腔体气流方向可变结构，主要解决现有技术中抽气组件只能提供负压和控制流量，不能实现控制气体流向的技术问题。它包括腔体，腔体的侧面设有气室。上述腔体内的承载面A及承载面B沿腔体轴向上下布置，承载面A上放置大径陶瓷环，小径陶瓷环放置于腔体内的承载面B上。上述气室设有抽气芯，抽气芯由外部提供位移动力，可沿承载面A及承载面B布置方向移动。波纹管的下端与真空泵连接，形成整个系统的真空环境。当抽气芯移动并与抽气口A和排气孔B组合或与抽气口B和排气孔A组合时，由于其排气孔A和排气孔B的孔径大小有差别，进而实现气流的大小、速度、流向的变化。具有结构简单，可靠性高、维护性好、通用性强的特点，可广泛应用于半导体镀膜技术领域。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】腔体气流方向可变结构，主要解决现有技术中抽气组件只能提供负压和控制流量，不能实现控制气体流向的技术问题。它包括腔体，腔体的侧面设有气室。上述腔体内的承载面A及承载面B沿腔体轴向上下布置，承载面A上放置大径陶瓷环，小径陶瓷环放置于腔体内的承载面B上。上述气室设有抽气芯，抽气芯由外部提供位移动力，可沿承载面A及承载面B布置方向移动。波纹管的下端与真空泵连接，形成整个系统的真空环境。当抽气芯移动并与抽气口A和排气孔B组合或与抽气口B和排气孔A组合时，由于其排气孔A和排气孔B的孔径大小有差别，进而实现气流的大小、速度、流向的变化。具有结构简单，可靠性高、维护性好、通用性强的特点，可广泛应用于半导体镀膜
。【专利说明】腔体气流方向可变结构
本专利技术涉及一种可以改变腔体内部气体流速、流向、流量的结构，主要应用于半导 体镀膜设备工艺反应腔室，属于半导体薄膜沉积应用及制备
。
技术介绍
现有的半导体镀膜设备，反应腔作为镀膜设备完成产品生产的核心机构，对保证 产品质量及性能的高可靠性，高重复性起着至关重要的作用。而反应腔中的抽气组件更是 晶圆在镀膜过程中保证工艺环境的核心结构之一，由于这种至关重要的功能，就必然要求 抽气组件对于腔室内气体流速、流量、流向可以做到精确控制。 现今半导体产业对镀膜设备性能的要求越来越高，反应腔的结构也在不停的进行 相应的改进，现在已经出现了多段抽气腔体，而对于双段抽气腔体而言与之配合的抽气组 件需要能实现控制气体以不同的流量、工艺过程中气体以所需要的流速、流向的功能，以便 配合工艺其他参数实现提高薄膜性能的效果。
技术实现思路
本专利技术以解决上述问题为目的，主要解决现有技术中抽气组件只能提供负压和控 制流量不能实现控制气体流向的技术问题，而提供一种结构简单，通用性强，能适用多段抽 气腔体的结构。 为实现上述目的，本专利技术采用下述技术方案：腔体气流方向可变结构，包括腔体 (1) ，腔体（1)的侧面设有气室，上述气室设有抽气芯（4)及0型橡胶圈（5)。上述腔体（1) 内的承载面A(Il)及承载面B(12)沿腔体轴向上下布置，承载面A(Il)上放置大径陶瓷环 (2) ，小径陶瓷环（3)放置于腔体（1)内的承载面B (12)上。上述波纹管（6)的下端与真空 泵连接，形成整个系统的真空环境。所述抽气芯（4)穿过波纹管（6)与腔体（1)密封配合。 所述波纹管（6)与腔体（1)通过螺栓连接，由0型圈（5)实现密封。上述抽气芯（4)由外 部提供位移动力，可沿承载面A(Il)及承载面B(12)布置方向移动。当抽气芯（4)移动并 与抽气口 A (7)和排气孔B (10)组合或与抽气口 B (8)和排气孔A (9)组合时由于其排气孔 A(9)和排气孔B(IO)的孔径大小有差别，进而实现气流的大小、速度、流向的变化。 本专利技术的有益效果及特点在于： 使用此结构，只要完成抽气芯的移动并配合孔径大小有差别的气环即可完成工艺 气体以不同的需要的路径流动。通过这种结构可以方便、快捷、有效地实现流速、流量、流向 的控制。具有结构简单，可靠性高、维护性好、通用性强的特点，可广泛应用于半导体镀膜技 术领域。 【专利附图】【附图说明】 图1是本专利技术的结构示意图。 图2是本专利技术上层抽气口 B工作时的使用状态示意图。 图3是本专利技术上层抽气口 B与下层抽气口 A同时工作时使用状态示意图。 图4是本专利技术下层抽气口 A工作时的使用状态示意图。 【具体实施方式】 实施例 参照图1-3,腔体气流方向可变结构，包括腔体1，腔体1的侧面设有气室，上述气 室设有抽气芯4及0型橡胶圈5。所述0型橡胶圈5安装在抽气芯4的橡胶圈安装槽内。 所述抽气芯4穿过波纹管6与腔体1密封配合。所述波纹管6与腔体1通过螺栓连接，由0 型圈5实现密封。上述腔体1内的承载面All及承载面B12沿腔体轴向上下布置，承载面 All上放置大径陶瓷环2,小径陶瓷环3放置于腔体1内的承载面B12上。上述波纹管6的 下端与真空泵连接，形成整个系统的真空环境。上述抽气芯4由外部提供位移动力，可沿承 载面All及承载面B12布置方向移动。 工作原理：由外部动力带动抽气芯4移动，当抽气芯4运动到图3位置时，腔体1 上的抽气口 A7和抽气口 B8同时工作，气体通过抽气口 A7和排气孔BlO的组合及抽气口 B8 和排气孔A9的组合同时流动。当抽气芯4运动到图2位置时，腔体1上的抽气口 B8工作， 气体通过抽气口 B8和排气孔A9的组合进行流动。当抽气芯4运动到图4位置时，腔体1 上的抽气口 A7工作，气体通过抽气口 A7和排气孔BlO的组合进行流动。抽气口 A7和排气 孔BlO组合相比较抽气口 B8和排气孔A9组合，由于其排气孔A9和排气孔BlO的气孔直径 大小有差别可以实现流速、流量的控制。而不同的抽气口 A7或抽气口 B8工作时可以实现 流向的控制。【权利要求】1. 腔体气流方向可变结构，包括腔体（I)，腔体（1)的侧面设有气室，其特征在于：上述 腔体（1)内的承载面A(Il)及承载面B(12)沿腔体轴向上下布置，承载面A(Il)上放置大 径陶瓷环（2)，小径陶瓷环（3)放置于腔体（1)内的承载面B (12)上，上述气室设有抽气芯 ⑷。2. 如权利要求1所述的腔体气流方向可变结构，其特征在于：上述抽气芯（4)由外部 提供位移动力，可沿承载面A (11)及承载面B (12)布置方向移动。3. 如权利要求2所述的腔体气流方向可变结构，其特征在于：所述抽气芯（4)穿过波 纹管（6)与腔体（1)密封配合。4. 如权利要求3所述的腔体气流方向可变结构，其特征在于：所述波纹管（6)与腔体 (1)通过螺栓连接，由O型圈（5)实现密封。【文档编号】C23C16/455GK104213102SQ201410440010【公开日】2014年12月17日 申请日期:2014年9月1日 优先权日:2014年9月1日 【专利技术者】吴凤丽, 郑旭东, 姜崴 申请人:沈阳拓荆科技有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
腔体气流方向可变结构，包括腔体(1)，腔体(1)的侧面设有气室，其特征在于：上述腔体(1)内的承载面A(11)及承载面B(12)沿腔体轴向上下布置，承载面A(11)上放置大径陶瓷环(2)，小径陶瓷环(3)放置于腔体(1)内的承载面B(12)上，上述气室设有抽气芯(4)。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：吴凤丽，郑旭东，姜崴，
申请(专利权)人：沈阳拓荆科技有限公司，
类型：发明
国别省市：辽宁;21
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