本发明专利技术涉及超声定位技术领域,尤其涉及一种超声波手写笔倾斜校准方法及系统,该方法包括:接收超声波手写笔上的第一超声波发射器发出的第一超声波信号和第二超声波发射器发出的第二超声波信号;将第一超声波信号和第二超声波信号进行分离,并分别计算出第一超声波发射器的第一坐标和第二超声波发射器的第二坐标;根据第一坐标、第二坐标、第一超声波发射器和第二超声波发射器之间预设的距离计算出超声波手写笔的倾斜角度;根据倾斜角度对超声波手写笔的笔尖定位精度进行校准,本发明专利技术通过对两个超声波发射器发射的超声波信号进行处理,计算出超声波手写笔的倾斜方向和倾斜角度,并加以补偿,减少了定位误差,提高了超声波手写笔倾斜时的定位精度。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术涉及超声定位
,尤其涉及一种超声波手写笔倾斜校准方法及系统,该方法包括:接收超声波手写笔上的第一超声波发射器发出的第一超声波信号和第二超声波发射器发出的第二超声波信号;将第一超声波信号和第二超声波信号进行分离,并分别计算出第一超声波发射器的第一坐标和第二超声波发射器的第二坐标;根据第一坐标、第二坐标、第一超声波发射器和第二超声波发射器之间预设的距离计算出超声波手写笔的倾斜角度;根据倾斜角度对超声波手写笔的笔尖定位精度进行校准,本专利技术通过对两个超声波发射器发射的超声波信号进行处理,计算出超声波手写笔的倾斜方向和倾斜角度,并加以补偿,减少了定位误差,提高了超声波手写笔倾斜时的定位精度。【专利说明】一种超声波手写笔倾斜校准方法及系统
本专利技术涉及超声定位
,尤其涉及一种超声波手写笔倾斜校准方法及系 统。
技术介绍
现有的超声波手写笔采用超声定位,当超声波手写笔倾斜时,对定位的精度影响 较大,倾斜角度越大对精度的影响就越大。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提出一种超声波手写笔倾斜校准方法及系统,提高了超声波手 写笔倾斜时的定位精度。 为达此目的,本专利技术采用以下技术方案: -种超声波手写笔倾斜校准方法,包括: 接收超声波手写笔上的第一超声波发射器发出的第一超声波信号和第二超声波 发射器发出的第二超声波信号; 将所述第一超声波信号和所述第二超声波信号进行分离,并分别计算出所述第一 超声波发射器的第一坐标和所述第二超声波发射器的第二坐标; 根据所述第一坐标、所述第二坐标、所述第一超声波发射器和所述第二超声波发 射器之间预设的距离计算出超声波手写笔的倾斜角度; 根据所述倾斜角度对所述超声波手写笔的笔尖定位精度进行校准。 其中,所述倾斜角度的计算方法为: 所述第一坐标记为^0,¥0,20),所述第二坐标记为:(乂1,¥1,21),所述第一超声 波发射器和所述第二超声波发射器之间预设的距离记为:D,则,超声波手写笔与X轴的夹 vq_Viγη一Yλ 角为:cosα二一^―,超声波手写笔与Y轴的夹角为:cos/?二一^-,超声波手写笔与 , Ζ0-Zl Z轴的夹角为:rosy= -^。 其中,所述根据所述倾斜角度对所述超声波手写笔的笔尖定位精度进行校准的步 骤具体为: 当所述第一超声波发射器比所述第二超声波发射器离所述笔尖近时,所述第一 超声波发射器与所述笔尖间的距离记为出,校准后的笔尖坐标记为 :^2,¥2,22),则乂2 = XO+Hcosα,Y2 =YO+Hcosβ,Z2 =ZO+Hcosγ。 其中,在所述计算出超声波手写笔的倾斜角度步骤之后,还包括: 根据所述第一坐标和所述第二坐标的具体值计算出所述超声波手写笔的倾斜方 向。 一种超声波手写笔倾斜校准系统,包括:主机端和超声波手写笔,所述超声波手写 笔包括第一超声波发射器和第二超声波发射器; 所述第一超声波发射器,用于发射第一超声波信号; 所述第二超声波发射器,用于发射第二超声波信号; 所述主机端,用于接收并分离所述第一超声波信号和所述第二超声波信号;计算 所述第一超声波发射器的第一坐标和所述第二超声波发射器的第二坐标;计算出超声波手 写笔的倾斜角度;并根据所述倾斜角度对所述超声波手写笔的笔尖定位精度进行校准。 其中,所述第一超声波发射器设置于所述超声波手写笔的笔头端,所述第二超声 波发射器设置于所述超声波手写笔的笔尾端。 其中,所述第一超声波发射器和所述第二超声波发射器皆设置于所述超声波手写 笔的笔头端,所述第一超声波发射器和所述第二超声波发射器之间相隔预设的距离。 其中,所述第一超声波发射器和所述第二超声波发射器皆设置于所述超声波手写 笔的笔尾端,所述第一超声波发射器和所述第二超声波发射器之间相隔预设的距离。 其中,所述主机端分时接收所述第一超声波信号和所述第二超声波信号。 本专利技术的有益效果为:一种超声波手写笔倾斜校准方法及系统,该方法包括:接 收超声波手写笔上的第一超声波发射器发出的第一超声波信号和第二超声波发射器发出 的第二超声波信号;将所述第一超声波信号和所述第二超声波信号进行分离,并分别计算 出所述第一超声波发射器的第一坐标和所述第二超声波发射器的第二坐标;根据所述第一 坐标、所述第二坐标、所述第一超声波发射器和所述第二超声波发射器之间预设的距离计 算出超声波手写笔的倾斜角度;根据所述倾斜角度对所述超声波手写笔的笔尖定位精度进 行校准,本专利技术通过对两个超声波发射器发射的超声波信号进行处理,计算出超声波手写 笔的倾斜方向和倾斜角度,并加以补偿,减少了定位误差,提高了超声波手写笔倾斜时的定 位精度。 【专利附图】【附图说明】 图1是本专利技术实施例一提供的一种超声波手写笔倾斜校准方法流程图。 图2是本专利技术实施例二提供的一种超声波手写笔倾斜校准系统结构图。 图3是本专利技术实施例三提供的一种超声波手写笔倾斜校准系统结构图。 图4是本专利技术实施例四提供的一种超声波手写笔倾斜校准系统结构图。 【具体实施方式】 下面结合图1-图4并通过【具体实施方式】来进一步说明本专利技术的技术方案。 实施例一 图1是本专利技术实施例一提供的一种超声波手写笔倾斜校准方法流程图。 -种超声波手写笔倾斜校准方法,包括: 接收超声波手写笔上的第一超声波发射器发出的第一超声波信号和第二超声波 发射器发出的第二超声波信号; 将所述第一超声波信号和所述第二超声波信号进行分离,并分别计算出所述第一 超声波发射器的第一坐标和所述第二超声波发射器的第二坐标; 根据所述第一坐标、所述第二坐标、所述第一超声波发射器和所述第二超声波发 射器之间预设的距离计算出超声波手写笔的倾斜角度; 根据所述倾斜角度对所述超声波手写笔的笔尖定位精度进行校准。 在本实施例中,通过对两个超声波发射器发射的超声波信号进行处理,计算出超 声波手写笔的倾斜方向和倾斜角度,并加以补偿,减少了定位误差,提高了超声波手写笔倾 斜时的定位精度。 在本实施例中,所述倾斜角度的计算方法为: 所述第一坐标记为(X0,Y0,Z0),所述第二坐标记为:(XI,Yl,Zl),所述第一超声 波发射器和所述第二超声波发射器之间预设的距离记为:D,则,超声波手写笔与X轴的夹 ΥΠ-ΥΛ VH-Vl 角为:cosα=--,超声波手写笔与Y轴的夹角为:cos/? -〇 ,超声波手写笔与 ., ZO-Zl Z轴的夹角为:cosy二一^―。 其中,所述根据所述倾斜角度对所述超声波手写笔的笔尖定位精度进行校准的步 骤具体为: 当所述第一超声波发射器比所述第二超声波发射器离所述笔尖近时,所述第一 超声波发射器与所述笔尖间的距离记为出,校准后的笔尖坐标记为 :^2,¥2,22),则乂2 = XO+Hcosα,Y2 =YO+Hcosβ,Z2 =ZO+Hcosγ。 在本实施例中,在所述计算出超声波手写笔的倾斜角度步骤之后,还包括: 根据所述第一坐标和所述第二坐标的具体值计算出所述超声波手写笔的倾斜方 向。 在本实施例中,将所述超声波手写笔的工作空间本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种超声波手写笔倾斜校准方法,其特征在于,包括:接收超声波手写笔上的第一超声波发射器发出的第一超声波信号和第二超声波发射器发出的第二超声波信号;将所述第一超声波信号和所述第二超声波信号进行分离,并分别计算出所述第一超声波发射器的第一坐标和所述第二超声波发射器的第二坐标;根据所述第一坐标、所述第二坐标、所述第一超声波发射器和所述第二超声波发射器之间预设的距离计算出超声波手写笔的倾斜角度;根据所述倾斜角度对所述超声波手写笔的笔尖定位精度进行校准。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:陆昭,王风,肖功柏,
申请(专利权)人:广东小天才科技有限公司,
类型:发明
国别省市:广东;44
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