正方形或矩形的衬底(单晶硅或多晶硅)上制造。衬底被存储在载体中，该载体被设计为在不相互接触的情况下独立地保存每个衬底。 在单个衬底处理期间，将各个衬底从载体带到处理室中，在处理室中，每个衬底被单独处理。在批量处理(例如湿法蚀刻工艺)期间，将多个衬底转移到处理载体，该处理载体支撑衬底，而在衬底之间具有适当的分离，以使在载体内的所有衬底能均匀处理。然后将载体浸入填充有化学液体的槽中，该化学液体能够同时蚀刻所有衬底。 图1A-1C示出示例性现有技术的用于湿法处理的处理载体。在图1A中，示出支撑衬底110的载体100。载体100包括两个端板120，以及多个杆130。杆被间隔开以便允许衬底被定位在杆之间。载体110可包括用于支撑衬底的侧面的侧杆，以及用于支撑衬底底部的底杆。可例如包括可选的顶杆，以防止在移动期间衬底的掉落。杆130可包括齿135，齿135可分离衬底。 图1B示出具有齿135的杆130的一部分的细节。齿包括圆柱形状，被布置在水平方向。齿的分离大到足以容纳衬底110。在液体处理期间，液滴140可被粘附到载体表面，例如在齿135A (图1C)的表面上。当湿法处理完成时，从液体槽移除载体。液滴140可沿着齿的表面迁移，并且可能滴到衬底110上，形成污染斑145。
技术实现思路
在一些实施例中，提供系统和方法来减小由载体支撑的衬底中的液体污染。例如，在湿法工艺之后，载体可具有在其表面上积聚的液体。载体可被构造成减小或消除液体在衬底上的滴落，该滴落可能污染衬底表面。 在一些实施例中，载体可具有引导液体远离衬底的排水区域，从而任何液滴形成和释放将在衬底区域之外并且不在衬底上。排水区域可包括从衬底向着地面倾斜的线和面。排水区域可避免衬底区域附近或衬底区域中的可捕捉构造，例如在两个衬底之间限定的空间中的点形状、在两个衬底之间限定的空间中的水平线或面、或在两个衬底之间限定的空间中的朝向下的线或面。 在一些实施例中，载体可具有将液体引导到载体的一端的排水区域，该液体然后可被引流到地面而非自由落到地面。液滴的引流可避免液体的飞溅，因此可减小或消除可能的衬底污染。 【附图说明】 图2A-2E示出根据一些实施例的可积聚和滴落液滴的示例性表面构造。 图3A-3C示出根据一些实施例的衬底载体的齿的示例性倾斜构造。 图4A-4B示出根据一些实施例的具有倾斜齿构造的示例性载体。 图5A-?不出根据一些实施例的具有倾斜齿构造的另一不例性载体。 图6A-6C示出根据一些实施例的示例性杆构造。 图7A-7D不出根据一些实施例的杆的不例性横截面。 图8A-8B示出根据本专利技术的一些实施例的示例性载体。 图9A-9C示出根据一些实施例的示例性载体构造。 【具体实施方式】 在一些实施例中，本专利技术公开了载体构造以减小或消除液滴污染，例如在湿法处理之后发生的液滴污染。该载体构造包括引导远离衬底区域的滴水边缘，防止液滴落到衬底表面上。 在一些实施例中，本专利技术认识到尤其在衬底表面的区域内的向下倾斜的(例如垂直)表面或路径可能积聚液滴，该液滴然后可能落在衬底上而污染衬底。此外，水平表面可能积聚液滴，因此可能使液滴落在衬底上。 图2A-2E示出根据一些实施例的可能积聚液滴并且滴落液滴的示例性表面构造。在图2A中，示出了垂直表面210，其中液滴240可沿垂直表面210(例如在重力下)向下流淌以积聚在表面210的底部。液滴240可沿着该路线收集另外的液体，并且可变得大到足以从垂直表面210滴落。如果液滴240在衬底表面附近形成，则液滴可能落到衬底上，生成污染斑。 在图2B中，示出弯曲表面212，其包括用于液滴行进的多个垂直路径222。液滴242可沿垂直路径222 (例如在重力下)向下流淌以积聚在表面212的底部。液滴242可沿着该路线收集另外的液体，并且可变得大到足以从垂直表面212滴落。 在图2C中，示出弯曲表面214，其包括用于液滴行进的多个路径224。液滴244可沿垂直路径224(例如在重力下)向下流淌以积聚在表面214的底部。液滴244可沿着该路线收集另外的液体，并且可变得大到足以从垂直表面214滴落。 在图2D中，示出弯曲表面216，其包括用于液滴行进的多个路径226和227。液滴247可沿垂直路径227 (例如在重力下)向下流淌以积聚在表面216的底部。液滴247可顺着弯曲路径227离开衬底，因此不引起对衬底的可能损坏。替代地，另一液滴246可沿着垂直路径226向下流淌，沿着该路线收集另外的液体，并且可变得大到足以从垂直表面216滴落。因为垂直表面216很可能在衬底表面的附近，所以液滴可能落到衬底上，生成污染斑。因此与平坦表面210和弯曲表面212或214相比，弯曲表面216可减小可能的污染。然而，在某些情况下，污染液滴可例如沿着弯曲表面216上的路径226出现。因此不具有垂直表面或垂直路径的衬底载体是优选的。在一些实施例中，本专利技术公开了用于不具有垂直表面或垂直路径(尤其是被定位在衬底区域内的表面或路径)的衬底载体的方法和装置。 在图2E中，示出水平表面218。液滴248可在表面218上随机出现并且落在衬底表面上。因此不具有水平表面的衬底载体是优选的。在一些实施例中，本专利技术公开了用于不具有水平表面(尤其是被定位在衬底区域内的表面或路径)的衬底载体的方法和装置。 在一些实施例中，提供载体结构和使用该载体结构的方法来避免由落在衬底上的液滴引起的可能污染。载体结构可被构造为避免例如由向下倾斜的线或面(其被定位在由两个相邻衬底限定的空间附近或之中)引起的积聚点。 在一些实施例中，载体结构被构造为使得将液滴通过重力远离衬底地排出，或从由两个衬底限定的空间排出。载体结构被构造为使得液滴从载体结构的下落将不着陆在衬底表面上。例如，载体结构可被构造为使得任何液体积聚点被定位为远离衬底，或者远离由多个衬底限定的体积。载体结构可被构造为不具有在衬底内或在由多个衬底限定的体积内的可捕捉液滴的点、水平线或水平面。 在一些实施例中，载体结构可包括路径使得液滴行进远离衬底。例如，载体结构可具有向着衬底的底部并且远离衬底地倾斜的线或面。 在一些实施例中，载体结构可包括路径使得液滴行进到地面。地面路径可避免液体的飞溅，这可进一步减小衬底污染。例如，载体结构可具有向着载体结构的一端的倾斜线或面，并且然后在该端部处引流到地面。载体结构的侧结构可具有向着端部结构的倾斜线或面，从而液滴可行进到该端部结构。端部结构可具有沟道或路径以将液体引导到地面，而不会在载体结构上的液体的任何积聚。 在一些实施例中，本专利技术公开了包括多个齿的衬底载体，该多个齿被构造为包括弓丨导远离齿的尖端的滴水边缘。例如，衬底载体可包括例如杆或板的侧本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于支撑一个或多个衬底的载体，所述载体包括：至少一个第一结构；至少一个第二结构，其中，所述第二结构被固定到所述第一结构，其中，所述第二结构部分地突出到由两个相邻衬底限定的空间，用于分离所述两个相邻衬底；其中，所述第二结构被构造为使得液滴通过重力远离所述衬底地排出。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.04.17 US 61/625,0831.一种用于支撑一个或多个衬底的载体，所述载体包括: 至少一个第一结构； 至少一个第二结构， 其中，所述第二结构被固定到所述第一结构， 其中，所述第二结构部分地突出到由两个相邻衬底限定的空间，用于分离所述两个相邻衬底； 其中，所述第二结构被构造为使得液滴通过重力远离所述衬底地排出。2.如权利要求1所述的载体，其中，所述第二结构包括路径使得所述液滴远离所述衬底地行进。3.如权利要求1所述的载体，其中，所述第二结构包括向着所述衬底的底部并且远离所述衬底地倾斜的线或表面。4.如权利要求1所述的载体，其中，所述第二结构在所述空间内不具有能够捕捉所述液滴的点、水平线或水平面。5.如权利要求1所述的载体，其中，所述第一结构被构造为使得所述液滴通过重力向着所述第一结构的一端排出。6.一种用于支撑一个或多个衬底的载体，所述载体包括: 至少一个第一结构； 至少一个第二结构， 其中，所述第二结构被固定到所述第一结构， 其中，所述第二结构部分地突出到由两个相邻衬底限定的空间，用于分离所述两个相邻衬底； 其中，所述第二结构包括远离所述衬底地倾斜的表面，使得液滴通过重力远离所述空间地排出。7.如权利要求6所述的载体，其中，所述第二结构的突出部包括角锥或圆锥形状。8.如权利要求7所述的载体，其中，所述角锥在最底部...

【专利技术属性】
技术研发人员：路茨·雷伯斯托克，
申请(专利权)人：布鲁克CCS有限公司，路茨·雷伯斯托克，
类型：发明
国别省市：德国;DE