本实用新型专利技术公开了一种凹印设备双张力控制结构，包括第一导向辊、第二导向辊、第三导向辊、气缸、摆臂、第一摆辊、第二摆辊，所述气缸的伸缩杆与摆臂上部活动联接，摆臂顶端与凹印设备固定连接，摆臂中部设有限位支架，摆臂上部自上而下分别设置第一摆辊以及第二摆辊，位于摆臂的一侧且与第一摆辊和第二摆辊的走料相适配的位置自上而下分别设置有第一导向辊、第二导向辊和第三导向辊。所述的摆臂摆动幅度a不大于30度。本实用新型专利技术在实际印刷生产中，就可以根据薄膜材料的张力要求，灵活改变料膜走料方式即可实现双张力控制，从而能够满足多种材料的张力控制要求。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术公开了一种凹印设备双张力控制结构，包括第一导向辊、第二导向辊、第三导向辊、气缸、摆臂、第一摆辊、第二摆辊，所述气缸的伸缩杆与摆臂上部活动联接，摆臂顶端与凹印设备固定连接，摆臂中部设有限位支架，摆臂上部自上而下分别设置第一摆辊以及第二摆辊，位于摆臂的一侧且与第一摆辊和第二摆辊的走料相适配的位置自上而下分别设置有第一导向辊、第二导向辊和第三导向辊。所述的摆臂摆动幅度a不大于30度。本技术在实际印刷生产中，就可以根据薄膜材料的张力要求，灵活改变料膜走料方式即可实现双张力控制，从而能够满足多种材料的张力控制要求。【专利说明】一种凹印设备双张力控制结构
本技术公开了一种凹印设备双张力控制结构。
技术介绍
目前，凹印设备张力控制系统的标准张力范围通常会存在一定的局限性，一般可以满足BOPP、PET等薄膜材料的张力要求，但对于PE等易拉伸变形的薄膜材料，在印刷生产中就有可能无法稳定控制张力，从而造成废品率的增加，影响企业效益。对此，本 申请人:对现有凹印设备的张力控制系统进行了一些改造，以使其能够满足多种材料的张力控制要求。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术的不足，提供了一种能够满足多种材料的张力控制要求的凹印设备双张力控制结构。 本技术解决问题采用的技术方案是: —种凹印设备双张力控制结构，包括第一导向棍、第二导向棍、第三导向棍、气缸、摆臂、第一摆辊、第二摆辊，所述气缸的伸缩杆与摆臂上部活动联接，摆臂顶端与凹印设备固定连接，摆臂中部设有限位支架，摆臂上部自上而下分别设置第一摆辊以及第二摆辊，位于摆臂的一侧且与第一摆辊和第二摆辊的走料相适配的位置自上而下分别设置有第一导向棍、第二导向棍和第三导向棍。 作为上述方案的进一步设置:所述的摆臂摆动幅度a不大于30度。 作为上述方案的进一步设置:所述的第一导向辊、第二导向辊和第三导向辊三者位于同一侧。 本技术的有益效果是:本技术可根据料膜不同的走料方式来实现两种不同的张力模式，一种张力模式标准张力范围，另一种张力模式是低张力范围，在实际印刷生产中，就可以根据薄膜材料的张力要求，灵活改变料膜走料方式即可实现双张力控制，从而能够满足多种材料的张力控制要求。 【专利附图】【附图说明】 图1为本技术结构示意图。 【具体实施方式】 以下结合附图和具体实施例对本技术做进一步说明。 如图1所示，本技术提供了一种凹印设备双张力控制结构，包括第一导向辊 1、第二导向棍2、第三导向棍3、气缸4、摆臂5、第一摆棍6、第二摆棍7,所述气缸4的伸缩杆与摆臂5上部活动联接，摆臂5顶端与凹印设备固定连接，摆臂5中部设有限位支架8，摆臂5上部自上而下分别设置第一摆辊6以及第二摆辊7，位于摆臂5的一侧且与第一摆辊6和第二摆辊7的走料相适配的位置自上而下分别设置有第一导向辊1、第二导向辊2和第三导向棍3。 所述的摆臂5摆动幅度a不大于30度。 所述的第一导向棍1、第二导向棍2和第三导向棍3三者位于同一侧。 本技术可根据料膜不同的走料方式来实现两种不同的张力模式，一种张力模式是标准张力范围，另一种张力模式是低张力范围。在实际印刷生产中，就可以根据薄膜材料的张力要求，灵活改变料膜走料方式即可实现双张力控制。从而能够满足多种材料的张力控制要求。 摆辊6所使用单圈电位器的有效检测范围只有330°，因此，一般将单圈电位器的转动范围控制在300°以内，摆辊6和单圈电位器之间的传动比最好为1:10 ;在安装摆臂6过程中，最好将其摆动幅度控制在30°以内，并根据这个要求来安装好摆辊6的限位支架8位置。 以上所述仅是本技术的优选实施方式，应当指出，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本技术原理的前提下，还可以对本技术进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本技术权利要求的保护范围内。【权利要求】1.一种凹印设备双张力控制结构，其特征在于:包括第一导向辊(I)、第二导向辊(2)、第三导向棍(3)、气缸(4)、摆臂(5)、第一摆棍(6)、第二摆棍(7),所述气缸(4)的伸缩杆与摆臂(5)上部活动联接，摆臂(5)顶端与凹印设备固定连接，摆臂(5)中部设有限位支架(8)，摆臂(5)上部自上而下分别设置第一摆辊(6)以及第二摆辊(7)，位于摆臂(5)的一侧且与第一摆辊(6)和第二摆辊(7)的走料相适配的位置自上而下分别设置有第一导向辊(I)、第二导向棍⑵和第三导向棍(3)。2.根据权利要求1所述的一种凹印设备双张力控制结构，其特征在于:所述的摆臂(5)摆动幅度a不大于30度。3.根据权利要求1所述的一种凹印设备双张力控制结构，其特征在于:所述的第一导向棍(I)、第二导向棍⑵和第三导向棍⑶三者位于同一侧。【文档编号】B65H23/26GK203976045SQ201420301704【公开日】2014年12月3日 申请日期:2014年6月7日 优先权日:2014年6月7日 【专利技术者】沈勇峰 申请人:浙江恒力装饰材料有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种凹印设备双张力控制结构，其特征在于：包括第一导向辊(1)、第二导向辊(2)、第三导向辊(3)、气缸(4)、摆臂(5)、第一摆辊(6)、第二摆辊(7)，所述气缸(4)的伸缩杆与摆臂(5)上部活动联接，摆臂(5)顶端与凹印设备固定连接，摆臂(5)中部设有限位支架(8)，摆臂(5)上部自上而下分别设置第一摆辊(6)以及第二摆辊(7)，位于摆臂(5)的一侧且与第一摆辊(6)和第二摆辊(7)的走料相适配的位置自上而下分别设置有第一导向辊(1)、第二导向辊(2)和第三导向辊(3)。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：沈勇峰，
申请(专利权)人：浙江恒力装饰材料有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33
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