一种OLED器件制造技术

技术编号:10909246 阅读:111 留言:0更新日期:2015-01-14 17:08
本实用新型专利技术属于光电显示技术领域,尤其涉及一种OLED器件。本实用新型专利技术所述的OLED器件,包括依次排列的ITO阳极、有机功能层和阴极,所述有机功能层由依次排列的空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层组成,所述阳极与所述空穴注入层相连,所述电子注入层与所述阴极相连,所述空穴传输层和所述发光层之间还有空穴阻挡层提高了安全系数。本实用新型专利技术优点:限制空穴扩散的空穴阻挡层,可以有效地调节载流子的复合区域,保持空穴和电子的平衡,获得所需颜色光的发射。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术属于光电显示
,尤其涉及一种OLED器件。本技术所述的OLED器件,包括依次排列的ITO阳极、有机功能层和阴极,所述有机功能层由依次排列的空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层组成,所述阳极与所述空穴注入层相连,所述电子注入层与所述阴极相连,所述空穴传输层和所述发光层之间还有空穴阻挡层提高了安全系数。本技术优点:限制空穴扩散的空穴阻挡层,可以有效地调节载流子的复合区域,保持空穴和电子的平衡,获得所需颜色光的发射。【专利说明】 —种OLED器件
本技术属于光电显示
,尤其涉及一种0LED器件。
技术介绍
0LED即Organic Light Emitting D1de的英文缩写,译为有机发光二极管。OLED不需背光源、省电、亮度更高、成本更低的特点,使其得到了国内外众多企业的广泛关注。 陆续有厂家把0LED技术应用在数码相机、手机、MP3等数字产品的显示屏幕上,从此0LED显示器的制造和生产呈现出如火如荼、方兴未艾之势。随着0LED技术难点不断被攻克,成本和价格也逐年下降,市场需求也随着迅速升温,应用0LED的终端产品也越来越多。 0LED的发光机理是在外加电场的作用下,电子和空穴分别从正负两极注入有机发光材料,从而在该有机发光材料中进行迁移、复合并衰减而发光。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种新型0LED器件。 本技术的技术方案是: —种0LED器件,包括依次排列的ΙΤ0阳极、有机功能层和阴极,所述有机功能层由依次排列的空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层组成,所述阳极与所述空穴注入层相连,所述电子注入层与所述阴极相连,所述空穴传输层和所述发光层之间还有空穴阻挡层。 优选的,所述空穴阻挡层的厚度为9nm-13nm。 优选的,所述阴极为锂、镁、铝中的任一种。 优选的,所述空穴阻挡层的材料为4,4’,4’ ’ -三(N-3-甲基苯基_N_苯基氨基)三苯胺。 优选的,所述4,4’,4’’-三(^3-甲基苯基-N-苯基氨基)三苯胺的合成原料为4_溴三苯胺。 上述名词的简称如下: 空穴注入层为HIL,空穴传输层为HTL,发光层为EML,电子传输层为ETL,电子注入层EIL,ΙΤ0为铟锡氧化物。 工作原理: 一般来说EML的厚度通常在lOOnm,虽然制备方法简单,但复合发光区靠近金属电极,且电子和空穴注入不平衡。如何有效地解决电子和空穴的复合区远离电极和平衡载流子注入速率问题,是构造器件应考虑的主要问题。而空穴的注入效率要远高于电子的注入效率,从而造成电子和空穴注入的不平衡,不利于激子的形成。本技术采用在HTL和ETL间加入空穴阻挡层来限制空穴的扩散。 本技术优点:限制空穴扩散的空穴阻挡层,可以有效地调节载流子的复合区域,保持空穴和电子的平衡,获得所需颜色光的发射。 【专利附图】【附图说明】 图1为本技术示意图。 图1中的标号为:1-1T0阳极,2-空穴注入层,3-空穴传输层,4-空穴阻挡层,5-发光层,6-电子传输层,7-电子注入层,8-阴极。 【具体实施方式】 下面结合具体实施例,进一步阐述本技术。应理解,这些实施例仅用于说明本技术而不用于限制本技术的范围。此外应理解,在阅读了本技术讲授的内容之后,本领域技术人员可以对本技术作各种修改或改动,这些等价形式同样落于本申请所附权利要求书所限定的范围。 实施例1 一种0LED器件,包括依次排列的ΙΤ0阳极、有机功能层和阴极,所述有机功能层由依次排列的空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层组成,所述阳极与所述空穴注入层相连,所述电子注入层与所述阴极相连,所述空穴传输层和所述发光层之间还有空穴阻挡层。 采用AL为阴极,4,4’,4’ ’ -三(Ν_3_甲基苯基_Ν_苯基氨基)三苯胺为空穴阻挡层,该材料的CAS号为124729-98-2,可以从市面中购买到,但以4-溴三苯胺为原料合成的品质效果较好。 控制空穴阻挡层的厚度为9nm。 此时,空穴阻挡层有效地阻挡了空穴,同时还具有适当的最低未占有分子轨道(LUM0)能级和较高的电子输运能力,以有利于电子的注入,平衡复合区载流子浓度,从而提高器件效率。 同理,本领域的技术人员通过实验可以得出,空穴阻挡层的厚度为10nm、llnm、12nm、13nm时,空穴阻挡层仍然有效地阻挡了空穴。 同理,本领域的技术人员通过实验可以得出,Mg和Li也同样可以作为阴极,并得到较好效果。【权利要求】1.一种OLED器件,包括依次排列的ITO阳极、有机功能层和阴极,所述有机功能层由依次排列的空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层组成,所述阳极与所述空穴注入层相连,所述电子注入层与所述阴极相连,其特征在于:所述空穴传输层和所述发光层之间还有空穴阻挡层。2.如权利要求1所述的OLED器件,其特征在于:所述空穴阻挡层的厚度为9nm-13nm。3.如权利要求1所述的OLED器件,其特征在于:所述阴极为锂、镁、铝中的任一种。4.如权利要求1所述的OLED器件,其特征在于:所述空穴阻挡层的材料为4,4’,4’ ’ -三(N-3-甲基苯基-N-苯基氨基)三苯胺。5.如权利要求4所述的OLED器件,其特征在于:所述4,4’,4’’-三(^3_甲基苯基-N-苯基氨基)三苯胺的合成原料为4-溴三苯胺。【文档编号】H01L51/50GK204102941SQ201420592552【公开日】2015年1月14日 申请日期:2014年10月15日 优先权日:2014年10月15日 【专利技术者】韩爱英, 赵晓宇, 宋文志 申请人:宇瑞(上海)化学有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种OLED器件,包括依次排列的ITO阳极、有机功能层和阴极,所述有机功能层由依次排列的空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层组成,所述阳极与所述空穴注入层相连,所述电子注入层与所述阴极相连,其特征在于:所述空穴传输层和所述发光层之间还有空穴阻挡层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:韩爱英赵晓宇宋文志
申请(专利权)人:宇瑞上海化学有限公司
类型:新型
国别省市:上海;31

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