本发明专利技术提供一种光学材料用永久膜的制造方法，其对感光性树脂组合物进行曝光并将所述曝光部去除，使其剩余部分硬化而制成永久膜，并且上述感光性树脂组合物含有(A)特定交联性聚合物、(B)1，2-醌二叠氮化合物及(C)溶剂，通过移相部的透射率为0.1％以上、50％以下的半色调相位差掩模，对所述感光性树脂组合物照射选自g射线、h射线及i射线中的活性放射线，对上述树脂进行曝光。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术提供一种光学材料用永久膜的制造方法，其对感光性树脂组合物进行曝光并将所述曝光部去除，使其剩余部分硬化而制成永久膜，并且上述感光性树脂组合物含有(A)特定交联性聚合物、(B)1，2-醌二叠氮化合物及(C)溶剂，通过移相部的透射率为0.1％以上、50％以下的半色调相位差掩模，对所述感光性树脂组合物照射选自g射线、h射线及i射线中的活性放射线，对上述树脂进行曝光。【专利说明】光学材料用永久膜的制造方法、利用所述方法制作的硬化 膜、使用所述硬化膜的有机EL显示装置及液晶显示装置
本专利技术涉及一种光学材料用永久膜的制造方法、利用所述方法制作的硬化膜、使 用所述硬化膜的有机电致发光（Electroluminescence, EL)显示装置及液晶显示装置。
技术介绍
在有机EL显示装置或液晶显示装置等中，就提高亮度、降低消耗电力等观点而 言，设有层间绝缘膜。形成所述层间绝缘膜时，广泛使用感光性树脂组合物，其原因在于：用 以获得必要图案形状的步骤数少，而且可获得充分的平坦性等。 对于如上所述的使用感光性树脂组合物进行图案形成所得的层间绝缘膜，要求其 相对介电常数（relative permittivity)低。另外，近年来，为了以良好的生产性来制造有 机EL显示装置或液晶显示装置，要求感光性树脂组合物的高感度化。作为可应对此种需求 (needs)的材料，提出有在可形成相对介电常数低的层间绝缘膜的主粘合剂中导入有（氟 化）烃基的材料（参照专利文献1)。另外，作为高感度的感光性树脂组合物，例如提出有将 具有缩醛（acetal)结构或缩酮（ketal)结构的粘合剂或特定的碱可溶性树脂与醌二叠氮 化合物组合而成的树脂组合物（参照专利文献2、专利文献3)。 日本专利特开平10-026829号公报 日本专利特开2011-221494号公报 日本专利特开2011-138116号公报 日本专利特开2000-031001号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题 再者，在半导体元件而非如上所述的光学产品的制造中，伴随着其配线等的微细 化而提出了各种加工法。最近，正在开发以在微细化的基础上进一步优化品质为目的的技 术。其中，关于光刻（photo lithography),可列举利用半色调掩模的技术作为最近实现了 实用化者。 图3为用以说明使用半色调掩模的曝光的原理的说明图。如图3所示，在典型的半 色调掩模30中，相对于光透射性的透明基材32,设有将一部分的透射光遮蔽的移相部（相 位变更膜）31。对所述相位变更膜31赋予使所照射的光L3的相位反转的性质。此处，若假 定相位变更膜31为完全遮光性，则光L3大致以图3中的曲线34的曝光强度对被加工基板 照射光。此处，曝光强度曲线34并非矩形而成为正弦曲线（sine curve)。其原因在于：透 过开口部s的光并非完全的直线光，而是以相应的宽幅扩散，在亮暗的边界产生模糊。另一 方面，若尝试仅取出透过相位变更膜31的光的成分，则可如曝光强度曲线35般来表示。辅 助线k表示光的相位上下反转。经分解成所述2个成分的光（曝光强度曲线34、曝光强度 曲线35)由于处于相反相位，故在照射位置一致的区域中所述光的强度被消除。结果，可进 行在亮暗的边界具有更狭窄（sharp)的曝光强度曲线33的分布的曝光。由此得知，根据半 色调掩模，可对感光材料进行与开口部s更一致的并无亮暗模糊的曝光。根据此种作用原 理，为了提高更微细的电路配线的品质，而将半色调掩模应用于其感光材料的曝光（例如 参照上述专利文献4)。 己研究了将利用所述半色调掩模的曝光技术应用于上述光学材料中的层间绝缘 膜的形成。此处所应用的感光性树脂与在制造过程中去除的半导体制造的抗蚀剂不同，要 求其形成永久膜。即，必须在对感光性树脂进行曝光后，不因蚀刻而被去除，而是直接残留 于器件的内部，对应于设备的寿命而长期维持其绝缘性等。因此，在简单地运用适于半导体 制造中的半色调掩模的感光性树脂的情况下，难以称之为可满足上述要求。另一方面，即便 为形成层间绝缘膜（永久膜）的感光性树脂，也未知如上述专利文献1?专利文献3般的通 常的曝光技术中应用的技术是否直接在利用半色调掩模的曝光处理中显示出良好的性能。 本专利技术的目的在于提供一种光学材料用永久膜的制造方法，其在利用上述半色调 掩模的曝光中发挥优异的感光特性，可适宜地形成适于有机EL显示装置或液晶显示装置 的层间绝缘膜（永久膜）。 解决问题的技术手段 本专利技术的上述问题是通过以下手段来解决。 一种光学材料用永久膜的制造方法，其对感光性树脂组合物进行曝光并将曝 光部去除，使其剩余部分硬化而制成永久膜，并且 上述感光性树脂组合物含有（A)特定交联性聚合物、（B) 1，2-醌二叠氮化合物及 (C)溶剂， 所述特定交联性聚合物（A)为 (A-1)含有结构单元（a)及结构单元（b)的共聚物，上述结构单元（a)为具有羧基 的结构单元或具有酚性轻基的结构单元，上述结构单元（b)具有交联基；或 (A-2)含有结构单元（a)的聚合物与含有结构单元（b)的聚合物的组合，上述结构 单元（a)为具有羧基的结构单元或具有酚性羟基的结构单元，上述结构单元（b)具有交联 基， 通过移相部的透射率为0. 1%以上、50%以下的半色调相位差掩模，对所述感光性 树脂组合物照射选自g射线、h射线及i射线中的活性放射线，对上述树脂进行曝光。 如所记载的光学材料用永久膜的制造方法，其中上述结构单元（b)具有选 自缩水甘油基部位、氧杂环丁烷部位及乙烯性不饱和基中的至少一个。 如或所记载的光学材料用永久膜的制造方法，其中上述活性放射线为 将选自g射线、h射线及i射线中的多种混合而成的。 如至中任一项所记载的光学材料用永久膜的制造方法，其中上述感光 性树脂组合物的曝光量为30mJ/cm 2以上、1000mJ/cm2以下。 如至中任一项所记载的光学材料用永久膜的制造方法，其中上述感光 性树脂组合物还含有中空的微粒子。 如至中任一项所记载的光学材料用永久膜的制造方法，其中上述感光 性树脂组合物为化学增幅正型感光性树脂组合物。 如至中任一项所记载的光学材料用永久膜的制造方法，其中相对于上 述感光性树脂组合物100质量份，应用3质量份?20质量份的1,2-醌二叠氮化合物。 如至中任一项所记载的光学材料用永久膜的制造方法，还包括在曝光 后进行热硬化的后烘烤步骤。 一种硬化膜，其是利用如至中任一项所记载的制造方法来制造。 如所记载的硬化膜，其为层间绝缘膜。 -种有机EL显示装置，其具备如或所记载的硬化膜。 -种液晶显示装置，其具备如或所记载的硬化膜。 专利技术的效果 根据本专利技术的光学材料用永久膜的制造方法，可在利用上述半色调掩模的曝光中 发挥优异的感光特性（分辨率等），而且可综合地优化耐溶剂性及防止膜薄化的性能、进而 图案边缘的平坦性，可适宜地形成适于有机EL显示装置或液晶显示装置的层间绝缘膜（永 久膜）。 本专利技术的上述及其他特征及优点将根据以下的记载及随附的图式而进一步明确。 【专利附本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种光学材料用永久膜的制造方法，其为对感光性树脂组合物进行曝光并将所述曝光部分去除，使其剩余部分硬化而制成永久膜的光学材料用永久膜的制造方法，并且所述感光性树脂组合物含有(A)特定交联性聚合物、(B)1，2‑醌二叠氮化合物及(C)溶剂，所述特定交联性聚合物(A)为(A‑1)含有结构单元(a)及结构单元(b)的共聚物，所述结构单元(a)为具有羧基的结构单元或具有酚性羟基的结构单元，所述结构单元(b)具有交联基；或(A‑2)含有结构单元(a)的聚合物与含有结构单元(b)的聚合物的组合，所述结构单元(a)为具有羧基的结构单元或具有酚性羟基的结构单元，所述结构单元(b)具有交联基，通过移相部的透射率为0.1％以上、50％以下的半色调相位差掩模，对所述感光性树脂组合物照射选自g射线、h射线及i射线中的活性放射线，对所述树脂进行曝光。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：佐竹亮，安藤豪，山下史绘，中村秀之，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。