环烷烃衍生物制造技术

本发明专利技术提供疼痛治疗和/或预防药物或者钠通道相关疾病治疗和/或预防药物。本发明专利技术提供下式(I)表示的化合物或其可药用盐:Ar1和Ar2:杂芳基或芳基；R1、R2和R3:氢原子、卤素原子、C1-C6烷基、卤代C1-C6烷基、羟基C1-C6烷基、C1-C6烷氧基C1-C6烷基或者C3-C7环烷基或者氰基；R4和R5:氢原子、卤素原子、C1-C6烷基、卤代C1-C6烷基、羟基、羟基C1-C6烷基、C1-C6烷氧基C1-C6烷基、C3-C7环烷基或者C1-C6烷氧基；n:1-3的整数；和所述杂芳基或者所述芳基任选具有一个或者两个独立选自如下的基团：卤素原子、C1-C6烷基、卤代C1-C6烷基、羟基、羟基C1-C6烷基、C1-C6烷氧基C1-C6烷基、C3-C7环烷基、羧基、氰基、氨基、C1-C3烷基氨基和二-C1-C3烷基氨基，并且当所述杂芳基或者所述芳基具有两个这样的基团时，这两个基团彼此或者不同。[式1]

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
式(I)化合物或其可药用盐:[式1]其中Ar1和Ar2各自独立表示杂芳基或芳基、R1、R2和R3各自独立表示氢原子、卤素原子、C1‑C6烷基、卤代C1‑C6烷基、羟基C1‑C6烷基、C1‑C6烷氧基C1‑C6烷基、C3‑C7环烷基或氰基，R4和R5各自独立表示氢原子、卤素原子、C1‑C6烷基、卤代C1‑C6烷基、羟基、羟基C1‑C6烷基、C1‑C6烷氧基C1‑C6烷基、C3‑C7环烷基或C1‑C6烷氧基，和n代表1到3的整数，和其中所述杂芳基或者所述芳基任选具有一个或两个独立选自如下的取代基：卤素原子、C1‑C6烷基、卤代C1‑C6烷基、羟基、羟基C1‑C6烷基、C1‑C6烷氧基C1‑C6烷基、C3‑C7环烷基、羧基、氰基、氨基、C1‑C3烷基氨基和二‑C1‑C3烷基氨基，并且当所述杂芳基或者所述芳基具有两个这样的基团时，这两个基团彼此相同或者不同并且本专利技术进一步涉及下述。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：筱塚刚，小林宏行，铃木沙也加，田中教介，木本裕子，土门友纪，
申请(专利权)人：第一三共株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP