一种晶振片清洗方法技术

技术编号:10890327 阅读:85 留言:0更新日期:2015-01-08 19:04
本发明专利技术公开了一种晶振片清洗方法,分为以下操作步骤:配置晶振片清洗溶液,将溶液放置于清洗装置中;将晶振片放入清水中进行初步清洗,然后将晶振片放入装好清洗液的清洗装置中,对装置中放入晶振片的部位进行真空处理,然后对放入晶振片的停留时间为3-5个小时,侵泡后捞出用清水清洗,进行晾晒,然后再将晶振片放入酒精中,侵泡3-5分钟,捞出后擦拭干净。通过上述方式,本发明专利技术的一种晶振片清洗方法,能够使使用过后的晶振片经过重新处理,能够再次进行使用,节约成本。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种晶振片清洗方法,其特征在于,分为以下操作步骤:配置晶振片清洗溶液,将溶液放置于清洗装置中;将晶振片放入清水中进行初步清洗,然后将晶振片放入装好清洗液的清洗装置中,对装置中放入晶振片的部位进行真空处理,然后对放入晶振片的停留时间为3‑5个小时,侵泡后捞出用清水清洗,进行晾晒,然后再将晶振片放入酒精中,侵泡3‑5分钟,捞出后擦拭干净。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:陈学兵
申请(专利权)人:苏州普京真空技术有限公司
类型:发明
国别省市:江苏;32

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