【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于混合微电路组封装
,具体涉及一种提高镀镍壳体与基板焊接焊透率的一种工艺方法。
技术介绍
自20世纪40年代以来,混合微电路在军事、通信、计算机、汽车、自动化、医疗、工业及消费电子等领域得到了广泛的应用。 近年来,随着微波混合微电路以及功率器件的快速发展,对微电子组封装工艺的要求越来越严格。 对微波混合微电路而言,对驻波和移相精度等参数的要求也非常高,这就要求基板与壳体之间必须有可靠的接地,即对基板与壳体焊接的焊透率要求很高。 对功率器件而言,基板与壳体焊接的焊透率的好坏直接影响功率器件的散热性能,直接决定其可靠性。 采用传统的回流焊工艺,基板与镀镍壳体焊接后仍会出现空洞,致使焊透率达不到要求,直接影响产品的可靠性。本专利技术主要针对镀镍壳体与基板焊接的工艺进行分析、改善,使焊透率达到要求。
技术实现思路
针对现有技术的不足,本设计的目的是提供。 为实现上述目的,本设计是通过以下技术手段来实现的:,其特征在于:包括以下步骤:A、镀镍壳体的预覆锡根据壳体的结构特点,必要时借助于工装将壳体放置于加热平台上,加热平台的温度设置为2300C?250。。,加热3?5分钟;将电烙铁的温度设置为35(T450°C,烙铁头选用劈型,确保烙铁头与壳体表面有充分的接触面,同时保证了操作人员上锡过程快速、平滑,上锡效果良好;在壳体内部需上锡的面上涂覆助焊剂,在壳体上锡处放置焊料,利用烙铁头在上锡面上加热1(Γ20秒,迅速沿着一个方向借助助焊剂的活化作用快速完成表面上锡过程;利用吸锡绳去除上锡面上多余的焊料,完成整 ...
【技术保护点】
一种提高镀镍壳体与基板焊接焊透率的方法,其特征在于:包括以下步骤:A、镀镍壳体的预覆锡根据壳体的结构特点,必要时借助于工装将壳体放置于加热平台上,加热平台的温度设置为230℃~250℃,加热3~5分钟;将电烙铁的温度设置为350~450℃,烙铁头选用劈型,确保烙铁头与壳体表面有充分的接触面,同时保证了操作人员上锡过程快速、平滑,上锡效果良好;在壳体内部需上锡的面上涂覆助焊剂,在壳体上锡处放置焊料,利用烙铁头在上锡面上加热10~20秒,迅速沿着一个方向借助助焊剂的活化作用快速完成表面上锡过程;利用吸锡绳去除上锡面上多余的焊料,完成整个预覆锡过程;B、壳体清洗、烘干将A步骤中处理的壳体放入温度为40~60℃的丙酮溶液中,浸泡15~20分钟后,放置于酒精中并利用毛刷刷洗干净;将壳体放入温度为80~100℃的烘箱中,烘10~15分钟;C、壳体基板焊接将基板背面印刷一层焊锡膏,并放入预涂覆好锡的壳体中,可根据壳体结构的大小、形状选择回流炉焊接或者加热平台焊接,并借助焊接工装对基板施加适当压力,完成焊接;D、清洗、烘干将C步骤中焊接好的壳体与基板组件放入温度为40~60℃的丙酮溶液中,浸泡15~2 ...
【技术特征摘要】
1.一种提高镀镍壳体与基板焊接焊透率的方法,其特征在于: 包括以下步骤: A、镀镍壳体的预覆锡 根据壳体的结构特点,必要时借助于工装将壳体放置于加热平台上,加热平台的温度设置为230。。?250。。,加热3?5分钟; 将电烙铁的温度设置为35(T450°C,烙铁头选用劈型,确保烙铁头与壳体表面有充分的接触面,同时保证了操作人员上锡过程快速、平滑,上锡效果良好; 在壳体内部需上锡的面上涂覆助焊剂,在壳体上锡处放置焊料,利用烙铁头在上锡面上加热1(Γ20秒,迅速沿着一个方向借助助焊剂的活化作用快速完成表面上锡过程; 利用吸锡绳去除上锡面上多余的焊料,完成整个预覆锡过程;...
【专利技术属性】
技术研发人员:吴华夏,洪火锋,何宏玉,李明,夏萍,赵影,王秀平,
申请(专利权)人:安徽华东光电技术研究所,
类型:发明
国别省市:安徽;34
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