本发明专利技术提供一种基板处理装置。根据本发明专利技术的优选实施例的基板处理装置，可包括：第一室，其具有以水平状态输送基板的第一输送单元及向所述基板供给第一液体的第一喷嘴；第二室，其沿第一方向配置于所述第一室的后方，具有能在水平状态和第一倾斜状态间进行转换，并输送所述基板的第二输送单元；第三室，其沿所述第一方向配置于所述第二室的后方，具有能够在所述第一倾斜状态和第二倾斜状态之间进行转换，并输送所述基板的第三输送单元。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供一种基板处理装置。根据本专利技术的优选实施例的基板处理装置，可包括：第一室，其具有以水平状态输送基板的第一输送单元及向所述基板供给第一液体的第一喷嘴；第二室，其沿第一方向配置于所述第一室的后方，具有能在水平状态和第一倾斜状态间进行转换，并输送所述基板的第二输送单元；第三室，其沿所述第一方向配置于所述第二室的后方，具有能够在所述第一倾斜状态和第二倾斜状态之间进行转换，并输送所述基板的第三输送单元。【专利说明】
本专利技术涉及一种处理基板的基板处理装置及使用基板处理装置的基板处理方法。
技术介绍
本专利技术涉及一种处理基板的装置，尤其涉及一种用于晶片或平板显示元件制造的对基板等进行清洗的装置及方法。 近来，信息处理仪器高速发展，即具有多种形态的功能及更快速的信息处理速度。这种信息处理装置具有显示被操作的信息的显示面板(displaypanel)。到目前为止，显示面板主要采用阴极射线管(cathode ray tube)显示器，但最近随着技术的高速发展，例如具有轻便、所占空间小等优点的液晶显示器(LCD)的平板显示面板的使用急速增加。 制造平板显示面板需要多种工艺。这些工艺中的清洗工艺作为清除附着在基板上的例如颗粒等污染物的工艺，为了使薄膜晶体管等元件的损失降至最小化并提高收率而执行。此时，在清洗室内，在基板向一方向输送的过程中对其施以工艺处理，而为了去除基板上残留的例如显影液的化学制品或有助于纯水去除，基板以倾斜状态进行输送。但是将残留有显影液的以水平状态输送的基板迅速转变为倾斜状态时，基板上会出现斑溃，发生液斑现象。
技术实现思路
_5] 本专利技术要解决的技术问题 本专利技术一目的在于提供一种能够提高基板显影及清洗效率的基板处理方法。 本专利技术要解决的技术问题并不局限于上述技术问题中，对没有言及的技术问题，本专利技术所属
的具有通常知识的技术人员可以通过本说明书及附图清楚地理解。 技术方案 另外本专利技术提供一种基板处理方法。本专利技术一实施例的基板处理装置，可包括:第一室，其具有以水平状态输送基板的第一输送单元及向所述基板供给第一液体的第一喷嘴；第二室，其沿第一方向配置于所述第一室的后方，具有能在水平状态和第一倾斜状态间进行转换，并输送所述基板的第二输送单元；第三室，其沿所述第一方向配置于所述第二室的后方，具有能够在所述第一倾斜状态和第二倾斜状态之间进行转换，并输送所述基板的第三输送单元。 所述第一输送单元包括:沿所述第一方向排列的多个输送轴；及框架，其固定结合在所述输送轴两端，从上部观察时沿所述第一方向设置，用于支撑所述输送轴。其中，所述框架可以为上端水平设置的框架。 所述第二输送单元包括:沿所述第一方向排列的多个输送轴；及框架，其固定结合在所述输送轴两端，从上部观察时沿所述第一方向设置，用于支撑所述输送轴。其中，所述框架包括:第一倾斜框架，其上端以所述第一角度倾斜配置；及第一倾斜变换框架，其配置于所述水平框架和所述第一倾斜框架之间，能够使所述输送框架的上端从所述水平状态倾斜变换为所述第一角度。 所述第三输送单元包括，沿所述第一方向排列的多个输送轴；及框架，其固定结合在所述输送轴两端，从上部观察时沿所述第一方向设置，用于支撑所述输送轴。其中，所述框架包括:第二倾斜框架，其上端以所述第二角度倾斜配置；及第二倾斜变换框架，其配置于所述第一倾斜框架和所述第二倾斜框架之间，能够使所述输送框架的上端从所述第一角度倾斜变换为所述第二角度。 所述第三室还包括向所述基板上供给第二液体的第三喷嘴。 所述基板处理装置还包括第四室。所述第四室包括:第四输送单元，其位于所述第二室和所述第三室之间，以所述第一倾斜状态搬送所述基板；及第三喷嘴，其向所述基板上供给所述第二液体。其中，所述第四输送单元包括:沿所述第一方向排列的多个输送轴 '及框架，其固定结合在所述输送轴两端，从上部观察时沿所述第一方向设置，用于支撑所述输送轴。其中，所述框架可以为以所述第一角度倾斜设置的第三倾斜框架。 所述第一角度可以为比所述第二角度小的角度。 所述第一角度可以为约0.05°至约5°之间的角度。 所述第二角度可以为约5°至约10°之间的角度。 所述第一液体为化学制品，所述第二液体可以为清洗液。 所述化学制品可为显影液。 另外，本专利技术提供一种基板处理方法。 本专利技术一实施例的基板处理方法包括:第一处理步骤，向水平状态的基板供给第一液体，对基板进行处理；第二处理步骤，将供有所述第一液体的所述基板变换成相对于水平面形成第一角度，并输送所述基板；以及第三处理步骤，在所述第二处理步骤之后向所述基板供给第二液体，将所述基板变换成相对于水平面形成第二角度，并输送所述基板的同时，对所述基板进行处理。 在所述第二处理步骤及所述第三处理步骤之间还可包括，向相对于水平面以所述第一角度被输送的所述基板上供给所述第二液体的步骤。 所述第一角度可以比所述第二角度小。 所述第一角度可以为约0.05°至约5°之间的角度。 所述第二角度可以为约5°至约10°之间的角度。 所述第一液体为化学制品，所述第二液体可以为清洗液。 所述化学制品可为显影液。 有益.效果 根据本专利技术的一实施例，能够提供一种提高显影及清洗效率的基板处理装置。 本专利技术的效果并不局限于上述效果，本专利技术所属
的具有通常知识的技术人员能够通过说明书及附图清楚地理解没有言及的效果。 【专利附图】【附图说明】 图1为表示本专利技术一实施例的基板处理装置的图。 图2为表示图1的第一输送单元的图。 图3为表示图1的第一倾斜变换框架的图。 图4至图8为按顺序表示用图1的基板处理装置对基板进行处理过程的图。 图9为表示根据其它实施例的基板处理装置的图。 图10至图15为按顺序表示用图9的基板处理装置对基板进行处理过程的图。 【具体实施方式】 本说明书中所记载的实施例是为了向本专利技术所属
的具有通常知识的技术人员详细说明本专利技术的技术思想而提供，因此本专利技术不局限于本说明书中所记载的实施例，本专利技术范围可解释为包括不脱离本专利技术思想的修改例或变形例。另外，本说明书中所使用的术语和附图是为了便于对本专利技术进行说明，因此本专利技术并不局限于本说明书中所使用的术语和附图。另外，在说明本专利技术的过程中，当判断对相关公知结构或功能的具体说明会使本专利技术的宗旨模糊时，将省略对其的详细说明。 在本实施例中，例举了用于平板显示面板制造的基板S对基板S进行说明。与之不同，基板S也可为用于半导体芯片制造的晶片。另外在本实施例中，还对基板S的显影及清洗处理工艺进行说明。但本专利技术可应用在将光刻胶供给到输送的基板S上并进行回收、对基板S进行清洗处理的工艺的多种结构及多种工艺的装置中。 图1为表示本专利技术一实施例的基板处理装置的截面图。参考图1，基板处理装置10实施对基板进行显影处理的工艺。基板处理装置10具有第一室100、第二室200及第三室300。在此，将第一室100、第二室200及第三室300的排列方向称为第一方向12。另外，从上部俯视时与第一方向12垂直的方向称为第二方向14,将与第一方向12和第二方向14垂直的方向称为第三方向16。 第一本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种基板处理装置，包括：第一室，其具有以水平状态搬送基板的第一输送单元，及向所述基板供给第一液体的第一喷嘴；第二室，其沿第一方向配置于所述第一室的后方，具有能在水平状态和第一倾斜状态间进行转换，并搬送所述基板的第二输送单元；第三室，其沿所述第一方向配置于所述第二室的后方，具有能够在所述第一倾斜状态和第二倾斜状态之间进行转换，并搬送所述基板的第三输送单元。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：金镇浩，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。