本发明专利技术提供一种键盘包括按压元件、导光板、光源及触发基板。按压元件具有透光区。导光板与按压元件相对配置且具有出光区、光萃取区及复数个光萃取点，其中出光区与透光区相对设置，光萃取区为光萃取点所围成的区域。光萃取区的复数个光萃取点彼此接触，且光萃取区与出光区重叠，或者完全不重叠。光源设置导光板的一侧。触发基板设置于按压元件下方。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供一种键盘包括按压元件、导光板、光源及触发基板。按压元件具有透光区。导光板与按压元件相对配置且具有出光区、光萃取区及复数个光萃取点，其中出光区与透光区相对设置，光萃取区为光萃取点所围成的区域。光萃取区的复数个光萃取点彼此接触，且光萃取区与出光区重叠，或者完全不重叠。光源设置导光板的一侧。触发基板设置于按压元件下方。【专利说明】键盘
本专利技术是有关于一种键盘，且特别是有关于一种具有光萃取点的键盘。
技术介绍
传统发光键盘包括导光板及光源。导光板具有数个光萃取点，使光源发射的光线入射至光萃取点后，扩散地出光。然而，光线的行经路径愈远，其光强度愈弱，如此使得光线入射至离光源较远的光萃取点后，扩光效果相对较低，反而导致整体的出光不均匀。
技术实现思路
本专利技术关于一种键盘，旨在进一步改善现有技术中发光键盘整体出光不均匀的问题。 本专利技术公开了一种键盘，该键盘包括:按压元件，具有透光区；导光板，与该按压元件相对配置，且该导光板具有出光区、光萃取区及复数个光萃取点，其中该出光区与该透光区相对设置，该光萃取区为该复数个光萃取点所围成的区域，该光萃取区的该复数个光萃取点彼此接触，该光萃取区与该出光区重叠，或者该光萃取区与该出光区完全不重叠；光源，设置导光板的一侧；以及触发基板，设置于该按压元件下方。 作为优选的方案，该光萃取区的面积大于或等于该出光区的面积。 作为优选的方案，该导光板具有出光面，该光萃取区形成于该导光板的该出光面。 作为优选的方案，该导光板具有下表面，该光萃取区形成于该导光板的该下表面。 作为优选的方案，该导光板具有出光面及与该出光面相对的下表面，该光萃取区中的一些该光萃取点形成于该导光板的该出光面，而该光萃取区中的另一些该光萃取点形成于该导光板的该下表面。 作为优选的方案，形成于该导光板的该出光面的该些光萃取点与形成于该导光板之该下表面的该些光萃取点交错排列。 作为优选的方案，该按压元件为挠性膜。 作为优选的方案，该按压元件包括复数个按压区及复数个该透光区，各个该按压区具有对应的该透光区。 作为优选的方案，该触发基板位触控面板。 作为优选的方案，该触发基板为薄膜开关层。 作为优选的方案，该光萃取区包含沿着远离该光源方向依序排列的第一光萃取区及第二光萃取区，其中，该第一萃取区与对应的该出光区完全不重叠；该第二光萃取区与对应的该出光区完全重叠。 作为优选的方案，该导光板具有相对的出光面与下表面，该光萃取区包含沿着远离该光源方向依序排列的第一光萃取区、第二光萃取区及第三光萃取区，其中，该第一光萃取区与对应的该出光区完全不重叠；该第二光萃取区形成于该导光板的该出光面与该下表面；该第三光萃取区与对应的该出光区完全重叠。 作为优选的方案，该导光板具有相对的出光面与下表面，该光萃取区包含沿着远离该光源方向依序排列的第一光萃取区、第二光萃取区及第三光萃取区，其中，该第一光萃取区与对应的该出光区完全不重叠且形成于该导光板的该出光面；该第二光萃取区与对应的该出光区完全重叠且形成于该导光板的该出光面；该第三光萃取区与对应的该出光区完全重叠且形成于该导光板的该下表面。 作为优选的方案，该导光板具有相对的出光面与下表面，包含沿着远离该光源方向依序排列的第一光萃取区、第二光萃取区及第三光萃取区，其中，该第一光萃取区形成于该导光板的该出光面；该第二光萃取区形成于该导光板的该出光面及该下表面；该第三光萃取区形成于该导光板的该下表面。 作为优选的方案，该按压元件包括:键帽；底板，设置于该键帽下方；升降机构，设置于该触发基板与该键帽之间，该升降机构用以辅助该键帽相对于该底板升降；以及弹性件，设置于该触发基板与该键帽之间，该弹性件用以提供回复力使该键帽复位。 本专利技术还公开了一种键盘，该键盘包括:按压元件，具有透光区；导光板，设置于该按压元件下方，该导光板具有复数个光萃取点，每一光萃取点具有萃取点外缘，该透光区垂直向下投影至该导光板上以定义出出光区，该出光区具有第一外周缘； 其中，该复数个光萃取点紧密排列而使该复数个萃取点外缘相互切齐或部分重叠，该复数个光萃取点所占据的全部区域定义为光萃取区，该光萃取区具有第二外周缘； 其中该光萃取区中心点正对该出光区中心点，该光萃取区与该出光区重叠，且该光萃取区的该第二外周缘至少部分切齐该出光区的该第一外周缘。 本专利技术还公开了一种键盘，该键盘包括:按压元件，具有透光区；导光板，设置于该按压元件下方，该导光板具有复数个光萃取点，每一光萃取点具有萃取点外缘，该透光区垂直向下投影至该导光板上以定义出出光区，该出光区具有第一外周缘； 其中，该些光萃取点排列紧密而使该些萃取点外缘相互切齐或部分重叠，该复数个光萃取点所占据的全部区域定义为光萃取区，该光萃取区具有第二外周缘； 其中，该光萃取区的中心点正对该出光区的中心点，该光萃取区与该出光区重叠，该光萃取区的该第二外周缘至少部分超出该出光区的该第一外周缘外。 本专利技术还公开了一种键盘，该键盘包括:按压元件，具有透光区；导光板，设置于该按压元件下方，该导光板具有复数个光萃取点，每一光萃取点具有萃取点外缘，该透光区垂直向下投影至该导光板上以定义出出光区，该出光区具有第一外周缘； 其中，该复数个光萃取点排列紧密而使该复数个萃取点外缘相互切齐或部分重叠，该复数个光萃取点所占据的全部区域定义为光萃取区，该光萃取区具有第二外周缘； 其中，该光萃取区的中心点正对该出光区的中心点，该光萃取区与该出光区完全未重叠，该光萃取区的该第二外周缘围绕在该出光区的该第一外周缘外。 本专利技术还公开了一种键盘，该键盘包括:按压元件，具有第一透光区及第二透光区；导光板，设置于该按压兀件下方，该导光板具有复数个光萃取点，每一光萃取点具有萃取点外缘，该复数个光萃取点包含复数个第一光萃取点和复数个第二光萃取点，该第一透光区垂直向下投影至该导光板上以定义出第一出光区，该第一出光区具有第一外周缘，该第二透光区垂直向下投影至该导光板上以定义出第二出光区，该第二出光区具有第二外周缘； 光源，设置于邻近该导光板处，该第二透光区及该第一透光区沿着远离该光源方向依序排列； 其中，位于该第一出光区中的该复数个第一光萃取点排列紧密而使该复数个第一萃取点外缘相互切齐或部分重叠，该复数个第一光萃取点所占据的全部区域定义为第一光萃取区，该第一光萃取区具有第三外周缘； 其中，位于该第二出光区中的该复数个第二光萃取点排列紧密而使该复数个第二萃取点外缘相互切齐或部分重叠，该复数个第二光萃取点所占据的全部区域定义为第二光萃取区，该第二光萃取区具有第四外周缘； 其中，该第一光萃取区的中心点正对该出第一出光区的中心点，该第一光萃取区与该第一出光区重叠； 其中，该第二光萃取区的中心点正对该第二出光区的中心点，该第二光萃取区与该第二出光区完全未重叠，该第二光萃取区的该第四外周缘围绕在该第二出光区的该第二外周缘外。 作为可选的方案，该复数个光萃取点包含第一组光萃取点及第一组光萃取点，该第一组光萃取点排列在该导光板上表面，该第二组光萃取点排列在该导光板下表面，于垂直投影方向上，该第一组光萃取点的萃取点外缘切齐或部分重叠于该第二组光萃本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种键盘，其特征在于，该键盘包括：按压元件，具有透光区；导光板，与该按压元件相对配置，且该导光板具有出光区、光萃取区及复数个光萃取点，其中该出光区与该透光区相对设置，该光萃取区为该复数个光萃取点所围成的区域，该光萃取区的该复数个光萃取点彼此接触，该光萃取区与该出光区重叠，或者该光萃取区与该出光区完全不重叠；光源，设置导光板的一侧；以及触发基板，设置于该按压元件下方。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：江英德，支劭祺，赵令溪，
申请(专利权)人：苏州达方电子有限公司，达方电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
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