本实用新型专利技术公开了一种多面体石制或玻璃工艺制品的抛光装置，包括主控制系统、光电检测装置、纵向位移控制系统和机头、滑块和压力控制装置。本实用新型专利技术适用在对多面体石制或玻璃工艺制品进行精确抛光，通过本实用新型专利技术，一可免去人工抛光工序，真正实现工业化；二是通过压力控制系统能实现对抛光压力的精确控制，从而保证各石制或玻璃工艺制品的抛光精度，又不会损害原产品的形状；三是该实用新型专利技术及装置原理简单，节约成本。
【技术实现步骤摘要】
—种多面体石制或玻璃工艺制品的抛光装置
本技术涉及一种石制或玻璃工艺制品的抛光方法及装置，属于机电控制
。
技术介绍
随着社会的发展，人们的生活水平越来越高，对石制或玻璃工艺制品的需求量也越来越大，这大大促进了该行业的发展，然目前的石制或玻璃工艺制品的表面质量的抛光方法却不能满足现阶段的需求，传统的抛光方法主要采用人工，然对工人的要求非常高，且不能实现工业化，目前机械加工却不能实现对其精确控制加工，使得加工的产品抛光精度不高，有时甚至损害工业品，，目前在对石制或玻璃工艺制品的抛光主要采用人工和部分机械加工，因此目前的技术方案很不理想。
技术实现思路
本技术的目的在于，提供一种控制简单，操作方便，能自动实现多等级抛光的石制或玻璃工艺制品的抛光方法及装置，以解决目前传统抛光方法中通用性不好，抛光质量较差的的问题，从而克服现有技术的不足。 本技术的技术方案: 一种多面体石制或玻璃工艺制品的抛光装置，包括主控制系统、光电检测装置、纵向位移控制系统和机头，其中设有滑块和压力控制装置。 前述的多面体石制或玻璃工艺制品的抛光装置中，压力控制装置由连接块、卡架、光滑轴杆、弹簧、挡块、偏心轮和压力电机构成，其中连接块与滑块连接，卡架与连接块固定为一整体，光滑轴杆横穿过卡架，弹簧与挡块设在卡架内并套在光滑轴杆上，偏心轮设在挡块下方，压力电机与偏心轮连接。 前述的多面体石制或玻璃工艺制品的抛光装置中，滑块由纵向位移控制系统控制，机头内框可套在滑块凸起中，并滑块和压力控制装置通过导轨连接但不相互固定。 前述的多面体石制或玻璃工艺制品的抛光装置中，所述压力电机在加工工序中是以加速度曲线为S曲线驱动。 与现有技术相比，本技术适用在对多面体石制或玻璃工艺制品进行精确抛光，通过本技术，一可免去人工抛光工序，真正实现工业化，；二是通过压力控制系统能实现对抛光压力的精确控制，从而保证各石制或玻璃工艺制品的抛光精度，又不会损害原产品的形状；三是该方法及装置原理简单，节约成本。 【附图说明】 图1是本技术的结构示意图1 ; 图2是本技术的结构示意图2 ； 图3是本技术中压力控制系统的主视图； 图4是本技术中压力控制系统的后视图； 图5是本技术中机头与滑块的连接方式示意图。 附图中的标记为:1-主控制系统、2-光电检测装置、3-纵向位移控制系统、4-机头、4.1-机头内框、5-滑块、5.1-滑块凸起、6-压力控制装置、6.1-连接块、6.2-卡架、6.3-光滑轴杆、6.4-弹簧、6.5-挡块、6.6-偏心轮、6.7-压力电机、7-导轨、8-抛光盘。 【具体实施方式】 下面结合附图对本技术作进一步的详细说明，但不作为对本技术的任何限制。 本技术是根据下述的一种石制或玻璃工艺制品的抛光方法所构建的，该方法是过光电检测器检测到的触发信号传入主控制系统，与主控制系统中已输入参数组合运算，再通过主控制系统对压力调节系统输出指令，压力调节系统根据输出指令对多面体石制或玻璃工艺制品表面施加对应的抛光压力。 其中所述压力调节系统所采用的方法是通过其内部的偏心装置偏转角度的大小来调节弹簧的压缩量，而弹簧压缩量量与抛光压力成正比，从而实现对抛光压力的控制，而所述多面体石制或玻璃工艺制品可为钻石、宝石，人造宝石和玻璃制品。 根据上述方法构成的多面体石制或玻璃工艺制品的抛光装置，如图1和2所示:包括主控制系统1、光电检测装置2、纵向位移控制系统3和机头4，滑块5和压力控制装置6。 其中所述压力控制装置6，如图3和4所示:压力控制装置6由连接块6.1、卡架6.2、光滑轴杆6.3、弹簧6.4、挡块6.5、偏心轮6.6和压力电机6.7构成，其中连接块6.1与滑块5用螺钉连接，卡架6.2与连接块6.1固定为一整体，光滑轴杆6.3横穿过卡架6.2，弹簧6.4与挡块6.5设在卡架6.2内并套在光滑轴杆6.3上,偏心轮6.6设在挡块6.5下方，压力电机6.7与偏心轮6.6连接。 其中滑块5由纵向位移控制系统3控制，机头内框4.1可套在滑块凸起5.1中且可以自由上下移动，并滑块5和压力控制装置6通过导轨7连接但不相互固定，所述压力电机6.7在加工工序中是以加速度曲线为S曲线驱动。具体方法原理如下: 一、滑块5与机头4通过轨道7可实现相对滑动，而滑块5由纵向位移控制系统3控制控制，机头内框4.1可套在滑块凸起5.1中，固当纵向位移控制系统3没控制时，机头4停在滑块5内框的下边，当纵向位移控制系统3控制滑块5向下运动，机头4靠自身重量随着滑块5向下运动，当机头4接触到抛光盘8时，因有抛光盘8的阻力，滑块5继续由纵向位移控制系统3控制向下滑动，而机头4不动，此时机头4与滑块5通过轨道7为相对滑动直到滑块内框的上边接触到机头；当纵向位移控制系统3控制滑块5向上运动时，通过滑块内框下边可把机头提起来。 二、当机头4随着滑块5缓慢下降并机头4接触到抛光盘8，进行抛光前，压力调节电机6.7驱动偏心轮6.6回转一定角度具体值根据进行设备调试时输入的参数确定，同时挡块6.5上升一定高度,光滑轴杆6.3与上升同样高度,此时光滑轴杆6.3与机头4分离，当机头4与抛光盘8接触时，机头4向下的运动受阻，滑块5继续移动。此时，弹簧6.4的弹力没有作用在机头4上，从而加在机头4上的力主要有机头本身的重力mg、导轨的阻力f可不计和抛光盘的反作用力F’，由阻力f可不计，所以F' ^ mg。 当机头4与滑块5的相对位足以触发光电检测装置2时，光电检测装置2检测到信号，并送到主控制系统I中。主控制系统I收到信号后。将与此相关的数据临时保存。 三、当主控制系统I收到光电检测装置2的触发信号后，根据设备调试时输入的参数与前面说的偏心轮回转的一定角度对应，按主控制系统I算法指令纵向位移控制系统3继续运动，到达预定点时停止。 在纵向位移控制系统3从主控制系统I收到光电检测装置2的触发信号至到达预定点期间，光滑轴杆6.3与机头4的部分接触，此时光滑轴杆6.3与机头4变成了一整体无相对运动，这时，相当于纵向位移控制系统3的驱动力通过弹簧6.4间接作用在了机头4上，从而加在机头4上的力主要有机头4本身的重力mg、抛光盘8的反作用力F’和弹簧6.4的弹力F，所以F' = mg+F。故变化的力只有弹力F与反作用力F’，且力F’随力F的变化而变化。而反作用力F’是抛光盘8作用在机头4上确切地说，应该是作用在被加工的石制或玻璃工艺制品上的力。因此，通过调节偏心轮6.6回转角度设备调试时输入的参数就可以调节纵向位移控制系统3从光滑轴杆6.3与机头4的部分接触至纵向位移控制系统3到达预定点期间在轴向上的位移，继而调节弹簧的压缩量，从而调节弹力F与反作用力F’。也就是说，在对石制或玻璃工艺制品抛光时，抛光压力得到了控制。 四，压力调节电机6.7若没有加减速过程，在电机不失步的情况下，电机的速度将处在一个非常低的速度环境下，有时候在带负载时甚至不可能，这就与我们的提高工作率的思想相违背了。 当采用直线加速一匀加速时，与没有加减速过程相比较，速度有很大提升，但在保证电机不失步的情况下，加减速本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种多面体石制或玻璃工艺制品的抛光装置，包括主控制系统（1）、光电检测装置（2）、纵向位移控制系统（3）和机头（4），其特征在于：设有滑块（5）和压力控制装置（6）,压力控制装置（6）由连接块（6.1）、卡架（6.2）、光滑轴杆（6.3）、弹簧（6.4）、挡块（6.5）、偏心轮（6.6）和压力电机（6.7）构成，其中连接块（6.1）与滑块（5）连接，卡架（6.2）与连接块（6.1）固定为一整体，光滑轴杆（6.3）横穿过卡架（6.2），弹簧（6.4）与挡块（6.5）设在卡架（6.2）内并套在光滑轴杆（6.3）上，偏心轮（6.6）设在挡块（6.5）下方，压力电机（6.7）与偏心轮（6.6）连接。
【技术特征摘要】
1.一种多面体石制或玻璃工艺制品的抛光装置，包括主控制系统(I)、光电检测装置(2)、纵向位移控制系统(3)和机头(4)，其特征在于:设有滑块(5)和压力控制装置(6)，压力控制装置(6)由连接块(6.1)、卡架(6.2)、光滑轴杆(6.3)、弹簧(6.4)、挡块(6.5)、偏心轮(6.6)和压力电机(6.7)构成，其中连接块(6.1)与滑块(5)连接，卡架(6.2)与连接块(6.1)固定为一整体,光滑轴杆(6.3)横穿过卡架(6.2),弹簧(6.4)与挡块(6.5)设在卡架(...
【专利技术属性】
技术研发人员：李坤学，
申请(专利权)人：惠水县昶达数控有限公司，
类型：新型
国别省市：贵州;52
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