本发明专利技术公开了一种含硼的TFT-LCD基板玻璃的原料配方，关键在于：所述的玻璃的原料配方中各化学组分的质量百分含量为：SiO257~65%，Al2O314~22%，B2O33~12%，MgO5~10%，SrO0~5%，稀土金属氧化物 0.3~5%，上述稀土金属氧化物为氧化镧、或氧化钇、或氧化铈、或氧化钐、或氧化铒、或上述五种物质中两种或两种以上的组合物。本发明专利技术通过引入0.3-5wt%的稀土金属氧化物，硼挥发的问题得到控制，硼挥发量从12-15%降低到6-9%，玻璃得率>96%。再者玻璃的性能得到很大改善，50-350℃的热膨胀系数为30-37×10-7/℃，应变点在705℃以上，熔化温度低于1630℃。
【技术实现步骤摘要】
-种含棚的TFT-LCD基板玻璃的原料配方
本专利技术属于玻璃生产
，涉及一种适用于制作平面显示器件及平面照明器 件，特别适合于低温多晶娃薄膜晶体管液晶显示器基板玻璃、有机电激发光显示器基板玻 璃W及有机电激发光照明器件基板玻璃的原料配方。
技术介绍
进入21世纪W来，平板显示技术得到迅猛发展，并逐步取代了传统的 CRT( Cathode ray tube,阴极射线管）型显示产品，在众多的新型平板显示技术中， TFT-LCD (Thin filmtransistor Iiquidcrystal display,薄膜晶体管液晶显示器，又称为 AM-LCD(Activematrix Iiquidcrystal display,有源矩阵型液晶显示器））成为主流的彩 色平板显示技术，TFT-LCD因其有效显示尺寸大、清晰度高、重量轻、环保性能好等优势逐步 受到消费者的认可，广泛应用于数显手表、手机、数字播放器（如MP4、MP5等）、数码照相机、 车载导航仪等小型终端显示设备W及电视、笔记本电脑、台式机显示器等。 TFT-LCD基板玻璃是TFT-LCD显示器面板的前后两片关键玻璃材料，分别用作薄 膜晶体管阵列的底板（TFT array backplane)和彩色滤光片（CF, color filter),而基板 玻璃是TFT-LCD显示器面板的重要组成部分，不仅在TFT-LCD面板成本中所占比例大（约 为189T20%)，而且对显示器产品性能的影响也十分巨大，显示器的分辨率、透光率、重量及 视角等关键技术指标都与基板玻璃密切相关，TFT-LCD面板的性能和质量在很大程度上取 决于基板玻璃，目前基板玻璃成为TFT-LCD发展的主要制约因素。 TFT-LCD生产方法主要有溢流下拉法、笛金下拉法、浮法。烙塞规模都很小，烙化量 在5?30t/d。烙化方式除采用天然气外，还必须增加电助烙系统。为了减少玻璃中瘡瘡、 气泡等缺陷，提高玻璃的质量，烙塞配有笛金系统（澄清器、揽拌器、冷却器及供料管等）， 经过高温烙制的玻璃液，流入笛金系统经澄清、均化后在成形装置形成玻璃板。 TFT-LCD基板玻璃是在测铅娃酸盐玻璃的基础上发展起来的，加入B203调节玻璃 的性能，是玻璃组成中不可缺少的组分，但是在玻璃烙制过程中测、氣，W氣娃酸（HsSiFe)、 氨氣酸（HF)和氣测酸盐的形式挥发，测挥发量在12-15%，不但影响玻璃成分的均一性和玻 璃的使用性能，而且会污染环境，可见，降低TFT-LCD液晶玻璃基板生产过程中测挥发，成 为人们关注的焦点。
技术实现思路
本专利技术为了降低TFT-LCD基板玻璃生产过程中的测挥发，提供了一种含测的 TFT-LCD基板玻璃的原料配方，通过在原料配方中添加稀±元素，W降低含测玻璃烙化过程 中的测挥发量，进而降低了玻璃烙化温度，提高了玻璃性能。 本专利技术采用的技术方案是；一种含测的TFT-LCD基板玻璃的原料配方，关键在于： 所述的玻璃的原料配方中各化学组分的质量百分含量为： Si〇2 5 广 65〇/〇， Al2〇3 14 ?22〇/〇， B203 3 ?12〇/〇， MgO 5 ?10〇/〇， SrO 0 ?5〇/〇， 稀±金属氧化物 0. 3^5%， 上述稀±金属氧化物为氧化铜、或氧化纪、或氧化铺、或氧化衫、或氧化巧、或上述五种 物质中两种或两种W上的组合物。 优选的，Si化的质量百分含量为59^62%。 优选的，AlaA的质量百分含量为16*20%。 优选的，b2〇3的质量百分含量为fn〇%。 优选的，MgO的质量百分含量为6、％。 优选的，SrO的质量百分含量为广3%。 优选的，稀±金属氧化物的质量百分含量为0. 5^3%。 更佳优选的，稀±金属氧化物的质量百分含量为0.扩2. 8%。 本专利技术的有益效果是：通过引入0. 3-5wt%的稀±金属氧化物，测挥发的问题得 到控制，测挥发量从12-15%降低到6-9%，玻璃得率>96%。再者玻璃的性能得到很大改善， 50-35(TC的热膨胀系数为30-37X 1(TV°C，应变点在705C W上，烙化温度低于163(TC。 【具体实施方式】 W下对本专利技术的玻璃配方中可含有的成分进行说明，各成分的含有率W重量百分 比表示。 Si化是构成玻璃骨架的成分，Si化含量较高，耐化学性和机械强度会增加，应变点 增高，玻璃的高温粘度增加，Si化过多，就难W得到料性长的玻璃。Si化含量较低不易形成 玻璃，应变点下降，膨胀系数增加，耐酸性下降，耐碱性下降。Si化含量选择57-65wt%，更优 选范围在59-62wt〇/〇。 AI2O3可W改善玻璃化学稳定性降低玻璃析晶倾向，同时提高弹性模量的成分。 Als化含量过多，玻璃难W烙制、料性短，Als化含量较低，玻璃容易析晶，机械强度较低不利 于成型。本专利技术引入14-22wt%的AI2O3,优选AI2O3含量为16-20wt〇/〇。 B2O3是用于提高烙制性能，降低玻璃粘度。另一方面降低比重、提高耐BHF性、提 高玻璃的烙解性、使玻璃不易失透、且可减小膨胀系数的成分，是必需成分。本专利技术引入 3-12wt% 的 B2O3,优选 6-10wt%B2〇3。 MgO有利于玻璃的烙制，提高玻璃的稳定性，抑制玻璃析晶倾向，MgO具有不降低 应变点的情况下降低高温粘度，使玻璃易于烙化的特点。本专利技术选取了 5-10wt%Mg0,优选 6-9wt%Mg0。 SrO的摩尔含量为0-5%，作为助烙剂和防止玻璃出现析晶，提高玻璃的折射率，女口 果含量过多，玻璃密度会太高，导致产品的质量过重。所W SrO的含量确定为1-3%。 稀±金属氧化物氧化铜Las化、或氧化纪、或氧化铺、或氧化衫、或氧化巧可W显著 提高玻璃的弹性模量和应变点，同时可W降低玻璃的烙化温度。W氧化铜Las化为例，本发 明添加La2化后，稀±元素La的离子势（2. 542-2. 828)较碱±金属离子的更大，测酸在加热 的过程中，生成铜的不同类型测酸盐，LaB化和La炬〇2)3,从而降低测的挥发。具体实施时， 稀±金属氧化物可W选用氧化铜La2〇3、或氧化纪、或氧化铺、或氧化衫、或氧化巧中的一种 或一种W上的组合物，稀±金属氧化物选取范围为0. 3-5wt%，优选0. 5-3wt%。 具体实施时；按表1、表2中所列的各个实施例称量各氧化物，测试样品制备步骤 为；称量-混合-烙融-揽拌-均匀化-成型-退火-加工-性能测试。 具体步骤；按照表1、表2中所列的各个实施例称量各氧化物，充分混合，使其均 匀，将混合料倒入巧巧中，高温炉下161(TC -164(TC下保温8-12h。为了使玻璃成分均匀，高 温下使用笛金棒揽拌。将烙制好的玻璃液降温至成型所需要的温度范围，制作出平面显示 器需要的玻璃基板的厚度，再对成型的玻璃基板进行简单的冷加工处理，最后对玻璃基板 的基本物理特性进行测试。可分别得到玻璃的含测量、玻璃得率、热膨胀系数、应变点、液相 温度、高温粘度、弹性模量、密度、光学透过率等特性数据。 表1、表2中的实施例所列玻璃性质按照玻璃领域常用的技本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种含硼的TFT‑LCD基板玻璃的原料配方，其特征在于：所述的玻璃的原料配方中各化学组分的质量百分含量为：SiO2 57~65%，Al2O3 14~22%，B2O3 3~12%，MgO 5~10%，SrO 0~5%，稀土金属氧化物 0.3~5%，上述稀土金属氧化物为氧化镧、或氧化钇、或氧化铈、或氧化钐、或氧化铒、或上述五种物质中两种或两种以上的组合物。
【技术特征摘要】
1. 一种含硼的TFT-LCD基板玻璃的原料配方，其特征在于：所述的玻璃的原料配方中 各化学组分的质量百分含量为： Si02 57?65%， A1203 14?22%， B203 3 ?12%， MgO 5?10%， SrO 0?5%， 稀土金属氧化物 〇. 3?5%， 上述稀土金属氧化物为氧化镧、或氧化钇、或氧化铈、或氧化钐、或氧化铒、或上述五种 物质中两种或两种以上的组合物。2. 根据权利要求1所述的一种含硼的TFT-LCD基板玻璃的原料配方，其特征在于：Si02的质量百分含量为59?62%。3. 根据权利要求1所述的一种含硼的TFT-LCD基板玻璃的原料配方，其特征在于： A1203的质量百分含量为1...
【专利技术属性】
技术研发人员：徐兴军，沈玉国，张广涛，李俊锋，闫冬成，王丽红，
申请(专利权)人：成都泰轶斯科技有限公司，
类型：发明
国别省市：四川;51
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