一种四节式炭素材料组合坩埚制造技术

技术编号:10925199 阅读:209 留言:0更新日期:2015-01-19 19:23
一种四节式炭素材料组合坩埚,包括炭-炭坩埚(4)、石墨坩埚(5),所述炭-炭坩埚(4)由炭-炭坩埚上段(1)、炭-炭坩埚中段(2)和炭-炭坩埚下段(3)构成,炭-炭坩埚上(1)、炭-炭坩埚中(2)、炭-炭坩埚下(3)圆周方向分别均布有孔径为3~30mm的通孔。本实用新型专利技术结构简单,操作方便,能够有效地减轻去除石英坩埚残体时对组合埚的损伤,延长组合埚的使用寿命;此外,炭-炭坩埚上(1)、炭-炭坩埚中(2)、炭-炭坩埚下(3)圆周方向分别均布有通孔,更有利于辐射热的传递,提高了能量利用率。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种四节式炭素材料组合坩埚,包括炭-炭坩埚(4)、石墨坩埚(5),所述炭-炭坩埚(4)由炭-炭坩埚上段(1)、炭-炭坩埚中段(2)和炭-炭坩埚下段(3)构成,炭-炭坩埚上(1)、炭-炭坩埚中(2)、炭-炭坩埚下(3)圆周方向分别均布有孔径为3~30mm的通孔。本技术结构简单,操作方便,能够有效地减轻去除石英坩埚残体时对组合埚的损伤,延长组合埚的使用寿命;此外,炭-炭坩埚上(1)、炭-炭坩埚中(2)、炭-炭坩埚下(3)圆周方向分别均布有通孔,更有利于辐射热的传递,提高了能量利用率。【专利说明】一种四节式炭素材料组合坩埚
本技术涉及硅单晶炉热场装备技术,尤其涉及一种四节式炭素材料组合坩埚,属于光伏太阳能硅单晶制造
。 技术背景 半导体硅单晶,大约85%是采用直拉(Czochralski)法(简称CZ法)制造。CZ法硅单晶生长过程为:将多晶硅装入石英坩埚内,加热熔化,然后将熔硅稍微降温,给予一定的过冷度,将一支特定晶向的硅单晶体(称做籽晶)与熔体硅接触,通过调整熔体的温度和籽晶向上提升速度,使籽晶放肩长大至目标直径时,调整提升速度,使单晶体以恒定的直径生长,生长过程接近完成时,通过增加晶体的提升速度和调整对埚的供热,使晶体直径渐渐减少形成一个锥体,当锥尖足够小时,晶体就会与熔体脱离,从而完成晶体的生长过程。在单晶硅棒拉制过程中,炉内温度高达1500°C左右,此时,石英坩埚变软,要靠外面的坩埚承托,拉晶后残留的石英坩埚常紧贴外面的承托坩埚内壁。 由于石英坩埚是一次性工装,必须逐炉更换,当坩埚为整体或整圆结构时,虽然拉晶时的整棒率和成晶率较高,但是石英坩埚的去除则较为困难,去除时甚至会损坏坩埚。当坩埚采用多瓣结构时,如石墨坩埚,其力学性能较差,石墨坩埚在高温环境中使用,要承托石英坩埚及原材料的重量,并且处于旋转状态,在外力的作用下容易破裂;多瓣石墨坩埚在使用过程中,其圆度还有可能发生变化,影响拉晶环境的稳定,整棒率和成晶率均受到影响,导致企业生产成本增加;此外,石墨坩埚的壁厚,加热器的热量传导到石英坩埚的少,造成热损失,响应速度较慢,能耗高。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是,克服现有技术存在的上述缺陷,提供一种四节式炭素材料组合坩埚,使用该组合坩埚,既便于清除石英坩埚残体,又能够提高电能的利用效率。 本技术解决其技术问题采用的技术方案是:一种四节式炭素材料组合坩埚,包括炭-炭坩埚、石墨坩埚,其特征在于,所述炭-炭坩埚由炭-炭坩埚上段、炭-炭坩埚中段和炭-炭坩埚下段对接构成。 进一步,所述炭-炭i甘祸由炭-炭复合材料制成,炭-炭复合材料的密度=1.2?1.8g/cm3,炭-炭复合材料的的抗弯强度彡80Mpa。 进一步,所述石墨坩埚由等静压石墨制成,等静压石墨的密度彡1.78g/cm3,等静压石墨的抗弯强度彡35Mpa。 进一步,所述炭-炭坩埚上段、炭-炭坩埚中段、炭-炭坩埚下段圆周方向分别均布有2?150个通孔,孔径为3?30mm,加热器辐射光可以通过通孔直接对石英坩埚加热,使石英坩埚内的硅料快速熔化;此外,拉晶完毕,将组合坩埚取出,石墨坩埚与炭-炭坩埚分离,石英坩埚残体因其底部暴露在外,用钳工锤即可很容易地敲除石英坩埚残体;粘在炭-炭坩埚上的石英坩埚残体,可以用锐器通过炭-炭坩埚上的通孔敲碎而去除。 进一步,所述炭-炭坩埚和/或石墨坩埚的表面有抗氧化涂层,能够提高组合坩埚的抗氧化、抗腐蚀能力,从而提高组合坩埚的使用寿命;所述抗氧化涂层为SiC涂层,涂层厚度=4?100 μ m。 本技术与现有技术多瓣石墨坩埚相比,具有以下优点:(1)能量的利用率高,硅料熔化速度快,熔化时间短;(2)能够方便有效地去除石英坩埚残体;(3)如果其中某一节损坏了,只需更换相应的零件而不需更换整个坩埚,有利于降低生产成本;(4)结构简单,安装拆卸方便。 【专利附图】【附图说明】 图1为本技术四节式炭素材料组合坩埚的结构示意图; 图中:1-炭-炭坩埚上段,2-炭-炭坩埚中段,3-炭-炭坩埚下段,4-炭-炭坩祸,5-石墨樹祸。 【具体实施方式】 以下结合实例对本技术作进一步说明。 实施例1 本实施例包括炭-炭坩埚4,石墨坩埚5,所述炭-炭坩埚4由炭-炭坩埚上段1、炭-炭坩埚中段2和炭-炭坩埚下段3对接构成。 炭-炭?甘祸4由炭-炭复合材料制成,炭-炭复合材料的密度=1.2g/cm3,炭-炭复合材料的的抗弯强度为80Mpa。 石墨坩埚5由等静压石墨制成,等静压石墨的密度=1.78g/cm3,等静压石墨的抗弯强度=35Mpa。 炭-炭坩埚上段1、炭-炭坩埚中段2、炭-炭坩埚下段3圆周方向分别均布有150个通孔,孔径为3mm。 炭-炭坩埚4和石墨坩埚5的表面有抗氧化涂层,抗氧化涂层为SiC涂层,涂层厚度=4 u rn。 工作时,拉晶完毕,将组合坩埚取出,石墨坩埚5与炭-炭坩埚4分离,石英坩埚残体因其底部暴露在外,用钳工锤即可很容易地敲除石英坩埚残体;粘在炭-炭坩埚4上的石英坩埚残体,可以用锐器通过炭-炭坩埚4上的通孔敲碎而去除。 经实践使用,与现有技术的多瓣石墨坩埚相比(其他工艺参数不变),本技术操作方便,硅料熔化速度快,熔化时间可缩短约2h,电能的利用率大大提高;能够方便有效地去除石英坩埚残体;使用寿命由原来的35?40炉,提高到60炉以上;此外,组合埚的圆度好且稳定,相对于多瓣埚拉晶,其整棒率提高4%?9%。 实施例2 本实施例与实施例1的区别仅在于,炭-炭复合材料的密度=1.5g/cm3,炭-炭复合材料的的抗弯强度为10Mpa ;等静压石墨的密度=1.80g/cm3,等静压石墨的抗弯强度=42Mpa ;炭-炭坩埚上段1、炭-炭坩埚中段2、炭-炭坩埚下段3圆周方向分别均布有100个通孔,孔径为6_ ;炭-炭坩埚4和石墨坩埚5的表面的抗氧化涂层SiC涂层的厚度=50 μ mo余同实施例1。 经实践使用,本技术与现有技术的多瓣石墨坩埚相比(其他工艺参数不变),本技术操作方便,硅料熔化速度快,熔化时间缩短了 2.5h,电能的利用率大大提高;能够方便有效地去除石英坩埚残体;使用寿命由原来的35?40炉,提高到60炉以上;此外,组合埚的圆度好且稳定,相对于多瓣埚拉晶,其整棒率提高3%?10%。 实施例3 本实施例与实施例1的区别仅在于,炭-炭复合材料的密度=1.8g/cm3,炭-炭复合材料的的抗弯强度为130Mpa ;等静压石墨的密度=1.82g/cm3,等静压石墨的抗弯强度=48Mpa;炭-炭坩埚上段1、炭-炭坩埚中段2、炭-炭坩埚下段3圆周方向分别均布有2个通孔,孔径为30_ ;炭-炭坩埚4和石墨坩埚5的表面的抗氧化涂层SiC涂层的厚度=100 μ m。余同实施例1。 经实践使用,本技术与现有技术的多瓣石墨坩埚相比(其他工艺参数不变),本技术操作方便,硅料熔化速度快,熔化时间缩短了 1.0h,电能的利用率大大提高;能够方便有效地去除石英坩埚残体;使用寿命由原来的35?40炉,提高到65炉以上;此外,组合埚的圆度好且稳定,相对于多瓣埚拉晶,其整棒率提高4%?11%。 实施例4 本文档来自技高网
...

【技术保护点】
一种四节式炭素材料组合坩埚,包括炭‑炭坩埚(4)、石墨坩埚(5),其特征在于,炭‑炭坩埚由炭‑炭坩埚上段(1)、炭‑炭坩埚中段(2)和炭‑炭坩埚下段(3)对接构成。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:刘俊锋闫卫东戴开瑛崔金
申请(专利权)人:湖南南方搏云新材料有限责任公司
类型:新型
国别省市:湖南;43

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1