浆态床反应器气体分布结构制造技术

技术编号:10791382 阅读:339 留言:0更新日期:2014-12-17 20:45
本发明专利技术为一种浆态床反应器气体分布结构;反应器下部设有气体分布板,气体分布板下方设有进气管线;气体分布板由其上方设置的导流挡板围设构成多个相邻设置的气体分布单元,导流挡板下侧与气体分布板之间具有间隙;每个气体分布单元内设有多个气体分布阀;气体分布板上相对各气体分布阀的位置设有透孔,气体分布阀包括有活动地覆盖于透孔上的阀瓣,阀瓣上设有弹性元件,气体分布阀还包括有围绕透孔外侧间隔设置的多个支撑筋板,支撑筋板的顶部设有一阀盖,阀盖上设有多条气体导向切口;气体分布板上设有与液体排出管道连接的浆液漏孔。该气体分布结构,能够使气体在反应器中产生分布均匀的鼓泡,并能防止浆液倒流,降低床层层间温度。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术为一种衆态床反应器气体分布结构;反应器下部设有气体分布板,气体分布板下方设有进气管线;气体分布板由其上方设置的导流挡板围设构成多个相邻设置的气体分布单元,导流挡板下侧与气体分布板之间具有间隙;每个气体分布单兀内设有多个气体分布阀;气体分布板上相对各气体分布阀的位置设有透孔,气体分布阀包括有活动地覆盖于透孔上的阀瓣,阀瓣上设有弹性元件,气体分布阀还包括有围绕透孔外侧间隔设置的多个支撑筋板,支撑筋板的顶部设有一阀盖,阀盖上设有多条气体导向切口;气体分布板上设有与液体排出管道连接的浆液漏孔。该气体分布结构,能够使气体在反应器中产生分布均匀的鼓泡,并能防止浆液倒流,降低床层层间温度。【专利说明】浆态床反应器气体分布结构
本专利技术是关于化工领域中的浆态床反应器,尤其涉及一种浆态床反应器气体分布结构。
技术介绍
浆态床反应器是气体以鼓泡形式通过悬浮有固体细粒的液体(浆液)层,以实现气液固相反应过程的反应器。目前国内主流的气体分布器分为两种结构:一种是气体通过喷嘴进入床层;另一种是气体通过分布板进入床层。 在上述第一种现有结构中,一般情况下,反应器会均布设置进气管线,由进气管线再分出若干支管至下封头,每根支管上按一定规律设置喷嘴,气体通过喷嘴喷射到下封头内表面,反吹向上鼓泡,进入床层。气体分布的规律取决于喷嘴的设置。现有这种结构存在以下缺点:(I)为保证气体在喷嘴处的流速,喷嘴的开孔直径都很小,当反应器长时间停车,且没有尽快排出反应器内的浆液,浆液的倒灌和固体催化剂的沉积,肯定会在不同程度上造成喷嘴的堵塞;另外,根据催化剂的特性,部分高温下的反应会造成催化剂结焦结块,当停车时,催化剂焦块随浆液倒灌,造成喷嘴堵塞;当喷嘴堵塞后,气体分布就会不均匀,床层的反应也会不均匀,造成局部剧烈而局部反应偏弱,导致最终产品不合格率上升;(2)为保证反应的气量和气速,同时也为气体能分布更均匀,喷嘴的分布一般较密。采用这种结构,①气流对冲比较明显,导致进入床层的鼓泡大小不一,且基本趋于小气泡;②气体的分布在经喷嘴喷出后是不可控的,完全由反吹后的鼓泡形态自由决定;从进入床层时就是小气泡,气体和固体催化剂、浆液充分接触,会很快进行反应,将气体消耗掉,反应气体在中下部就会被反应掉,导致床层下部的反应比上部要剧烈;气体经喷嘴喷出后,没有经过任何结构上的限制,很可能造成鼓泡的分布很难满足喷嘴的分布初衷,真正的鼓泡分布与理想状态有偏差。 在上述另一种现有结构中,反应器在下封头处,被分布板隔开,进气管口设置在分布板与下封头之间,当气体通过进气管口进入后,先进入下部的气相空间,再由分布板上的喷嘴或分布孔进入床层。在这种现有结构中,当遇停车时,浆液会直接倒灌至进气管线,造成堵塞。 由上所述,根据浆态床反应器的技术发展趋势,要求鼓泡具有均匀性、可控性,防止分布器或分布板堵塞。但是,现有技术已经不能满足上述要求。 由此,本专利技术人凭借多年从事相关行业的经验与实践,提出一种浆态床反应器气体分布结构,以克服现有技术的缺陷。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种浆态床反应器气体分布结构,使气体在反应器中产生的鼓泡分布均匀,能防止浆液倒流。 本专利技术的另一目的在于提供一种浆态床反应器气体分布结构,以降低床层层间温度。 本专利技术的目的是这样实现的,一种浆态床反应器气体分布结构;该反应器下部设有气体分布板,气体分布板下方设有进气管线;所述气体分布板由其上方设置的导流挡板围设构成多个相邻设置的气体分布单元,所述导流挡板下侧与气体分布板之间具有间隙;所述每个气体分布单兀内设有多个气体分布阀;所述气体分布板上相对各气体分布阀的位置设有透孔,所述气体分布阀包括有活动地覆盖于所述透孔上的阀瓣,阀瓣上设有弹性元件,气体分布阀还包括有围绕透孔外侧间隔设置的多个支撑筋板,所述支撑筋板的顶部设有一阀盖,所述阀盖上设有多条气体导向切口 ;所述气体分布板上设有与液体排出管道连接的浆液漏孔。 在本专利技术的一较佳实施方式中,所述气体分布板上相对各气体分布阀的透孔由两个对称设置的半圆孔构成;所述活动地覆盖于透孔上的阀瓣由两个分别盖设于相应半圆孔上的半圆板构成;一圆轴设置在两个半圆孔之间,所述两个半圆板铰接于所述圆轴上;所述弹性元件为套设于圆轴上的扭簧,所述扭簧两端分别压设在对应的半圆板上。 在本专利技术的一较佳实施方式中,所述阀盖上呈品字设置三条气体导向切口。 在本专利技术的一较佳实施方式中,所述气体导向切口为开口倾斜设置的斜切口。 在本专利技术的一较佳实施方式中,所述气体导向切口由矩形冲孔及其由下向上的冲起部构成,所述冲起部一端与矩形冲孔连接,且该冲起部呈中间高两端低的弯折状。 在本专利技术的一较佳实施方式中,所述气体导向切口由矩形孔和位于矩形孔上方且与矩形孔间隔平行设置的遮挡块构成,所述遮挡块的两侧长边呈锯齿状。 在本专利技术的一较佳实施方式中,所述气体分布单兀为矩形,每个气体分布单兀内设有四个气体分布阀,所述四个气体分布阀的阀盖顺序相差90度角布置。 在本专利技术的一较佳实施方式中,所述气体分布单兀为三角形,每个气体分布单兀内设有三个气体分布阀,所述三个气体分布阀的阀盖顺序相差120度角布置。 在本专利技术的一较佳实施方式中,所述导流挡板下侧与气体分布板上表面之间的间隙为10?20mm。 在本专利技术的一较佳实施方式中,所述导流挡板上侧比分布阀的阀盖顶面高5?20mmo 由上所述,本专利技术的衆态床反应器气体分布结构,能够使气体在反应器中产生分布均匀的鼓泡,并能防止浆液倒流,降低床层层间温度。 【专利附图】【附图说明】 以下附图仅旨在于对本专利技术做示意性说明和解释,并不限定本专利技术的范围。其中: 图1:为本专利技术浆态床反应器气体分布结构示意图; 图2:为本专利技术中气体分布板的结构示意图; 图3:为本专利技术中气体分布单元的一种结构示意图; 图4:为本专利技术中气体分布阀的结构示意图; 图5:为图4的俯视结构示意图; 图6:为图4中A-A剖视结构示意图; 图7:为本专利技术中圆轴、两个半圆板和扭簧的装配结构示意图; 图8:为本专利技术中半圆板的结构示意图; 图9:为本专利技术中导流挡板的安装结构示意图; 图10:为本专利技术中气体导向切口结构之一示意图; 图11:为本专利技术中液体排出管道的结构示意图; 图12:为本专利技术中阀盖另一种设置方向的示意图; 图13:为本专利技术中气体分布单元的另一种结构示意图; 【具体实施方式】 为了对本专利技术的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解,现对照【专利附图】【附图说明】本专利技术的【具体实施方式】。 如图1、图2、图3所示,本专利技术提出一种浆态床反应器气体分布结构100 ;该反应器9下部横向设有气体分布板1,气体分布板I下方设有进气管线2,在本实施方式中设置四条进气管线;所述气体分布板I由其上方设置的导流挡板3围设构成多个相邻设置的气体分布单元4,所述导流挡板3下侧与气体分布板I之间具有间隙,在本实施方式中,如图9所示,所述间隙为10?20mm ;所述每个气体分布单元4内设有多个气体分布阀5 ;所述气体分布板I上相对各气体分布阀5的位置设有透孔11,所述气体分布阀5包括有活动地覆盖于所述透孔11上的阀瓣51,阀瓣5本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种浆态床反应器气体分布结构;该反应器下部设有气体分布板,气体分布板下方设有进气管线;其特征在于:所述气体分布板由其上方设置的导流挡板围设构成多个相邻设置的气体分布单元,所述导流挡板下侧与气体分布板之间具有间隙;所述每个气体分布单元内设有多个气体分布阀;所述气体分布板上相对各气体分布阀的位置设有透孔,所述气体分布阀包括有活动地覆盖于所述透孔上的阀瓣,阀瓣上设有弹性元件,气体分布阀还包括有围绕透孔外侧间隔设置的多个支撑筋板,所述支撑筋板的顶部设有一阀盖,所述阀盖上设有多条气体导向切口;所述气体分布板上设有与液体排出管道连接的浆液漏孔。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:孙琳峰张文立吴冬梅
申请(专利权)人:北京石油化工工程有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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