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一种全方位按摩洗脚盆制造技术

技术编号:10873247 阅读:157 留言:0更新日期:2015-01-07 18:19
本实用新型专利技术公开了一种全方位按摩洗脚盆,包含有盆体、按摩块、圆弧凸台、小按摩凸台、握柄及盆底凹面组成。本实用新型专利技术设有圆弧凸台,保留足弓的形状,按摩脚底较全方位;圆弧凸台上设有若干小按摩凸台,对足弓敏感皮肤更舒服;把按摩洗脚盆设计成长方体形状,能达到节约用水的目的。

【技术实现步骤摘要】
一种全方位按摩洗脚盆
本技术主要涉及洗脚盆,尤其涉及一种全方位按摩洗脚盆。
技术介绍
在生活中,由于工作压力比较大,容易劳累,睡前用热水泡脚缓解疲劳成为人们的生活习惯。由于现有简单洗脚按摩盆大多为圆形,盆底按摩块统一,按摩块太大,对足弓部位皮肤产生刺痛感,没有突出足弓的形状,达不到理想的按摩效果,所以专利技术一个可以对脚全方位按摩洗脚盆非常有必要。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是,提供一种全方位按摩洗脚盆,设有按摩块和小按摩凸台,可以在泡脚时对脚全方位对脚底按摩。 本技术是通过以下技术方案实现的: 一种全方位按摩洗脚盆,包含有盆体、按摩块、圆弧凸台、小按摩凸台、握柄、盆底凹面。其特征在于:所述的盆体为长方体,盆体上方左右两侧均设有握柄,盆体底部中央位置设有圆弧凸台,圆弧凸台外表面设有若干小按摩凸台,盆体底部平面上设有若干按摩块,小按摩凸台和按摩块上表面均设为光滑的弧面,盆体底面设有一个凹面。 本技术的有益效果是:在原有洗脚按摩盆的基础上增加圆弧凸台,保留足弓的形状,按摩脚底较全方位;圆弧凸台上设有若干小按摩凸台,对足弓敏感皮肤更舒服;把按摩洗脚盆设计成长方体形状,能达到节约用水的目的。 【附图说明】 图1为本技术的结构示意图。 图中:1.盆体、2.按摩块、3.圆弧凸台、4.小按摩凸台、5.握柄、6.盆底凹面。 【具体实施方式】 为了使本技术所实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施例和图示,进一步阐述本技术。 如图所示,一种全方位按摩洗脚盆,包含有盆体1、按摩块2、圆弧凸台3、小按摩凸台4、握柄5、盆底凹面6。其特征在于:所述的盆体I为长方体,盆体I上方左右两侧均设有握柄5,盆体I底部中央位置设有圆弧凸台3,圆弧凸台3外表面设有若干小按摩凸台4,盆体I底部平面上设有若干按摩块2,小按摩凸台4和按摩块2上表面都设为光滑的弧面,盆体I底面设有一个凹面6。 当人在使用本技术时,在盆体I中倒上温度适中的热水,双脚并排放在盆体I中,足弓放在圆弧凸台3上,一边泡脚,一边慢慢活动脚,小按摩凸台4对足弓进行按摩,按摩块2给脚掌和脚跟按摩,所以本技术达到了对脚底全方位按摩。 以上显示和描述了本技术的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解,本技术不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本技术的原理,在不脱离本技术精神和范围的前提下,本技术还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本技术范围内。本技术要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种全方位按摩洗脚盆,包含有盆体、按摩块、圆弧凸台、小按摩凸台、握柄、盆底凹面,其特征在于:所述的盆体为长方体,盆体上方左右两侧均设有握柄,盆体底部中央位置设有圆弧凸台,圆弧凸台外表面设有若干小按摩凸台,盆体底部平面上设有若干按摩块,小按摩凸台和按摩块上表面均设为光滑的弧面,盆体底面设有一个凹面。

【技术特征摘要】
1.一种全方位按摩洗脚盆,包含有盆体、按摩块、圆弧凸台、小按摩凸台、握柄、盆底凹面,其特征在于:所述的盆体为长方体,盆体上方左右两侧均设有握柄,盆体底...

【专利技术属性】
技术研发人员:郭艳刘向红吴灿灿
申请(专利权)人:宿州学院
类型:新型
国别省市:安徽;34

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