本发明专利技术提供一种产生光刻胶图案的方法和装置及其预烘装置，预烘装置包括：加热板；加热控制器，与所述加热板耦接并控制所述加热板的温度；以及支撑板，通过连接部与所述加热板连接并与所述加热板成一定角度，一涂布光刻胶后的基板置于支撑板上并由所述加热板产生的热量预烘，其中，由于所述支撑板与所述加热板成一定角度，所述支撑板的两端所受到的加热板的热量产生差异。通过不同的加热温度使得光刻胶溶剂的蒸发速率不同，进而使得光刻胶与显影液的显影反应速度不同，以减少显影液涂布的时间差产生的影响，使得最后光刻胶线宽相同。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供一种产生光刻胶图案的方法和装置及其预烘装置，预烘装置包括：加热板；加热控制器，与所述加热板耦接并控制所述加热板的温度；以及支撑板，通过连接部与所述加热板连接并与所述加热板成一定角度，一涂布光刻胶后的基板置于支撑板上并由所述加热板产生的热量预烘，其中，由于所述支撑板与所述加热板成一定角度，所述支撑板的两端所受到的加热板的热量产生差异。通过不同的加热温度使得光刻胶溶剂的蒸发速率不同，进而使得光刻胶与显影液的显影反应速度不同，以减少显影液涂布的时间差产生的影响，使得最后光刻胶线宽相同。【专利说明】产生光刻胶图案的方法和装置及其预烘装置
本专利技术涉及光刻工艺，尤其涉及产生光刻胶图案的方法和预烘装置。
技术介绍
目前，基板或基材可用以制造各种电子产品，例如玻璃基板透光基板可用以制造显示面板。以大尺寸的有机发光显示器(Organic LE Display, 0LED)面板为例，其可切割成多个有机发光显不单兀。有机发光显不单兀至少包括一阳极电极板、一发光层与一阴极电极板；其中，发光层夹于样机电极板以及阴极电极板之间形成一“三明治”(sandwich)结构。在正向电压驱动下，阳极电极板向发光层注入空穴，阴极电极板向发光层注入电子。注入的空穴和电子在发光层中相遇结合，使电子由激发态降回基态，并将多余能量以光波的形式辐射释出。 具体地，在有机发光显示器的制造中，在光刻工序中，对半导体晶片等的基板依次进行例如涂布处理工序、曝光工序、热处理工序、显影处理工序等多个工序，在基板上形成规定的光刻胶图案。在涂布处理工艺中，对基板进行清洗并涂布光刻胶来形成光刻胶，并对基板进行预烘处理以减少光刻胶中溶剂的含量并固化光刻胶。在曝光工序中，对光刻胶进行曝光形成规定的图案。在热处理工序中，在曝光后促进光刻胶的化学反应。在显影处理工序中，将曝光后的光刻胶进行显影。这一系列的处理，在搭载有涂布处理装置、热处理装置和显影处理装置等各种处理装置和基板的搬送装置等的涂布显影系统中进行。另外，在这样的涂布显影处理系统中，连续搬送例如相同处理方案的多片基板来进行处理。 进一步地，显影液涂布方式受限于设备硬件机构，显影液喷嘴开始涂布显影液至涂布结束存在一时间差。开始涂布区域光刻胶接触显影液的时间比涂布结束区域时间长，光刻胶接触显影液的时间不同。涂布开始区域光刻胶接触显影液时间长，造成线宽较细；涂布结束区域光刻胶接触显影液时间短，造成线宽较粗，最后导致光刻胶线宽不佳。
技术实现思路
本专利技术提供一种产生光刻胶图案的预烘装置，其特征在于，包括:加热板；加热控制器，与所述加热板耦接并控制所述加热板的温度；以及支撑板，通过连接部与所述加热板连接并与所述加热板成一定角度，一涂布光刻胶后的基板置于支撑板上并由所述加热板产生的热量预烘，其中，由于所述支撑板与所述加热板成一定角度，所述支撑板的两端所受到的加热板的热量产生差异。 优选地，还包括一温度传感器，所述温度传感器连接在所述加热板与所述加热控制器之间，用于测量所述加热板的温度并传递给所述加热控制器。 优选地，所述加热板设置有电阻丝。 优选地，所述加热控制器将所述加热板的加热温度范围控制在80摄氏度至135摄氏度。 优选地，所述支撑板的两端与所述加热板之间的距离之差的范围为0.1毫米至0.5晕米。 优选地，所述支撑板的两端与所述加热板之间的最短距离的范围为0.1毫米至0.3晕米。 优选地，所述连接部为处于同一竖直面的多个所述连接钉。 优选地，所述连接部为形成多个竖直面的多个所述连接钉。 优选地，所述连接部为多个连接板，多个所述连接板与所述加热板接触的部分的长度与所述加热板的长度相同。 根据本专利技术的另一方面，还提供一种产生光刻胶图案的方法，其特征在于，包括:利用光刻胶喷嘴在基板上涂布光刻胶；利用本专利技术提供的预烘装置对所述基板进行加热，其中，所述基板各区域的受热温度不相同，并且所述基板的受热温度从所述基板的一端至另一端依次降低；将加热后的基板进行曝光以固化所述光刻胶；以及从所述基板的受热温度高的一端开始利用显影液喷嘴在所述基板涂布有所述光刻胶的一侧面上涂布显影液并显影。 优选地，所述利用光刻胶喷嘴在基板上涂布光刻胶之前还包括:对所述基板进行清洗烘干。 优选地，利用光刻胶喷嘴在基板上涂布光刻胶是静态涂胶或者动态涂胶中的一种。 优选地，所述光刻胶为正性光刻胶或者负性光刻胶。 优选地，加热后所述基板上的光刻胶的溶剂浓度降低为加热之前的3%至7%。 优选地，所述将加热后的基板进行曝光以固化所述光刻胶还包括:控制曝光能量和曝光焦距。 优选地，利用紫外线或者电子射线将加热后的基板进行曝光以固化所述光刻胶。 优选地，所述紫外线的波长为I纳米至30纳米。 优选地，所述将加热后的基板进行曝光以固化所述光刻胶之后，涂布显影液之前还包括:对所述基板进行后烘。 优选地，所述从所述基板的受热温度高的一端开始利用显影液喷嘴在所述基板涂布有所述光刻胶的一侧面上涂布显影液并显影后还包括:对所述基板进行硬烘。 优选地，所述基板为玻璃基板。 根据本专利技术的又一方面，还提供一种产生光刻胶图案的装置，其特征在于，包括:光刻胶涂布装置，利用光刻胶喷嘴在基板上涂布光刻胶；本专利技术提供的预烘装置，对所述基板进行加热，其中，所述基板各区域的受热温度不相同，并且所述基板的受热温度从所述基板的一端至另一端依次降低；曝光装置，将加热后的基板进行曝光以固化所述光刻胶；以及显影装置，从所述基板的受热温度高的一端开始利用显影液喷嘴在所述基板涂布有所述光刻胶的一侧面上涂布显影液并显影。 本专利技术利用预烘制程中支撑板与加热板之间的不同距离控制放置在支撑板上的基板的加热温度，并通过不同的加热温度使得光刻胶溶剂的蒸发速率不同，进而使得光刻胶与显影液的显影反应速度不同，以减少显影液涂布的时间差产生的影响，使得最后光刻胶线宽相同。 【专利附图】【附图说明】 通过参照附图详细描述其示例实施方式，本专利技术的上述和其它特征及优点将变得更加明显。 图1示出本专利技术提供的产生光刻胶图案的方法的流程图； 图2示出本专利技术提供的产生光刻胶图案的装置的结构图； 图3示出本专利技术提供的第一实施例的产生光刻胶图案的预烘装置的立体图； 图4示出本专利技术提供的第二实施例的产生光刻胶图案的预烘装置的立体图； 图5示出本专利技术提供的第三实施例的产生光刻胶图案的预烘装置的立体图； 图6A示出本专利技术提供的产生光刻胶图案的装置的显影液涂布装置涂布显影液的过程中的变化的立体图； 图6B示出本专利技术提供的产生光刻胶图案的装置的显影装置涂布显影液的过程中的变化的立体图；以及 图6C示出本专利技术提供的产生光刻胶图案的装置的显影装置涂布显影液的过程中的变化的立体图。 附图标记 100产生光刻胶图案的装置 102光刻胶涂布装置 104曝光装置 106显影装置 200预烘装置 202加热板 204支撑板 206,210,212连接部 208加热控制器 302显影涂布控制器 304显影液喷嘴 306基板 【具体实施方式】 现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种产生光刻胶图案的预烘装置，其特征在于，包括：加热板；加热控制器，与所述加热板耦接并控制所述加热板的温度；以及支撑板，通过连接部与所述加热板连接并与所述加热板成一定角度，一涂布光刻胶后的基板置于所述支撑板上并由所述加热板产生的热量预烘，其中，由于所述支撑板与所述加热板成一定角度，所述支撑板的两端所受到的加热板的热量产生差异。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：林永富，郑宪鸿，吴韦良，
申请(专利权)人：上海和辉光电有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31
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