双面透明导电性膜及触控面板制造技术

本发明专利技术的课题在于提供双面透明导电性膜及其卷绕体、以及触控面板，所述双面透明导电性膜即使将透明导电层图案化也具有良好的外观，且具有抗粘连性，由此能以低成本制造。本发明专利技术的解决手段是一种双面透明导电性膜，其中，在基材膜的两面依次形成有光学调整层及透明导电层，在所述基材膜与一侧的所述光学调整层之间及所述基材膜与另一侧的所述光学调整层之间的至少一方形成有含有粒子的抗粘连层，所述抗粘连层具有平坦部和起因于所述粒子的隆起部，从所述粒子的最频粒径减去所述抗粘连层的平坦部的厚度而得的值比所述光学调整层的厚度大。

【技术实现步骤摘要】
双面透明导电性膜及触控面板
本专利技术涉及双面透明导电性膜及触控面板。
技术介绍
近年来，由于投影型静电容量式触控面板、矩阵型电阻膜式触控面板能多点输入(多点触控)，因此操作性优异，其需求急速上升。作为这样的触控面板的电极构件，提出了在透明膜基材的两面形成有透明导电性薄膜的双面透明导电性膜。在如上的触控面板中，使用具有图案化了的透明导电层的双面透明导电性膜。虽然从可见光透射率的观点考虑广泛使用铟-锡复合氧化物(ITO)作为透明导电层的材料，但由于其折射率高，因此在将含有ITO的透明导电层图案化时，在透明导电层形成图案的部分(图案形成部)和除去了透明导电层的部分(图案开口部)产生图案的可视性的差异，有时从外部观察图案时外观恶化、或产生色调。为了不使这样的图案引人注意，提出了下述技术：在双面设置有透明导电层的双面透明导电性膜中，在膜基材与透明导电层之间设置光学调整层(专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1：国际公开第2011/065032号
技术实现思路
专利技术要解决的课题在上述技术中，虽然在光学调整层的形成中采用了溅射等干式法，但从利用卷对卷法(ロール·トゥー·ロール方式)的连续生产成为可能且可以实现成本降低的观点考虑，优选湿式涂敷法。但是，卷对卷法的话重合的膜彼此密合而变得不易剥离(所谓的粘连)，根据情况膜发生断裂或产生伤痕而存在生产率降低的可能性。与此相对，为了抑制粘连，可以采用形成在表面形成有凹凸的抗粘连层的对策。但是，若以湿式涂敷法形成光学调整层，则由于涂布液而抗粘连层的隆起消失，不能发挥抗粘连性，有时发生粘连。鉴于上述观点，本专利技术的目的在于提供双面透明导电性膜及其卷绕体、以及触控面板，所述双面透明导电性膜即使将透明导电层图案化，外观也良好，且具有抗粘连性，由此能以低成本制造。解决课题的手段本专利技术人为了解决所述课题而潜心研究，结果发现，通过将抗粘连层的粒子的粒径和光学调整层的厚度设置为特定的关系而能够达成上述目的，从而完成了本专利技术。即，本专利技术提供一种双面透明导电性膜，其中，在基材膜的两面依次形成有光学调整层及透明导电层，在所述基材膜与一侧的所述光学调整层之间及所述基材膜与另一侧的所述光学调整层之间中的至少一方形成有含有粒子的抗粘连层，所述抗粘连层具有平坦部和起因于所述粒子的隆起部，从所述粒子的最频粒径减去所述抗粘连层的平坦部的厚度而得的值比所述光学调整层的厚度大。在该双面透明导电性膜中，以能够以与在基材膜的两面形成的透明导电层的关系分别进行光学设计的方式在基材膜与各透明导电层之间设置了光学调整层，因此即使在将透明导电层图案化的情况下也难以使图案引人注意，能够抑制色调的产生而达成良好的外观。另外，由于将从抗粘连层中所含的粒子的最频粒径减去所述抗粘连层的平坦部的厚度后的值设置为比所述光学调整层的厚度大，因此即使在通过湿式涂布形成光学调整层的情况下抗粘连层的隆起部也不会消失，换言之，变得在光学调整层中也存在起因于下层的抗粘连层的隆起部的隆起，其结果是，能发挥优异的抗粘连性。进一步，由于即使在通过湿式涂布形成光学调整层的情况下该双面透明导电性膜也能维持抗粘连性，因此包括光学调整层的形成在内能够实现卷对卷法的连续生产，从而低成本的制造成为可能。所述光学调整层的厚度优选50nm～300nm。由此，即使在将透明导电层图案化的情况下也可以使图案不易引人注意，可以使外观良好。所述光学调整层优选为通过湿式涂布形成的层。由此，光学调整层的利用卷对卷法的形成成为可能，可以有助于削减制造成本。从所述抗粘连层的隆起部的高度减去所述抗粘连层的平坦部的厚度而得的值优选比所述光学调整层的厚度大。通过采用这样的构成，可以防止通过湿式涂布形成光学调整层时的抗粘连层的隆起部的消失，能发挥出利用卷对卷法的生产时所要求的抗粘连性。双面透明导电性膜的雾度优选5％以下。由此，可以发挥出高透明性、确保良好的可视性。优选所述透明导电层已被图案化，对于该双面透明导电性膜，该透明导电层优选具有形成图案的图案形成部和除去了该透明导电层的图案开口部。通过将透明导电层具体地图案化，可以特别适宜地应用于静电容量式触控面板。将该双面透明导电性膜的透明导电层图案化，对其以俯视方式透视时，两面的图案形成部重叠的双面图案区域的反射率、与一个面为图案形成部且另一个面为图案开口部的单面图案区域的反射率之差的绝对值优选为1％以下。由此，基于图案的有无引起的可视性之差的图案观察被抑制，可以获得外观更好的双面透明导电性膜。所述双面图案区域的反射色调b*优选满足-10≤b*≤0。由此，可以有效抑制双面透明导电性膜中的色调(特别是黄色调)的产生。所述基材膜优选含有环烯烃系树脂。由此，可以使该双面透明导电性膜的透明性进一步提高、实现良好的外观。在本专利技术中，该双面透明导电性膜的长尺寸体也包括卷绕为卷筒状的双面透明导电性膜卷绕体。在本专利技术中，也包括具备该双面透明导电性膜的触控面板。附图说明图1是本专利技术的一个实施方式所涉及的双面透明导电性膜的剖面示意图。图2是本专利技术的其他实施方式所涉及的双面透明导电性膜的剖面示意图。图3是示意性地示出透明导电层的图案的一例的部分透视俯视图。符号说明1基材膜2a、2b抗粘连层3a、3b光学调整层4a、4b透明导电层5粒子10双面透明导电性膜21平坦部22隆起部31平坦部32隆起部O图案开口部P图案形成部TA抗粘连层的厚度TO光学调整层的厚度X双面图案区域Y1、Y2单面图案区域具体实施方式对于本专利技术的一个实施方式，参照附图说明如下。需要说明的是，附图中显示的形态并非实际尺寸比，为了便于说明，有局部放大或缩小来显示的部位。另外，表示本说明书中的上下左右、正反等位置关系的用语只是用于便于说明的用语，都没有限定实际的具体构成的位置关系的意图。<双面透明导电性膜>图1是示意性地表示本专利技术的双面透明导电性膜的一个实施方式的剖面图。双面透明导电性膜10中，在基材膜1的两面依次形成有含有粒子5的抗粘连层2a、2b(以下，也将两者统称为“抗粘连层2”。)、光学调整层3a、3b(以下，也将两者统称为“光学调整层3”。)及透明导电层4a、4b(以下，也将两者统称为“透明导电层4”。)。图1中虽然在基材膜1的两面形成有抗粘连层2a、2b，但也可以仅在基材膜1的上面侧或下面侧中任一侧形成抗粘连层。需要说明的是，关于抗粘连层2、光学调整层3及透明导电层4的构成，由于也可以在另一个面侧采用与基材膜1的一个面侧的构成同样的构成，因此以下主要对图1的基材膜1的上面侧的构成进行说明。抗粘连层2a在表面具有平坦部21及隆起部22。隆起部22由粒子5形成。此处，双面透明导电性膜10中，从粒子5的最频粒径d减去抗粘连层2a的平坦部21的厚度TA而得的值比光学调整层3a的厚度TO大。通过湿式涂布形成光学调整层3a时，抗粘连层2a的平坦部21被光学调整层3a掩埋，隆起部22的高度相对降低，有时抗粘连性消失。双面透明导电性膜10中，由于粒子5的最频粒径d、平坦部21的厚度TA及光学调整层3a的厚度TO以满足特定的关系的方式形成，因此通过湿式涂布形成光学调整层3a时也可以防止抗粘连层2a的隆起部22消失。其结果是，在光学调整层3a的表面也可以使起因于隆起部22的隆起产生，可以发挥良好本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种双面透明导电性膜，其中，在基材膜的两面依次形成有光学调整层及透明导电层，在所述基材膜与一侧所述光学调整层之间及所述基材膜与另一侧所述光学调整层之间中的至少一方形成有含有粒子的抗粘连层，所述抗粘连层具有平坦部和起因于所述粒子的隆起部，从所述粒子的最频粒径减去所述抗粘连层的平坦部的厚度而得的值比所述光学调整层的厚度大。

【技术特征摘要】
2013.05.22 JP 2013-107937;2014.04.16 JP 2014-084361.一种双面透明导电性膜，其中，在基材膜的两面依次形成有光学调整层及透明导电层，在所述基材膜与一侧所述光学调整层之间及所述基材膜与另一侧所述光学调整层之间中的至少一方形成有含有粒子的抗粘连层，所述抗粘连层具有平坦部和起因于所述粒子的隆起部，从所述粒子的最频粒径减去所述抗粘连层的平坦部的厚度而得的值比所述光学调整层的厚度大。2.根据权利要求1所述的双面透明导电性膜，其中，所述光学调整层的厚度为50nm～300nm。3.根据权利要求1所述的双面透明导电性膜，其中，所述光学调整层为通过湿式涂布形成的层。4.根据权利要求1所述的双面透明导电性膜，其中，从所述抗粘连层的隆起部的高度减去所述抗粘连层的平坦部的厚度而...

【专利技术属性】
技术研发人员：高田胜则，桥本尚树，平冈慎哉，猪饲和宏，仓本浩贵，鹰尾宽行，津野直树，梅本彻，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP