一种灭菌处理装置，其特征在于，具备：反应容器，收容灭菌处理对象物并实施灭菌处理；试剂供给机构，向所述反应容器内供给至少含有过乙酸的过氧化剂作为灭菌处理用试剂；减压机构，对所述反应容器内进行减压；换气机构，对所述反应容器内进行换气；以及等离子体生成机构，在从所述灭菌处理对象物在所述反应容器内的收容位置及其附近到装置的外部的流体路径的规定部位产生等离子体。在利用所述试剂的灭菌处理后对所述反应容器内进行减压的过程中，以使所述规定部位保持在产生等离子体的状态下的方式控制所述减压机构和等离子体生成机构。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及，更详细而言涉及使用至少含有过乙酸的过氧化剂作为试剂来实施灭菌处理的。
技术介绍
例如作为医疗器械等的灭菌方法，一直以来习惯使用干热灭菌法、高压水蒸汽灭菌法等通过高温来进行灭菌处理的方法，但近年来伴随医疗器械的多样化等，至少一部分使用了无法充分耐受高温的材料的器械也正在供于实用。在所述情况下，就需要不依赖于高温的灭菌处理。另外，对于以内窥镜为代表的具有长且细的中空管的医疗器械而言，需要对细的中空管的内部进行灭菌处理。 作为满足以上要求的灭菌方法，已知有如下的方法:将灭菌处理对象物放入到反应容器中，使该反应容器内成为真空后注入灭菌处理用的试剂，试剂气化膨胀后遍布细中空管的内部，由此不依赖于高温,并且可对细中空管内部的各个角落进行灭菌处理。 所述灭菌方法中，作为灭菌处理剂，多使用过氧化氢，但例如在医疗器械等需要高度灭菌处理的情况下，仅靠过氧化氢难以进行充分的灭菌，因此，作为能够以较少的量取得更高灭菌效果的灭菌处理剂，还已知使用至少包含过乙酸的过氧化剂。 另外，例如专利文献1、专利文献2中提出了如下的灭菌处理方法:通过在如前所述地在真空中使试剂气化来进行灭菌处理的处理工艺中应用等离子体，由此企图获得更高的灭菌效果。 现有技术文献 专利文献 专利文献1:日本专利第2780228号公报 专利文献2:日本专利第4526649号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题 如前所述，通过使用至少含有过乙酸的过氧化剂作为灭菌处理剂，由此可以较少的量取得更高的灭菌效果，但众所周知，过乙酸在多数情况下以过乙酸与乙酸、过氧化氢和水的平衡混合物的形式存在，因此具有非常强的刺激臭。因此，在实施灭菌处理时，需要尽量抑制所述刺激臭对作业环境造成的影响。该情况下，在实际应用上正在寻求在不设置大规模且高成本的脱臭装置等的情况下，以比较简单的构成抑制刺激臭造成的不良影响的方案。 本专利技术鉴于所述技术课题而实施，因此其基本目的在于，在使用至少含有过乙酸的过氧化剂作为试剂的灭菌处理中，以比较简单的构成对灭菌处理工序后残留的试剂进行无臭化。 本申请专利技术人为了达成所述目的而进行了各种研究开发，其中发现，通过在灭菌处理后对试剂照射等离子体由此使含有过乙酸的过氧化剂分解，特别是在从灭菌处理容器内到装置外部的流体路径中在减压过程中保持等离子体产生状态，由此能够有效地将灭菌处理后残留在容器内的试剂无臭化。 解决课题的手段 因此，本申请专利技术所涉及的灭菌处理装置的特征在于，具备:a)反应容器，收容灭菌处理对象物并实施灭菌处理；b)试剂供给机构，向所述反应容器内供给至少含有过乙酸的过氧化剂作为灭菌处理用试剂；c)减压机构，对所述反应容器内进行减压；d)换气机构，对所述反应容器内进行换气；e)等离子体生成机构，在从所述灭菌处理对象物在反应容器内的收容位置及其附近到装置的外部的流体路径的规定部位产生等离子体；以及f)控制机构，在利用所述试剂的灭菌处理后在所述反应容器内进行减压的过程中，以使所述规定部位保持在产生等离子体的状态下的方式控制所述减压机构和等离子体生成机构。 在该情况下，可以还具备第二供给机构，在向所述反应容器内供给所述灭菌处理用试剂后，向所述反应容器内供给促进所述过氧化剂的分解的过氧分解剂或水。 在以上的情况下，所述流体路径的规定部位可以设定在所述反应容器内，或者可以设定在所述反应容器的外部。另外，也可以设定在所述反应容器的内部和外部这两方。 另外，本申请专利技术所涉及的灭菌处理方法的特征在于，具备:a)处理对象物收容步骤，将灭菌处理对象物收容到灭菌处理用的反应容器内的规定收容位置；b)试剂供给步骤，对所述反应容器内进行减压后，向该反应容器内供给至少含有过乙酸的过氧化剂作为灭菌处理用试剂；c)等离子体生成步骤，在利用所述试剂的灭菌处理后，在从所述灭菌处理对象物在所述反应容器内的收容位置及其附近到装置的外部的流体路径的规定部位产生等离子体；d)再减压步骤，在使所述规定部位保持在等离子体产生状态的条件下，再次对所述反应容器内进行减压；以及e)换气步骤，在所述再减压步骤之后，对所述反应容器内进行换气。 在该情况下，可以还具备如下步骤:在向所述反应容器内供给所述灭菌处理用试剂后，向所述反应容器内供给促进所述过氧化剂的分解的过氧分解剂或水。 专利技术效果 根据本申请专利技术，在使用至少含有过乙酸的过氧化剂作为灭菌处理用试剂，并在利用所述试剂的灭菌处理后对反应容器内进行减压的过程中，在从灭菌处理对象物在所述反应容器内的收容位置及其附近到装置的外部的流体路径的规定部位保持在等离子体产生状态，因此能够有效地将灭菌处理后残留在容器内的试剂无臭化，在实施灭菌处理时，能够有效地抑制所述刺激臭对作业环境造成的影响。该情况下，通过仅对等离子体产生的部位和减压时机等进行设计的比较简单的构成，能够在不设置大规模且高成本的脱臭装置等的情况下，减轻试剂的刺激臭所致的不良影响。 【附图说明】 图1是示意表示本专利技术的第I实施方式所涉及的灭菌处理装置的整体构成的构成图。 图2是表示所述第I实施方式所涉及的灭菌处理装置的处理工序的流程的工序说明图。 图3是表示所述第I实施方式所涉及的灭菌处理装置的处理工序中的反应容器内的压力变化的图表。 图4是示意表示本专利技术的第2实施方式所涉及的灭菌处理装置的整体构成的构成图。 图5是表示所述第2实施方式所涉及的灭菌处理装置的处理工序中的反应容器内的压力变化的图表。 图6是示意表示本专利技术的第3实施方式所涉及的灭菌处理装置的整体构成的构成图。 图7是示意表示本专利技术的第4实施方式所涉及的灭菌处理装置的整体构成的构成图。 【具体实施方式】 以下参照附图对本专利技术的实施方式进行详细说明。 需要说明的是，以下的说明中，有时使用表示特定方向的用语(例如“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”及包含它们的其他用语、以及“顺时针方向”、“逆时针方向”等)，但它们的使用是为了更容易参照附图理解专利技术。因此，本专利技术并不受这些用语的含义限定性解释。 图1是示意表示本专利技术的第I实施方式所涉及的灭菌处理装置的整体构成的构成图。 如该图所示，本实施方式所涉及的灭菌处理装置Ml具备:反应容器1，收容灭菌处理对象物Jb并实施灭菌处理；试剂注入装置2，向该反应容器I内注入至少含有过乙酸的过氧化剂作为灭菌处理用试剂；真空泵3，构成对反应容器I内进行减压的减压机构和对反应容器I内进行换气的换气机构的主要部；作为等离子体生成机构的高频电源装置4，在从灭菌处理对象物Jb在反应容器I内的收容位置及其附近到装置Ml的外部的流体路径的规定部位产生等离子体。 所述反应容器I由将容器I内密封地覆盖的外箱la、和配置在其内部的内箱Ib构成。外箱Ia及内箱Ib均由具有规定强度、刚性和耐腐蚀性的导电性材料形成，la、lb 二者是电绝缘的。作为形成外箱Ia及内箱Ib的材料素材，可以使用例如钢板等金属板，外箱Ia通过将通常的平板状的金属板折弯加工而构成，以相对于外部密封的方式覆盖容器I的内部。另一方面，内箱Ib通过将具有多个贯通孔的多孔金属板折弯加工而构成，在其内侧与外侧之间，气化后的试剂、空气等气体或等离子体、以及液本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种灭菌处理装置，其特征在于，具备：反应容器，收容灭菌处理对象物并实施灭菌处理；试剂供给机构，向所述反应容器内供给至少含有过乙酸的过氧化剂作为灭菌处理用试剂；减压机构，对所述反应容器内进行减压；换气机构，对所述反应容器内进行换气；等离子体生成机构，在从所述灭菌处理对象物在所述反应容器内的收容位置及其附近到装置的外部的流体路径的规定部位产生等离子体；以及控制机构，在利用所述试剂的灭菌处理后在所述反应容器内进行减压的过程中，以使所述规定部位保持在产生等离子体的状态下的方式控制所述减压机构和等离子体生成机构。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.05.28 JP 2012-1207141.一种灭菌处理装置，其特征在于，具备: 反应容器，收容灭菌处理对象物并实施灭菌处理； 试剂供给机构，向所述反应容器内供给至少含有过乙酸的过氧化剂作为灭菌处理用试剂； 减压机构，对所述反应容器内进行减压； 换气机构，对所述反应容器内进行换气； 等离子体生成机构，在从所述灭菌处理对象物在所述反应容器内的收容位置及其附近到装置的外部的流体路径的规定部位产生等离子体；以及 控制机构，在利用所述试剂的灭菌处理后在所述反应容器内进行减压的过程中，以使所述规定部位保持在产生等离子体的状态下的方式控制所述减压机构和等离子体生成机构。2.如权利要求1所述的灭菌处理装置，其特征在于， 还具备第二供给机构，在向所述反应容器内供给所述灭菌处理用试剂后，向所述反应容器内供给促进所述过氧化剂的分解的过氧分解剂或水。3.如权利要求1或2所述的灭菌处理装置，其特征在于， 所述规定部位设定在所述反应容器内。4....
【专利技术属性】
技术研发人员：板良敷朝将，鬼塚典夫，
申请(专利权)人：莎罗雅株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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