固化膜形成用组合物、取向材料和相位差材料制造技术

提供形成具有优异的光反应效率和耐溶剂性和高的密合性的固化膜的固化膜形成用组合物，提供光取向用的取向材料和使用该取向材料形成的相位差材料。固化膜形成用组合物，其含有(A)具有光取向性基团和选自羟基、羧基和氨基中的任意一种取代基的化合物、(B)具有选自羟基、羧基和氨基中的1种或2种以上取代基的亲水性聚合物、以及(C)具有氨基的烷氧基硅烷化合物。使用该固化膜形成用组合物形成固化膜，利用光取向技术形成取向材料。在取向材料上涂布聚合性液晶并使其固化而得到相位差材料。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】固化膜形成用组合物、取向材料和相位差材料
本专利技术涉及固化膜形成用组合物、取向材料和相位差材料。
技术介绍
近年来，在使用了液晶面板的电视等的显示器的领域，作为用于高性能化的搭配，可欣赏3D图像的3D显示器的开发正在推进。在3D显示器中，例如通过使观众的右眼确认右眼用图像，使观众的左眼确认左眼用图像，可以使具有立体感的图像显示。显示3D图像的3D显示器的方式有多种多样，作为不需要专用的眼镜的方式，已知晶状体样镜片(lenticularlens)方式和视差屏障(parallaxBarrier)方式等。作为观众佩戴眼镜观看3D图像的显示器的方式之一，已知圆偏振光眼镜方式等(例如参照专利文献1)。在为圆偏振光眼镜方式的3D显示器的情况下，通常在液晶面板等形成图像的显示元件上配置相位差材料。对于该相位差材料，相位差特性不同的2种相位差区域分别多个、规则地配置、而构成图案化了的相位差材料。并且，以下在本说明书中，将以配置这样的相位差特性不同的多个相位差区域的方式进行图案化的相位差材料称为图案化相位差材料。图案化相位差材料例如如专利文献2中公开的那样、可以通过将包含聚合性液晶的相位差材料进行光学图案化来制作。包含聚合性液晶的相位差材料的光学图案化利用在液晶面板的取向材料形成中已知的光取向技术。即，在基板上设置包含光取向性的材料的涂膜，对其照射偏振方向不同的2种偏光。作为形成了液晶的取向控制方向不同的2种液晶取向区域的取向材料而得到光取向膜。在该光取向膜上涂布含有聚合性液晶的溶液状的相位差材料，实现聚合性液晶的取向。然后，将取向了的聚合性液晶固化而形成图案化相位差材料。在使用了液晶面板的光取向技术的取向材料的形成中，作为可利用的光取向性的材料，已知在侧链具有肉桂酰基和查尔酮基等的光二聚化部位的丙烯酸树脂或聚酰亚胺树脂等。报道了这些树脂通过进行偏光UV照射，显示了控制液晶取向的性能(以下也称为液晶取向性)(参照专利文献3至专利文献5)。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开平10-232365号公报专利文献2:日本特开2005-49865号公报专利文献3:专利第3611342号公报专利文献4:日本特开2009-058584号公报专利文献5:日本特表2001-517719号公报
技术实现思路
但是，根据本专利技术人的研究，可知在这样的侧链上具有肉桂酰基、查尔酮基等光二聚化部位的丙烯酸系树脂在适用于相位差材料的形成时，不能得到充分的特性。特别地，为了对这些树脂照射偏光UV而形成取向材料，并使用该取向材料进行包含聚合性液晶的相位差材料的光学图案化，需要大的偏光UV曝光量。该偏光UV曝光量与通常的足以使液晶面板用的液晶取向的偏光UV曝光量(例如100mJ/cm2左右)相比，格外变多。作为偏光UV曝光量变多的原因，可以列举在相位差材料形成时，与液晶面板用的液晶不同，聚合性液晶以溶液的状态使用，在取向材料上被涂布。使用在侧链具有肉桂酰基等光二聚化部位的丙烯酸系树脂等而形成取向材料，欲使聚合性液晶取向时，在该丙烯酸系树脂等中，进行由光二聚化反应产生的光交联。直到表现对于聚合性液晶溶液的耐性为止，需要进行大曝光量的偏光照射。为了使液晶面板的液晶取向，通常可仅将光取向性的取向材料的表面进行二聚化反应。但是，欲使用上述丙烯酸系树脂等现有材料而使取向材料表现溶剂耐性时，需要使其反应至取向材料的内部，需要更多的曝光量。其结果是存在现有材料的取向灵敏度变得非常小这样的问题。另外，已知为了使作为上述现有材料的树脂表现这样的溶剂耐性，而添加交联剂的技术。但是，已知进行利用了交联剂的热固化反应后，在形成的涂膜的内部形成3维结构，光反应性降低。即，取向灵敏度大为降低，即使在现有材料中添加并使用交联剂，也没有得到所需的效果。根据以上现状，人们要求一种可使取向材料的取向灵敏度提高、降低偏光UV曝光量的光取向技术、和可在该取向材料的形成中使用的固化膜形成用组合物。人们要求一种可以高效率地提供图案化相位差材料的技术。另外，使用光取向技术制造3D显示器的图案化相位差材料时，目前在无碱性玻璃基板上形成。但是，近年来与制造成本减少的要求相适应，要求在碱性玻璃等价格便宜的基材上进行生产。但是，对于由上述这样的现有材料形成的光取向膜，由于碱性玻璃中的Na成分的影响，导致不能良好地取向。因此，要求密合性优异、即使在碱性玻璃上也可形成高度可靠的相位差材料、可适用于光取向技术的取向材料、和用于形成这样的取向材料的固化膜形成用组合物。本专利技术是基于以上的见解、研究结果而作出的专利技术。即，本专利技术的目的是提供用于提供取向材料的固化膜形成用组合物，所述取向材料具有优异的光反应效率的同时、具有耐溶剂性、即使在碱性玻璃上也能够以高灵敏度使聚合性液晶取向。本专利技术的其它目的是提供可由该固化膜形成用组合物得到、具有优异的光反应效率的同时、具有耐溶剂性、即使在碱性玻璃上也能够以高灵敏度使聚合性液晶取向的取向材料和使用该取向材料形成的相位差材料。本专利技术的其它目的和优点可由以下的记载清楚得知。本专利技术的第1方式涉及一种固化膜形成用组合物，其特征在于，含有(A)具有光取向性基团和选自羟基、羧基和氨基中的任意一种取代基的化合物、(B)具有选自羟基、羧基和氨基中的1种或2种以上取代基的亲水性聚合物、以及(C)具有氨基的烷氧基硅烷化合物。在本专利技术的第1方式中，优选(A)成分的光取向性基团是能够进行光二聚化或光异构化的结构的官能团。在本专利技术的第1方式中，优选(A)成分的光取向性基团为肉桂酰基。在本专利技术的第1方式中，优选(A)成分的光取向性基团为偶氮苯结构的基团。在本专利技术的第1方式中，优选(B)成分是选自聚醚多元醇、聚酯多元醇、聚碳酸酯多元醇和聚己内酯多元醇中的至少1种的聚合物。在本专利技术的第1方式中，优选(B)成分为纤维素或其衍生物。在本专利技术的第1方式中，(B)成分优选是具有聚乙二醇酯基和碳原子数为2～5的羟基烷基酯基中的至少一方、和羧基和酚性羟基中的至少一方的丙烯酸系聚合物。在本专利技术的第1方式中，(B)成分优选是利用下述单体的聚合反应而得的丙烯酸共聚物，所述单体含有：具有聚乙二醇酯基的单体和具有碳原子数为2～5的羟基烷基酯基的单体中的至少一方、与具有羧基的单体和具有酚性羟基的单体中的至少一方。在本专利技术的第1方式中，(B)成分优选为环糊精或其衍生物。在本专利技术的第1方式中，(A)成分与(B)成分的比率以质量比计优选为5：95～60：40。在本专利技术的第1方式中，优选基于(A)成分和(B)成分的合计量100质量份，含有10质量份～100质量份的(C)成分。本专利技术的第2方式涉及取向材料，其特征在于，使用本专利技术的第1方式的热固化膜形成用组合物而得。本专利技术的第3方式涉及相位差材料，其特征在于使用由本专利技术的第1方式的固化膜形成用组合物得到的固化膜而形成。根据本专利技术的第1方式，可以提供固化膜形成用组合物，该固化膜形成用组合物用于提供具有优异的光反应效率和耐溶剂性、即使在碱性玻璃上也能够以高灵敏度使聚合性液晶取向的取向材料。根据本专利技术的第2方式，可以提供具有优异的光反应效率和耐溶剂性、即使在碱性玻璃上也能够以高灵敏度使聚合性液晶取向的取向材料。根据本专利技术的第3方式，可以提供即使在碱性玻璃上也能够以高效率形成、可进行光学图案化的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种固化膜形成用组合物，其特征在于，含有(A)具有光取向性基团和选自羟基、羧基和氨基中的任意一种取代基的化合物、(B)具有选自羟基、羧基和氨基中的1种或2种以上取代基的亲水性聚合物、以及(C)具有氨基的烷氧基硅烷化合物。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.03.28 JP 2012-0740141.一种固化膜形成用组合物，其特征在于，含有(A)具有光取向性基团和选自羟基、羧基和氨基中的任意一种取代基的化合物、(B)具有选自羟基、羧基和氨基中的1种或2种以上取代基的亲水性聚合物、以及(C)选自N，N’‐双[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]-1，2-乙二胺、N，N’‐双[3-(三乙氧基甲硅烷基)丙基]-1，2-乙二胺、N-[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]-1，2-乙二胺、N-[3-(三乙氧基甲硅烷基)丙基]-1，2-乙二胺、双{3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基}胺、双{3-(三乙氧基甲硅烷基)丙基}胺、3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、三甲氧基{3-(甲基氨基)丙基硅烷、3-(N-烯丙基氨基)丙基三甲氧基硅烷、3-(N-烯丙基氨基)丙基三乙氧基硅烷、3-(二乙基氨基)丙基三甲氧基硅烷、3-(二乙基氨基)丙基三乙氧基硅烷、3-(苯基氨基)丙基三甲氧基硅烷和3-(苯基氨基)丙基三乙氧基硅烷中的具有氨基的烷氧基硅烷化合物。2.根据权利要求1所述的固化膜形成用组合物，其特征在于，(A)成分的光取向性基团是能够进行光二聚化或光异构化的结构的官能团。3.根据权利要求1或2所述的固化膜形成用组合物，其特征在于，(A)成分的光取向性基团为肉桂酰基。4...

【专利技术属性】
技术研发人员：畑中真，石田智久，汤川升志郎，
申请(专利权)人：日产化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP