透明性高的乳化组合物及透明性高的化妆料制造技术

本发明专利技术提供一种乳化组合物，其含有下述(A)～(D)的成分：(A)下述通式(1)所示的甘草次酸衍生物、(B)选自由生育酚及其衍生物、以及碳原子数为10～18的脂肪酸酯组成的组中的至少一种油剂、(C)磷脂质、及(D)水溶性表面活性剂，且通式(1)所示的甘草次酸衍生物的含量为0.5质量％以上且10质量％以下。通式(1)中，关于R1及R2，R1表示-C12H25、-C14H29、-C16H33、-C18H37、或-C20H41，且R2表示氢原子，或者，R1表示氢原子，且R2表示-(C＝O)C11H23、-(C＝O)C13H27、-(C＝O)C15H31、或-(C＝O)C17H35。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】透明性高的乳化组合物及透明性高的化妆料
本专利技术涉及透明性高的乳化组合物及透明性高的化妆料。
技术介绍
在化妆料等中，进行各种油溶性药剂的配合，通常在配合了油的乳液、雪花膏等中使用油溶性药剂。作为这样的油溶性药剂的例子，可列举出甘草次酸硬脂酯等甘草次酸衍生物，作为具有抗炎症效果的药剂配合到化妆料等中。另一方面，在化妆水等水性组合物中配合甘草次酸衍生物等油溶性药剂的情况下，必须通过使用表面活性剂使其增溶而配合到水性组合物中，或者，使用大量的油剂或乳化剂而配合到乳化组合物的油相成分中，并将该乳化组合物配合到水性组合物中。作为有关使用了表面活性剂的乳化组合物的技术，例如在日本专利4524098号公报中公开了在烷基化多糖类中组合了磷脂质、及离子性表面活性剂的乳化分散物。在日本专利4341983号公报中公开了含有油溶性药剂的蜡微细分散组合物。日本特开2007-197328号公报中，作为使用磷脂质在水中使难水溶性的生理活性物质简便地乳化或增溶的技术，公开了一种难水溶性生理活性物质-磷脂质复合体，其是从难水溶性的生理活性物质和磷脂质均匀地溶解在有机溶剂中的溶液中除去有机溶剂，使难水溶性的生理活性物质与磷脂质同时析出而得到的。
技术实现思路
专利技术所要解决的课题然而，在日本专利4524098号公报中记载的有关乳化组合物的技术中，由于使用离子性表面活性剂，所以可预期对皮肤的刺激。此外，日本专利4341983号公报中公开的分散组合物由于为固体～半固体状的蜡的分散组合物，所以有时外观的透明性低，在油溶性药剂的溶解性低的情况下，有时可以内包的药剂量少。进而，在日本特开2007-197328号公报中记载的技术中，由于使用有机溶剂，需要进行干燥喷雾的工序，所以可预期制造设备的大规模化、成本上升，此外，有时对于残留溶剂对生物体的安全性需要进行研究。此外，为了将甘草次酸衍生物等油溶性药剂进行增溶而使用表面活性剂的情况下，若考虑对皮肤的刺激，则可预期其种类、配合量受到限制。此外，可预期伴随其而配合的油分、香料、包括油溶性药剂在内的药剂的种类、配合量也受到限制。另一方面，含有油溶性药剂的乳化组合物在适用于化妆料等中的情况下，具有由配合油剂带来的很有浓稠感的使用性，但另一方面，有时由油剂、乳化剂带来的粘性强，使用感触差。此外，对适用于化妆料制剂中的乳化组合物要求透明性的情况也多。另一方面，由于依赖于乳化组合物的粒径、油剂的折射率、油剂的含量的各要素，入射到包含乳化组合物的化妆料制剂中的光被散射，所以在这些各要素大的情况下，有时在乳化组合物中产生浑浊而透明性受损，外观上不优选。作为降低包含乳化组合物的化妆料制剂中的浊度的方法，可列举出例如减小乳化组合物的粒径，但为了减小粒径，必须增加表面活性剂的量，因此，特别是在适用于化妆料中的情况下，从皮肤刺激、使用感的观点考虑不优选。此外，作为其他方法，若降低乳化组合物中含有的油溶性药剂的浓度，则油剂量变少且能够减小粒径，但在适用于化妆料制剂中的情况下，必须添加大量的乳化组合物，结果是，油剂、表面活性剂的含量增加，因此，有时化妆料的皮肤刺激、使用感受损。这样，期望尽管以高浓度含有甘草次酸衍生物等油溶性药剂、但是透明性及经时稳定性优异的乳化组合物、及含有乳化组合物、且透明性及经时稳定性优异、且使用感优异的化妆料，但现状是尚未提供。本专利技术是鉴于上述情况而完成的，其课题是提供以高浓度含有甘草次酸衍生物、且透明性及经时稳定性优异的乳化组合物。此外，本专利技术的课题是提供以高浓度含有甘草次酸衍生物、且透明性及经时稳定性优异、且使用感优异的化妆料。用于解决课题的方案用于解决上述课题的方案如下所述。[1]一种乳化组合物，其含有下述(A)～(D)的成分：(A)下述通式(1)所示的甘草次酸衍生物、(B)选自由生育酚及其衍生物、以及碳原子数为10～18的脂肪酸酯组成的组中的至少一种油剂、(C)磷脂质、及(D)水溶性表面活性剂，且下述通式(1)所示的甘草次酸衍生物的含量为0.5质量％以上且10质量％以下。[化学式1]通式(1)中，关于R1及R2，R1表示-C12H25、-C14H29、-C16H33、-C18H37、或-C20H41，且R2表示氢原子，或者，R1表示氢原子，且R2表示-(C＝O)C11H23、-(C＝O)C13H27、-(C＝O)C15H31、或-(C＝O)C17H35。[2]根据[1]所述的乳化组合物，其中，(A)成分包含甘草次酸硬脂酯。[3]根据[1]或[2]所述的乳化组合物，其中，(D)成分包含选自蔗糖脂肪酸酯及聚甘油脂肪酸酯中的至少1种。[4]根据[1]～[3]中任一项所述的乳化组合物，其中，(B)成分包含选自醋酸生育酚、生育酚、生育三烯酚、肉豆蔻酸异丙酯、棕榈酸异丙酯、癸二酸二异丙酯、癸酸丙二醇酯、及二癸酸丙二醇酯中的至少1种。[5]根据[1]～[4]中任一项所述的乳化组合物，其中，(C)成分包含卵磷脂。[6]根据[1]～[5]中任一项所述的乳化组合物，其中，通式(1)所示的甘草次酸衍生物的含量为1.0质量％以上且5.0质量％以下。[7]根据[6]所述的乳化组合物，其中，(B)成分包含选自生育酚、醋酸生育酚及生育三烯酚中的至少1种。[8]根据[6]或[7]所述的乳化组合物，其还包含(E)选自氨基酸酯及脂肪酸甘油酯中的至少1种。[9]根据[8]所述的乳化组合物，其中，(B)成分及(E)成分的总含量为10质量％～25质量％。[10]根据[8]或[9]中任一项所述的乳化组合物，其中，(C)成分相对于(B)成分及(E)成分的总含量的含有比例〔C/(B+E)〕以质量基准计为0.01～0.5。[11]根据[1]～[5]中任一项所述的乳化组合物，其中，通式(1)所示的甘草次酸衍生物的含量为0.5质量％以上且低于1.0质量％。[12]根据[11]所述的乳化组合物，其中，(B)成分包含选自棕榈酸异丙酯、癸二酸二异丙酯、癸酸丙二醇酯、及二癸酸丙二醇酯中的至少1种。[13]一种化妆料，其含有[1]～[12]中任一项所述的乳化组合物。[14]根据[13]所述的化妆料，其利用波长为650nm的光测定的吸光度为0.001～0.2。专利技术效果根据本专利技术，能够提供以高浓度含有甘草次酸衍生物、且透明性及经时稳定性优异的乳化组合物。此外，根据本专利技术，能够提供以高浓度含有甘草次酸衍生物、且透明性及经时稳定性优异、使用感优异的化妆料。具体实施方式以下，对本专利技术进行详细说明。另外，本说明书中使用“～”表示的数值范围表示包含“～”的前后记载的数值分别作为最小值及最大值的范围。本专利技术中所谓“水相”不论溶剂的种类如何作为相对于“油相”的词语使用。本说明书中“工序”的词语不仅包括独立的工序，在无法与其他工序明确区别的情况下只要可达成本工序的所期望的目的，也就包含在本用语中。本专利技术中，关于组合物中的各成分的量，在组合物中存在多种符合各成分的物质的情况下，只要没有特别说明，是指组合物中存在的该多种物质的总量。[乳化组合物]本专利技术的乳化组合物是下述乳化组合物，其含有下述(A)～(D)的成分：(A)下述通式(1)所示的甘草次酸衍生物(以下，适宜称为“甘草次酸衍生物”。)、(B)选自由生育酚及其衍生物、以及碳原子数为10～18的脂肪酸酯组成的组中的至少一种油本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种乳化组合物，其含有下述(A)～(D)的成分：(A)下述通式(1)所示的甘草次酸衍生物、(B)选自由生育酚及其衍生物、以及碳原子数为10～18的脂肪酸酯组成的组中的至少一种油剂、(C)磷脂质、及(D)水溶性表面活性剂，且下述通式(1)所示的甘草次酸衍生物的含量为0.5质量％以上且10质量％以下，通式(1)中，关于R1及R2，R1表示‑C12H25、‑C14H29、‑C16H33、‑C18H37、或‑C20H41且R2表示氢原子，或者，R1表示氢原子且R2表示‑(C＝O)C11H23、‑(C＝O)C13H27、‑(C＝O)C15H31、或‑(C＝O)C17H35。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.03.22 JP 2012-0663791.一种乳化组合物，其含有下述(A)～(E)的成分：(A)下述通式(1)所示的甘草次酸衍生物、(B)选自生育酚、醋酸生育酚、及生育三烯酚中的至少一种油剂、(C)磷脂质、(D)HLB为8以上20以下的水溶性表面活性剂、及(E)选自由氨基酸酯及脂肪酸甘油酯组成的组中的至少1种，通式(1)中，关于R1及R2，R1表示-C12H25、-C14H29、-C16H33、-C18H37、或-C20H41且R2表示氢原子，或者，R1表示氢原子且R2表示-(C＝O)C11H23、-(C＝O)C13H27、-(C＝O)C15H31、或-(C＝O)C17H35，通式(1)所示的甘草次酸衍生物的含量为1.0质量％以上且5.0质量％以下，所述(...

【专利技术属性】
技术研发人员：今泉佑贵，相见牧子，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP