带含有无机微粒的氧化硅膜的玻璃基板的制造方法技术

本发明专利技术提供一种可以根据目标光学特性使用所希望的粒径的无机微粒、且无机微粒的选择范围大的带含有无机微粒的氧化硅膜的玻璃基板的制造方法。在玻璃基板10上涂布含有无机微粒14、烷氧基硅烷的水解产物、水和(聚)乙二醇中任一种或两种的涂布液，形成含有无机微粒的氧化硅膜12；或者，将熔融玻璃成形为玻璃带，对玻璃带进行退火，接着进行切断制造玻璃基板时，在玻璃带上涂布含有无机微粒、烷氧基硅烷的水解产物、水和(聚)乙二醇中任一种或两种的涂布液，形成含有无机微粒的氧化硅膜。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种。
技术介绍
在表面上具有凹凸的玻璃基板由于使入射的光发生散射，因而被用作具有防眩效 果的窗玻璃、具有光取出效果的有机EL元件用玻璃基板、具有光封闭效果的太阳能电池用 覆盖玻璃等。 作为在表面上具有凹凸的玻璃基板，已知有在玻璃基板上的氧化娃膜中含有无机 微粒的玻璃基板。作为该玻璃基板的制造方法，例如，提出了下述方法。 (1)通过将金属氯化物用作原料的热分解法在玻璃基板上形成金属氧化物粒子 后，进一步形成氧化硅膜的方法（参照专利文献1)。 (2)在400?650°C的温度范围的玻璃基板上涂布含有有机聚硅氧烷、无机微粒和 液状介质的涂布液，形成含有无机微粒的氧化硅膜的方法（参照专利文献2)。 现有技术文献 专利文献 专利文献1 :国际公开第03/080530号 专利文献2 :国际公开第2011/155545号
技术实现思路
专利技术所要解决的技术问题 但是，（1)的方法难以控制金属氧化物粒子的粒径。为此，难以得到具有设定的目 标光学性能的玻璃基板。 (2)的方法能够使用符合设定目标的光学性能的所希望的粒径的无机微粒，但由 于有机聚硅氧烷是非极性的，涂布液的液状介质被限定为非极性的。为此，为了使无机微粒 不在非极性的液状介质中凝集，有另外实施疏水化等表面处理的限制。 本专利技术提供一种可以根据目标光学特性使用所希望的粒径的无机微粒、且无机微 粒的选择范围大的。 解决技术问题所采用的技术方案 本专利技术为下述[1]、[2]的专利技术。 [1]在玻璃基板上涂布含有无机微粒、烷氧基硅烷的水解产物、水和（聚）乙二醇 中任一种或两种的涂布液，形成含有无机微粒的氧化硅膜的带含有无机微粒的氧化硅膜的 玻璃基板的制造方法。以下，也将该[1]的制造方法称为本专利技术的实施方式1的方法。 在[1]的专利技术中，涂布上述涂布液时的玻璃基板的温度优选200?650°C。 此外，优选在上述含有无机微粒的氧化硅膜上进一步形成与上述无机微粒折射率 不同的金属氧化物膜。 [2]具有在由熔融玻璃成形而成的玻璃带上涂布含有无机微粒、烷氧基硅烷的水 解产物、水和（聚）乙二醇中任一种或两种的涂布液，形成含有无机微粒的氧化硅膜的工 序，和之后切断玻璃带的工序的。以下， 也将该[2]的制造方法称为本专利技术的实施方式2的方法。 在[2]的专利技术中，涂布上述涂布液时的玻璃带的温度优选200?650°C。 此外，优选在浮法锡槽中将熔融玻璃成形为玻璃带，在浮法锡槽和退火工序之间 或在退火工序中涂布上述涂布液。 此外，优选在玻璃带上的上述含有无机微粒的氧化硅膜上进一步形成与上述无机 微粒折射率不同的金属氧化物膜。 专利技术的效果 如果采用本专利技术的，则可以使 用所希望的粒径的无机微粒，且无机微粒的选择范围较广。 【附图说明】 图1是表示通过本专利技术的制造方法而得的带含有无机微粒的氧化硅膜的玻璃基 板的一例的简单截面图。 图2是表示通过本专利技术的制造方法而得的带含有无机微粒的氧化硅膜的玻璃基 板的另一例的简单截面图。 图3是表示玻璃制造装置的一例的示意图。 【具体实施方式】 本说明书中（聚）乙二醇指乙二醇或聚乙二醇。 本说明书中玻璃基板或玻璃带的温度为涂布涂布液一侧的表面温度。 本说明书中折射率为波长550nm的光的折射率。 本说明书中含有无机微粒的氧化硅膜的膜厚是根据在扫描型电子显微镜下观察 带含有无机微粒的氧化硅膜的玻璃基板的截面而得的像进行计算的，是从玻璃基板上到无 机微粒的顶点的距离的平均值。本说明书中金属氧化物膜的膜厚是根据在扫描型电子显微 镜下观察具有金属氧化物膜的带含有无机微粒的氧化硅膜的玻璃基板的截面而得的像进 行计算的。 本说明书中分散液中的平均一次粒径是通过动态散射法测定的平均一次粒径 (中值粒径：50%粒径）。 〈带含有无机微粒的氧化硅膜的玻璃基板〉 图1是表示通过本专利技术的制造方法而得的带含有无机微粒的氧化硅膜的玻璃基 板的一例的简单截面图。带含有无机微粒的氧化硅膜的玻璃基板1具有玻璃基板10,和形 成于玻璃基板10的表面的、在表面上具有凹凸的含有无机微粒的氧化娃膜12。 (玻璃基板） 作为玻璃基板10的材料，可例举钠钙硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃、硅铝酸盐玻璃 等。 在将带含有无机微粒的氧化硅膜的玻璃基板1作为有机EL元件用玻璃基板使用 的情况下，玻璃基板10优选无碱玻璃、或在钠钙硅酸盐玻璃上涂覆了二氧化硅的玻璃。 玻璃基板10也可以在基板本体的表面上具有功能层。作为功能层，可例举底涂 层、密合改善层、保护层等。底涂层具有作为碱金属阻挡层和宽频带的低折射率层的功能。 作为底涂层，优选通过在基板本体的表面上涂布含有烷氧基硅烷或其水解产物（溶胶凝胶 二氧化硅）的底涂用涂布液而形成的层。 此外，在本专利技术的实施方式2的方法中，在于玻璃带上形成含有无机微粒的氧化 硅膜之前，也可以形成如上所述的底涂层、密合改善层、保护层等功能层。 (含有无机微粒的氧化硅膜） 含有无机微粒的氧化硅膜12是通过涂布后述的涂布液（即，第1涂布液）而形成 的膜。具体而言，含有无机微粒的氧化硅膜12由配置于玻璃基板10的表面上的多个无机 微粒14、和薄薄地覆盖无机微粒14和玻璃基板10的表面的氧化硅膜16构成，在表面上具 有来源于无机微粒14的形状的凹凸。含有无机微粒的氧化硅膜12作为窗玻璃的防眩膜、 有机EL元件用玻璃基板的光取出层、太阳能电池用覆盖玻璃的光封闭层有用。 含有无机微粒的氧化硅膜12的厚度优选100?5000nm，更优选200?lOOOnm。如 果含有无机微粒的氧化硅膜12的厚度在lOOnm以上，则由光的散射产生的防眩效果、光取 出效果、光封闭效果等良好。如果含有无机微粒的氧化硅膜12的厚度在5000nm以下，则在 制膜上不花费过多的时间，生产方面不会发生问题。 玻璃基板10上无机微粒14的被覆率优选1?100 %，更优选5?100 %。将无机 微粒14的被覆率作为无机微粒14的成膜效率的指标。如果无机微粒14的被覆率在1 %以 上，则由光的散射产生的防眩效果、光取出效果、光封闭效果等良好。 无机微粒14的被覆率如下所述求得。 使用接触式台阶仪，对测定长度1mm下含有无机微粒的氧化硅膜12的表面的凹凸 形状进行测定，根据测定结果，取出存在着无机微粒14的部分的长度，由下式求出被覆率。 被覆率（％)= 100X存在着无机微粒14的部分的长度（mm) /测定长度（1mm)。 带含有无机微粒的氧化硅膜的玻璃基板1的雾度优选0. 5?100%，更优选2? 100%。将带含有无机微粒的氧化硅膜的玻璃基板1的雾度作为光的散射的指标。如果带 含有无机微粒的氧化硅膜的玻璃基板1的雾度在0. 5%以上，则由光的散射产生的防眩效 果、光取出效果、光封闭效果等良好。 (无机微粒） 作为无机微粒14,可例举金属氧化物粒子（也包括复合金属氧化物粒子）、金属粒 子。可根据带含有无机微粒的氧化硅膜的玻璃基板1所要求的功能适当选择无机微粒14 的种类。 在只考虑光的散射的情况下本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种带含有无机微粒的氧化硅膜的玻璃基板的制造方法，其特征在于，在玻璃基板上涂布含有无机微粒、烷氧基硅烷的水解产物、水和(聚)乙二醇中任一种或两种的涂布液，形成含有无机微粒的氧化硅膜。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.04.24 JP 2012-0991661. 一种带含有无机微粒的氧化硅膜的玻璃基板的制造方法，其特征在于，在玻璃基板 上涂布含有无机微粒、烷氧基硅烷的水解产物、水和（聚）乙二醇中任一种或两种的涂布 液，形成含有无机微粒的氧化硅膜。2. 如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，涂布所述涂布液时的玻璃基板的温度 为 200 ?650 °C。3. 如权利要求1或2所述的制造方法，其特征在于，在所述含有无机微粒的氧化硅膜上 进一步形成与所述无机微粒折射率不同的金属氧化物膜。4. 一种带含有无机微粒的氧化硅膜的玻璃基板的制造方法...

【专利技术属性】
技术研发人员：桑原雄一，森勇介，阿部启介，米田贵重，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP