散热单元的支撑结构制造技术

本发明专利技术是一种散热单元的支撑结构，包括至少一本体及一氧化物薄膜，该本体的外周侧设有多个沟槽，所述该氧化物薄膜被披覆在本体外周侧的多个沟槽表面上;通过具方向性的氧化物薄膜及沟槽可用以取代烧结粉末体，可大幅的加速工作流体于散热单元的腔室内的汽液循环，借以提升散热效能。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术是一种散热单元的支撑结构，包括至少一本体及一氧化物薄膜，该本体的外周侧设有多个沟槽，所述该氧化物薄膜被披覆在本体外周侧的多个沟槽表面上;通过具方向性的氧化物薄膜及沟槽可用以取代烧结粉末体，可大幅的加速工作流体于散热单元的腔室内的汽液循环，借以提升散热效能。【专利说明】散热单元的支撑结构
本专利技术是有关于一种散热单元的支撑结构，尤指一种具有用以取代烧结毛细结构及提升工作流体的汽液循环效率的散热单元的支撑结构。
技术介绍
随着科技产业快速的进步，电子装置的功能也愈来愈强大，例如中央处里器(Cenwal Processing Unit, CPU)、晶片组或显示单元的电子元件运算速度也随着增长,造成电子元件单位时间所产生的热量就会相对提高；因此，若电子元件所散发出的热量无法及时散热，就会影响电子装置整体的运作，或导致电子元件的损毁。 一般业界采用的电子元件散热装置大部分通过如风扇、散热器或是热管等散热元件进行散热，并通过散热器接触热源，再通过热管将热传道至远端散热，或由风扇强制引导气流对该散热器强制散热，针对空间较狭窄或面积较大的热源则选择以均温板作为导热元件作为传导热源的使用。 传统的均温板是通过以两片板材对应盖合所制成，所述板材对应盖合形成一密闭腔室，该密闭腔室呈真空状态，并具有支撑结构及毛细结构，而该支撑结构大部分有两种:第一种是所述支撑结构外侧上烧结粉末有毛细结构，使该支撑结构除了具有支撑效果外，还可通过该支撑结构上烧结粉末的毛细结构的毛细力将上板冷凝端的工作液体回流至下板蒸发端，以达到汽液循环的效果；第二种则是前述支撑结构整体是利用铜粉烧结构成的，同样与第一种都具有支撑作用以及提供上板的冷却端的工作流体回流至下板蒸发端的效果。 然，虽传统均温板的支撑结构可达到支撑及提供冷却端的工作流体回流的效果，但却延伸出另一问题，就是于支撑结构上的毛细结构(即毛细结构为烧结粉末体)的毛细力有较密的孔隙度能有效提升毛细力，可是相对的也提高了流体阻力，因为铜粉烧结粉末的毛细结构的毛细力与流体阻力是为相斥的，所以使冷却的工作流体通过所述支撑结构上的毛细结构(即毛细结构为烧结粉末体)的毛细力无法迅速回流至下板蒸发端，故造成汽液工作流体流动率差及散热效率降低的问题。 以上所述，公知技术具有下列的缺点: 1.汽液工作流体流动率差； 2.散热效率降低。 因此，要如何解决上述公用的问题与缺失，即为本案的专利技术人与从事此行业的相关厂商所亟欲研究改善的方向所在。
技术实现思路
为此，为有效解决上述的问题，本专利技术的主要目的在提供通过具有氧化物薄膜沟槽用以取代烧结毛细结构的散热单元的支撑结构。 本专利技术的另一目的在提供一种具有增加工作流体的汽液循环效率的散热单元的支撑结构。 本专利技术的另一目的在提供一种具有提升散热效率的散热单元的支撑结构。 为达上述目的，本专利技术提供一种的散热单元的支撑结构，包括至少一本体及一氧化物薄膜，该本体具有多个沟槽，所述沟槽沿该本体外周侧凹设构成，且该每一沟槽从该本体一端凹设延伸至相对该本体的另一端，该氧化物薄膜披覆在该本体的外周侧及所述沟槽表面上；通过本专利技术此支撑结构上披覆氧化物薄膜的设计，得有效用以取代烧结粉末的毛细结构，进而可大幅的加速工作流体于散热单元的腔室内的汽液循环，借以有效提升散热效能。 【专利附图】【附图说明】 图1A是本专利技术的较佳实施例的立体示意图； 图1B是本专利技术的图1A中A-A的剖面示意图； 图1C是本专利技术的图1B的局部放大示意图； 图2是本专利技术的较佳实施例的实施态样示意图； 图3是本专利技术的图2中B-B剖面示意图。 符号说明 本体 I 沟槽11 氧化物薄膜2 散热单元3 第一平板31 第二平板32 毛细结构311、321 腔室33 散热鳍片组35 发热元件5 液态的工作流体6 汽态的工作流体7 【具体实施方式】 本专利技术的上述目的及其结构与功能上的特性，将依据所附图式的较佳实施例予以说明。 本专利技术提供一种散热单元的支撑结构，请参阅图1A、图1B、图2是显示本专利技术的较佳实施例的示意图；该支撑结构应用于一散热单元3，该散热单元3于该较佳实施例以均温板做说明，但并不局限于此，于具体实施时，亦可选择为一扁平热管或一热板。 前述支撑结构包括至少一本体I及一氧化物薄膜2，该本体I以高热传导系数材料所构成，如铜、银、铝或其合金，且其为一铜柱体，并前述本体I具有多个沟槽11，所述沟槽11沿该本体I外周侧凹设构成,且该每一沟槽11从该本体I 一端凹设延伸至相对该本体I的另一端，并于该较佳实施例的所述沟槽11以呈等距排列设置凹设形成在该本体I外周侧上做说明，但并不局限于此，本专利技术实际实施时，所述沟槽11也可呈不等距排列设置凹设形成在该本体I外周侧上，合先陈明。 此外，通过本专利技术的所述沟槽11形成在该本体I上,使该本体I表面改质而有效降低工作液体(即工作流体)与固体表面的接触角，借以提高液态的工作流体6在铜材的本体I表面上的表面张力，使水(即液态的工作流体6)的流动具有方向性而降低流阻。 再者前述氧化物薄膜2为一亲水性薄膜或疏水性薄膜其中任一，本专利技术于实施例中选择亲水性薄膜来做说明，并将该薄膜披覆在该本体I外周侧及所述沟槽11表面上，亦即将形成有所述沟槽11的本体I以凝胶-熔胶(Sol-gel)浸度法镀制二氧化硅(S12)薄膜，使所述本体I外周侧及其上所述沟槽11表面形成有氧化物簿膜2，令其具有超亲水特性及控制液态的工作流体6流动的方向性。 故，通过本专利技术的具有氧化物薄膜2沟槽11的支撑结构应用于该散热单元3内，除了具有支撑均温板及增加强度的功能外，且同时还具有超亲水性的效果，进而更有效提供足够回水毛细力的功效，使得有效改善公知支撑结构上的烧结粉末体会有流体阻力的问题。 续参阅图2、图3所示,并辅以参阅图1A至图1C所示,前述散热单元3具有一第一平板31及一相对该第一平板31的第二平板32，第一平板31与第二平板32之间界定一腔室33，该本体I容设在该腔室33内，于具体实施时，使用者可以根据支撑强度的需求，调整设计前述本体I的数量多寡，合先陈明。并所述本体I的一端及其另一端分别抵接相对该第一平板31及第二平板32的内侧，一工作流体填充于该腔室33内，该工作流体于本专利技术以水做说明表示，但并不局限于此，惟本专利技术实际实施时，凡亦可利于蒸发散热的流体为如纯水、无机化合物、醇类、酮类、液态金属、冷煤、有机化合物或其混合物皆为所叙述的工作流体。 另者，前述第一、二平板31、32内侧分别形成有一毛细结构311及一亲水性涂层321，该第一平板31的毛细结构311于该较佳实施例分别为粉末烧结体做说明，但并不局限于此，于具体实施时，亦可选择为沟槽、及网格体其中任一；且该第二平板32的亲水性涂层321于具体实施时亦可选择为毛细结构，如毛细结构为粉末烧结体、沟槽、及网格体其中任一。并该第一平板31外侧与相对一发热兀件5 (如中央处理器、显不晶片、南北桥晶片、电晶体)相贴设，亦即该第一平板31可称为蒸发端，该第二平板32则可称为冷凝端，且该第二平板32外侧上可设有一具多个鳍片构成的散热鳍片组35。 所以当前述本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种散热单元的支撑结构，其特征在于，包括:至少一本体，具有多个沟槽，所述沟槽沿该本体外周侧凹设构成，且该每一沟槽从该本体一端凹设延伸至相对该本体的另一端;及一氧化物薄膜，披覆在该本体的外周侧及所述沟槽表面上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：林志晔，黄传秦，
申请(专利权)人：奇鋐科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71