一种金属工件的涂装镭雕蚀刻新工艺，涉及到对金属件的蚀刻加工。包括用于对电子件进行覆膜的电泳涂装工序、用于对电子件进行雕花的镭雕工序、用于对电子件的覆膜进行图文处理的蚀刻工序、用于对电子件覆膜进行脱离的脱膜工序，还包括废水回收工序，所述的废水回收工序用于对电泳涂装工序、蚀刻工序、脱膜工序中产生的废水进行回收利用。以上所述的电泳涂装工序连接数控系统，并由数控系统自动控制。其有益效果是，工艺设置合理，采用多次水洗方式，减少了不同工序中药液残留，所得产品纹饰无走样现象，产品精度高。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种金属工件的涂装镭雕蚀刻新工艺，涉及到对金属件的蚀刻加工。包括用于对电子件进行覆膜的电泳涂装工序、用于对电子件进行雕花的镭雕工序、用于对电子件的覆膜进行图文处理的蚀刻工序、用于对电子件覆膜进行脱离的脱膜工序，还包括废水回收工序，所述的废水回收工序用于对电泳涂装工序、蚀刻工序、脱膜工序中产生的废水进行回收利用。以上所述的电泳涂装工序连接数控系统，并由数控系统自动控制。其有益效果是，工艺设置合理，采用多次水洗方式，减少了不同工序中药液残留，所得产品纹饰无走样现象，产品精度高。【专利说明】 一种金属工件的涂装镭雕蚀刻新工艺
本专利技术涉及到对金属件的蚀刻加工。
技术介绍
蚀刻指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。现有的蚀刻生产线过于复杂，所用工序繁多，工艺设置不合理。由于过多使用化学原料，不但提升了生产成本，而且对环境保护造成影响。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种金属工件的涂装镭雕蚀刻新工艺，工艺设置合理，减少不同工序在金属工件上的药液残留。 为了达到上述目的，本专利技术采用的技术方案是:一种金属工件的涂装镭雕蚀刻新工艺，其特征是:包括用于对电子件进行覆膜的电泳涂装工序、用于对电子件进行雕花的镭雕工序、用于对电子件的覆膜进行图文处理的蚀刻工序、用于对电子件覆膜进行脱离的脱膜工序，还包括废水回收工序，所述的废水回收工序用于对电泳涂装工序、蚀刻工序、脱膜工序中产生的废水进行回收利用。 以上所述的电泳涂装工序连接数控系统，并由数控系统自动控制。 以上所述的电泳涂装工序工艺流程为预清理、上线、除油、水洗、除锈、水洗、中和、水洗、磷化、水洗、钝化、电泳涂装、槽上清洗、超滤水洗、烘干、下线。 以上所述的蚀刻工序的工艺流程为除油、水洗、浸蚀、水洗、干燥、水浸、蚀刻、酸洗、水洗、电解抛光、电镀、干燥。 以上所述的水浸采用46—55°热水，时间为4一 10分钟。 本专利技术有益效果是，工艺设置合理，采用多次水洗方式，减少了不同工序中药液残留，所得广品纹饰无走样现象，广品精度闻。 【专利附图】【附图说明】 图1为本专利技术工艺流程图；图2为本专利技术中电泳涂装工序流程图；图3为本专利技术蚀刻工序示意图流程图。 【具体实施方式】 参见附图1，本专利技术包括用于对电子件进行覆膜的电泳涂装工序、用于对电子件进行雕花的镭雕工序、用于对电子件的覆膜进行图文处理的蚀刻工序、用于对电子件覆膜进行脱离的脱膜工序，还包括废水回收工序，所述的废水回收工序用于对电泳涂装工序、蚀刻工序、脱膜工序中产生的废水进行回收利用。 电泳涂装工序连接数控系统，并由数控系统自动控制，将数控技术和电泳涂装工艺相结合，实现电泳涂装工艺的全自动生产。 参见附图2，本专利技术所述的电泳涂装工序工艺流程为预清理、上线、除油、水洗、除锈、水洗、中和、水洗、磷化、水洗、钝化、电泳涂装、槽上清洗、超滤水洗、烘干、下线。 参见附图3，本专利技术所述的蚀刻工序的工艺流程为除油、水洗、浸蚀、水洗、干燥、水浸、蚀刻、酸洗、水洗、电解抛光、电镀、干燥。以上所述的水浸采用46— 55°热水，时间为4—10分钟。 为了实现对整个工艺产生的废水的循环利用，本专利技术还设有废水回收工序，该工序对电泳涂装工序、蚀刻工序、脱膜工序中产生的废水进行回收利用，降低水污染，实现废水零排放。 电泳涂装前工件的表面处理，是电泳涂装的一个重要环节，主要涉及除油、除锈、磷化等工序，并由相应的装置完成。其处理好坏，不仅影响膜外观、降低防腐性能，并能破坏漆液的稳定性。对于涂装前工件表面，要求无油污、锈痕，无前处理药品及磷化沉化沉渣等，磷化膜结晶致密均匀。因此在该工序采用多次水洗的方法，避免各不同工序中的不同药液产生交叉污染。 被涂物的底材及前处理对电泳涂膜有极大影响，金属件表面采用除油和除锈处理，尤其采用磷化和钝化处理，金属工件的表面非常理想。磷化处理时，一般选用锌盐磷化膜，厚度15?25um，磷化膜结晶细而均匀。 电泳工序中的超滤水洗控制工件带入的杂质离子的浓度，保证涂装的质量。在此系统一经运行后应连续运行，严禁间断运行，以防超滤膜干枯。干枯后的树脂和颜料附着在超滤膜上，无法彻底清洗，将严重影响超滤膜的透水率和使用寿命。超滤膜的出水率随运行时间而呈下降趋势，连续工作3(Γ40天应清洗一次，以保证超滤浸洗和冲洗所需的超滤水。 本专利技术的脱膜工序中，将蚀刻后的金属工件浸入40?60g / L的氢氧化钠溶液中，温度50?80°C，浸溃数分钟即可退去镀膜。退除后，如果要求光亮度高，可进行抛光处理。 应当说明的是，本专利技术所述的实施方式仅仅是其优选方式，对属于本专利技术技术方案而仅仅是显而易见的改动，均应属于本专利技术的保护范围之内。【权利要求】1.一种金属工件的涂装镭雕蚀刻新工艺，其特征是:包括用于对电子件进行覆膜的电泳涂装工序、用于对电子件进行雕花的镭雕工序、用于对电子件的覆膜进行图文处理的蚀刻工序、用于对电子件覆膜进行脱离的脱膜工序，还包括废水回收工序，所述的废水回收工序用于对电泳涂装工序、蚀刻工序、脱膜工序中产生的废水进行回收利用。2.根据权利要求1所述的金属工件的涂装镭雕蚀刻新工艺，其特征是:所述的电泳涂装工序连接数控系统，并由数控系统自动控制。3.根据权利要求1所述的金属工件的涂装镭雕蚀刻新工艺，其特征是:所述的电泳涂装工序工艺流程为预清理、上线、除油、水洗、除锈、水洗、中和、水洗、磷化、水洗、钝化、电泳涂装、槽上清洗、超滤水洗、烘干、下线。4.根据权利要求1所述的金属工件的涂装镭雕蚀刻新工艺，其特征是:所述的蚀刻工序的工艺流程为除油、水洗、浸蚀、水洗、干燥、水浸、蚀刻、酸洗、水洗、电解抛光、电镀、干燥。5.根据权利要求4所述的金属工件的涂装镭雕蚀刻新工艺，其特征是:所述的水浸采用46— 55°热水，时间为4一 10分钟。【文档编号】B23K26/362GK104342709SQ201310342463【公开日】2015年2月11日 申请日期:2013年8月8日 优先权日:2013年8月8日 【专利技术者】杨其祥 申请人:天津祥和兴金属制品有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种金属工件的涂装镭雕蚀刻新工艺，其特征是：包括用于对电子件进行覆膜的电泳涂装工序、用于对电子件进行雕花的镭雕工序、用于对电子件的覆膜进行图文处理的蚀刻工序、用于对电子件覆膜进行脱离的脱膜工序，还包括废水回收工序，所述的废水回收工序用于对电泳涂装工序、蚀刻工序、脱膜工序中产生的废水进行回收利用。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：杨其祥，
申请(专利权)人：天津祥和兴金属制品有限公司，
类型：发明
国别省市：天津;12
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