沉积装置和使用该沉积装置制造显示装置的方法制造方法及图纸

本申请涉及沉积装置和使用该沉积装置制造显示装置的方法。该沉积装置可以包括第一基底安装构件和可以与第一基底安装构件重叠的第二基底安装构件。沉积装置可以进一步包括设置在位于第一基底安装构件和第二基底安装构件之间的空间中的溅射单元。溅射单元可以具有第一开口和第二开口。第一开口可以被设置为比第二开口更靠近第一基底安装构件。第二开口可以被设置为比第一开口更靠近第二基底安装构件。可以分别通过第一开口和第二开口同时提供第一组材料和第二组材料。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本申请涉及。该沉积装置可以包括第一基底安装构件和可以与第一基底安装构件重叠的第二基底安装构件。沉积装置可以进一步包括设置在位于第一基底安装构件和第二基底安装构件之间的空间中的溅射单元。溅射单元可以具有第一开口和第二开口。第一开口可以被设置为比第二开口更靠近第一基底安装构件。第二开口可以被设置为比第一开口更靠近第二基底安装构件。可以分别通过第一开口和第二开口同时提供第一组材料和第二组材料。【专利说明】相关申请的交叉引用本申请要求2013年7月29日递交到韩国知识产权局的韩国专利申请10-2013-0089823的权益，该申请的公开通过引用整体合并于此。
本专利技术涉及。
技术介绍
显示装置可以包括用于发光的发光器件(例如有机发光器件)，从而显示图像。显示装置可以进一步包括用于保护发光器件免受例如湿气的环境物质影响的封装元件。封装元件可以通过使用沉积装置进行的一个或多个沉积工艺形成。
技术实现思路
专利技术的一个或多个实施例可涉及与基本上令人满意的沉积效率相关联的沉积装置。本专利技术的一个或多个实施例可涉及使用该沉积装置制造显示装置的方法。 本专利技术的实施例可涉及沉积装置，该沉积装置可包括彼此重叠并被配置为分别支撑第一基底和第二基底的第一基底安装构件和第二基底安装构件。沉积装置可以进一步包括设置在位于第一基底安装构件和第二基底安装构件之间的空间中的溅射单元。溅射单元可以具有第一开口和第二开口。第一开口可以被设置为比第二开口更靠近第一基底安装构件。第二开口可以被设置为比第一开口更靠近第二基底安装构件。可以分别通过第一开口和第二开口分别向第一基底和第二基底同时提供第一组材料和第二组材料。 沉积装置可以包括下述元件:包含溅射单元的腔室；以及被配置为相对于腔室和溅射单元中的至少一个移动第一基底安装构件和第二基底安装构件中的至少一个的驱动单元。 第一基底安装构件可以具有位于第一基底安装构件的两个部分之间的开口。开口的平行于第一坐标轴(例如垂直于支撑溅射单元的地面)的宽度等于或大于溅射单元在平行于第一坐标轴(和/或与开口的宽度的方向平行)的方向上的长度。 第一基底安装构件的两个部分在垂直于第一坐标轴(和/或与开口的宽度的方向垂直)的方向上不与溅射单元重叠。 第一基底安装构件和第二基底安装构件可以被配置为相对于溅射单元在同一方向上同时移动。 第一开口可以位于溅射单元的第一侧。第二开口可以位于溅射单元的平行于溅射单元的第一侧的第二侧。第一开口可以在垂直于溅射单元的第一侧的方向上与第二开口重叠和/或对准。 沉积装置可以包括被设置在溅射单元的第一侧和溅射单元的第二侧之间的第一靶支撑构件和第二靶支撑构件。第一靶支撑构件可以在平行于溅射单元的第一侧的方向上与第二靶支撑构件重叠和/或对准。 沉积装置可进一步包括控制单元，控制单元被配置为控制溅射单元在与第一基底安装构件的延伸方向平行和/或与第一基底的面向溅射单元的表面平行的方向上的高度。 沉积装置可以包括下述元件:被配置为将第一基底紧固在第一基底安装构件上的第一压板；以及被设置为平行于第一压板并被配置为将第二基底紧固在第二基底安装构件上的第二压板。 沉积装置可以包括设置在溅射单元内并具有被配置为接触包括第一组材料和第二组材料的靶的支撑表面的靶支撑构件。第一压板可以具有被设置为垂直于支撑表面并被配置为接触第一基底的接触表面。第一压板可以包括被设置为垂直于支撑表面并被配置为传送用于冷却第一基底的制冷剂的流动通道。 沉积装置可以包括被连接到第一压板的流动通道并被连接到第一基底安装构件的连接单元的管道。第一压板的流动通道可以容纳通过第一基底安装构件的连接单元提供的制冷剂并传送用于冷却第一基底的制冷剂。 沉积装置可以包括可被连接到第一基底安装构件的连接单元、可以将冷却剂传送到第一基底安装构件的连接单元、并可以当第一基底安装构件相对于溅射单元移动时变形的管。 本专利技术的实施例涉及用于制造显示装置的方法。该方法包括下述步骤:在第一显示单元和第二显示单元之间设置溅射单元，溅射单元具有第一开口和第二开口，第一显示单元被设置在第一基底上，第二显示单元被设置在第二基底上；以及同时通过第一开口将第一组材料提供在第一显示单元上和通过第二开口将第二组材料提供在第二显示单元上。 第一组材料和第二组材料中的至少一个可以包括低温粘度转变(LVT)无机材料。 该方法可以包括下述步骤:相对于溅射单元在同一方向上同时移动第一显示单元和第二显示单元。 该方法可以包括下述步骤:在第一基底安装构件上安装第一基底。第一基底安装构件可以具有位于第一基底安装构件的两个部分之间的开口。开口的平行于第一坐标轴的宽度等于或大于溅射单元的平行于第一坐标轴的长度。 第一基底安装构件的两个部分在垂直于第一坐标轴的方向上不与溅射单元重叠。 该方法可以包括下述步骤:在第一基底安装构件上安装第一基底；用压板将第一基底紧固在第一基底安装构件上；以及通过压板的流动通道提供制冷剂来冷却第一基底。 该方法可以包括下述步骤:在地面上支撑溅射单元；以及将第一基底和第二基底的每一个设置为垂直于地面。 本专利技术的实施例可涉及沉积装置，该沉积装置可以包括下述元件:腔室；设置在腔室内并彼此重叠的一对基底安装构件，其中基底可分别被安装在基底安装构件上；以及设置在基底安装构件之间的溅射单元，其中溅射单元可以包括下述元件:用于支撑一对靶使得靶可以彼此面对的一对靶支撑构件；以及被定向为垂直于靶的第一开口和第二开口，其中第一开口和第二开口可分别面对基底安装构件。 一对基底安装构件可以被设置为垂直于地面。 开口可以被形成在基底安装构件的每一个，开口的竖直宽度可等于或大于溅射单元的长度。 基底安装构件的每一个的边缘可以不与溅射单元重叠。 —对基底安装构件可在腔室中在一个方向上移动。 溅射单元可以具有矩形六面体形状，第一开口和第二开口可以被形成在溅射单元的一对平行的侧表面上。 一对靶可被设置在溅射单元的另一对侧表面上。 一对靶可由低温粘度转变(LVT)无机材料形成。 溅射单元可以包括下述元件:用于控制溅射单元的高度的控制单元；以及用于支撑溅射单元的其它元件的支撑部分。 沉积装置可以包括用于固定基底的位置的压板。压板可包括下述元件:制冷剂可通过其流动以冷却基底的流动通道；制冷剂可通过其被注入到流动通道中的注入部分；以及制冷剂可通过其从流动通道排出的排出部分。 本专利技术的实施例可以涉及沉积装置，该沉积装置可以包括下述元件:腔室；设置在腔室内并被设置为垂直于地面的一对基底安装构件；以及被设置在基底安装构件之间的溅射单元。溅射单元可具有矩形六面体的形状。溅射单元可具有被形成在溅射单元的一对平行的侧表面上的第一开口和第二开口。第一开口和第二开口可以分别面对基底安装构件。 溅射单元可包括用于支撑一对靶使得靶可以彼此面对并且可以被设置为垂直于第一开口和第二开口的一对靶支撑构件。 基底可以被分别安装在基底安装构件上。从靶提供的两组材料可以通过第一开口和第二开口被同时提供，并可以被同时沉积在基底上。 沉积装置可以包括用于固定基底的位置的压板。压板可包括下述元件:制冷剂可通过其流动以冷却基底的流动通道；本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种沉积装置，包括：第一基底安装构件；与所述第一基底安装构件重叠的第二基底安装构件；和设置在位于所述第一基底安装构件和所述第二基底安装构件之间的空间中的溅射单元，所述溅射单元具有第一开口和第二开口，所述第一开口被设置为比所述第二开口更靠近所述第一基底安装构件，所述第二开口被设置为比所述第一开口更靠近所述第二基底安装构件。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：金佑铉，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR