本实用新型专利技术公开了一种湿法刻蚀机，包括刻蚀槽及其盖板、清洗槽及其盖板；刻蚀槽下侧设有储液罐，二者之间设有注液管道和回流管道，储液罐内设有第一热交换器；清洗槽下侧设有储水罐，二者之间设有注水管道和回水管道；湿法刻蚀机还包括冷却储水罐内介质的冷却装置，冷却装置的预设温度小于或等于第一热交换器的预设温度，使储水罐的预设温度小于或等于储液罐的预设温度，从而使得清洗槽上方的水汽温度小于或等于刻蚀槽上方的酸气温度，气流流动时，不会形成酸性液滴，从根本上避免了刻蚀槽上方盖板液滴的凝结，避免了硅片在刻蚀过程中形成不合格片。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术公开了一种湿法刻蚀机，包括刻蚀槽及其盖板、清洗槽及其盖板；刻蚀槽下侧设有储液罐，二者之间设有注液管道和回流管道，储液罐内设有第一热交换器；清洗槽下侧设有储水罐，二者之间设有注水管道和回水管道；湿法刻蚀机还包括冷却储水罐内介质的冷却装置，冷却装置的预设温度小于或等于第一热交换器的预设温度，使储水罐的预设温度小于或等于储液罐的预设温度，从而使得清洗槽上方的水汽温度小于或等于刻蚀槽上方的酸气温度，气流流动时，不会形成酸性液滴，从根本上避免了刻蚀槽上方盖板液滴的凝结，避免了硅片在刻蚀过程中形成不合格片。【专利说明】一种湿法刻蚀机
本技术涉及光伏
，特别是涉及一种湿法刻蚀机。
技术介绍
光伏组件作为太阳能的一种利用形式正在大规模的应用，并形成了庞大的产业，越来越多的光伏组件投入使用，为人类提供着清洁的电力能源。 光伏组件利用玻璃板、背板和EVA封装电池片，电池片由硅片制成，是光伏组件的核心。硅片由硅锭切割而成，然后经过表面制绒、扩散制结、刻蚀、沉积减反射膜、印刷烧结等工艺制成电池片。其中，刻蚀工艺是电池片制造过程中的一个重要工序，目的是去除硅片下表面及四个侧面的PN结，以达到上下表面绝缘的目的，同时去除下表面及四个侧面的磷娃玻璃层。 目前，一种常用的刻蚀方法是湿法刻蚀，通过化学试剂腐蚀掉硅片下表面及四个侧面的PN结及磷硅玻璃层。如图1所示，图1为一种典型的湿法刻蚀机的结构示意图。 湿法刻蚀的过程需要用到化学试剂，刻蚀后需要清洗硅片，在湿法刻蚀机中，刻蚀槽I与清洗槽2相邻，两者上方分别设有盖板3和盖板4。刻蚀槽I下方设有储液罐5，储液罐5与刻蚀槽I之间设有注液管道6和用于药液回流的回流管道7、8，储液罐5内设有第一热交换器9，第一热交换器9可以使储液罐5中的药液降温至设定的温度。清洗槽2的下方设有储水罐10，储水罐10与清洗槽2之间设有注水管道11和用于回流的回水管道12。 在生产过程中，会有气流从清洗槽2和盖板4之间流向刻蚀槽I和盖板3之间，由于工艺的要求，需要储液罐5内的药液温度较低，从而使刻蚀槽I中的药液温度也较低，且药液不断的挥发，致使在刻蚀槽I与盖板3之间充满较凉的酸气。相对而言清洗槽2中纯水的温度较高，约为室温，在气流的作用下，大量的水蒸气更随气流流到刻蚀槽I和盖板3之间，遇到较凉的酸气凝集成酸性的液滴。液滴在重力的作用下会向刻蚀槽I中滴落，如果此时有硅片通过，滴落到硅片表面会形成不合格片。 目前通常采用定期人工擦拭的方式擦去刻蚀槽I的盖板3上形成的酸性液滴，尽量减少酸性液滴造成的不合格片。但是，人工擦拭的方式不能及时有效的避免液滴滴落，还会造成一部分不合格片。 因此，如何避免硅片在刻蚀过程中形成不合格片，是本领域技术人员目前急需解决的技术问题。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种湿法刻蚀机，该湿法刻蚀机的刻蚀槽盖板上不会形成酸性液滴，避免了硅片在刻蚀过程中形成不合格片。 为了实现上述技术目的，本技术提供了一种湿法刻蚀机，包括刻蚀槽及其盖板、清洗槽及其盖板；所述刻蚀槽下侧设有储液罐，二者之间设有注液管道和回流管道，所述储液罐内设有第一热交换器；所述清洗槽下侧设有储水罐，二者之间设有注水管道和回水管道；所述湿法刻蚀机还包括冷却所述储水罐内介质的冷却装置，所述冷却装置的预设温度小于或等于所述第一热交换器的预设温度。 优选地，所述冷却装置为第二热交换器，所述第二热交换器设于所述储水罐内。 优选地，还包括冷却罐，所述储水罐设有进水管和出水管，所述进水管和所述出水管均与所述冷却罐连通；所述冷却装置为第二热交换器，所述第二热交换器设于所述冷却罐内。 优选地，所述第一热交换器具有第一进水管和第一出水管，所述第二热交换器具有第二进水管和第二出水管；所述第一进水管和所述第二进水管均与冷水却总管连通；所述第一出水管和所述第二出水管均与回水总管连通。 优选地，所述储水罐设有进水管和出水管，所述进水管和所述出水管与所述冷却装置构成循环回路。 优选地，所述冷却装置的预设温度等于所述第一热交换器的预设温度。 本技术提供的湿法刻蚀机，包括刻蚀槽及其盖板、清洗槽及其盖板；刻蚀槽下侧设有储液罐，二者之间设有注液管道和回流管道，储液罐内设有第一热交换器；清洗槽下侧设有储水罐，二者之间设有注水管道和回水管道；湿法刻蚀机还包括冷却储水罐内介质的冷却装置，冷却装置的预设温度小于或等于第一热交换器的预设温度，使储水罐的预设温度小于或等于储液罐的预设温度，从而使得清洗槽上方的水汽温度小于或等于刻蚀槽上方的酸气温度，气流流动时，不会形成酸性液滴，从根本上避免了刻蚀槽上方盖板液滴的凝结，避免了硅片在刻蚀过程中形成不合格片。 【专利附图】【附图说明】 图1为一种典型的湿法刻蚀机的结构示意图； 图2为本技术所提供的湿法刻蚀机一种【具体实施方式】的结构示意图。 其中，图1和图2中的附图标记和部件名称之间的对应关系如下: 刻蚀槽I ;清洗槽2 ;盖板3 ;盖板4 ;储液罐5 ;注液管道6 ;回流管道7、8 ;第一热交换器9 ;储水罐10 ;注水管道11 ;回水管道12 ;第二热交换器13。 【具体实施方式】 本技术的核心是提供一种湿法刻蚀机，该湿法刻蚀机的刻蚀槽盖板上不会形成酸性液滴，避免了硅片在刻蚀过程中形成不合格片。 为了使本
的人员更好地理解本技术方案，下面结合附图和【具体实施方式】对本技术作进一步的详细说明。 请参考图2，图2为本技术所提供的湿法刻蚀机一种【具体实施方式】的结构示意图。 在一种具体的实施方式中，本技术提供了一种湿法刻蚀机，包括刻蚀槽I及其盖板3、清洗槽2及其盖板4 ;刻蚀槽I下侧设有储液罐5，二者之间设有注液管道6和回流管道7、8，储液罐5内设有第一热交换器9 ;清洗槽2下侧设有储水罐10，二者之间设有注水管道11和回水管道12 ;湿法刻蚀机还包括冷却储水罐10内介质的冷却装置,冷却装置的预设温度小于或等于第一热交换器9的预设温度。 通过湿法刻蚀机对硅片进行刻蚀时，硅片放置在刻蚀槽I内，刻蚀槽I下侧的储液罐5内装有刻蚀所需的药液，药液通过注液管道6源源不断的注入刻蚀槽1，与硅片接触后的药液通过刻蚀槽I两边的回流管道7和回流管道8流回储液槽5。 刻蚀后的硅片移动到清洗槽2内，清洗槽2下侧的储水罐10内装有清水，清水通过注水管道11流入清洗槽2，清洗完硅片后通过回水管道12流回储水罐10。 刻蚀过程中，工艺要求储液罐5内的药液温度较低，第一热交换器9能够使储液罐5内药液的温度为第一热交换器9的预定温度，从而使刻蚀槽I中的药液温度较低。同时，冷却装置能够使储水罐10内清水的温度为冷却装置的预定温度，从而使刻清洗槽2中的清水温度也较低。 冷却装置的预设温度小于或等于第一热交换器9的预设温度，使得储水罐10的温度小于或等于储液罐5的温度，从而使得清洗槽2上方的水汽温度小于或等于刻蚀槽I上方的酸气温度，气流流动时，不会形成酸性液滴，从根本上避免了刻蚀槽I上方盖板3液滴的凝结，避免了硅片在刻蚀过程中形成不合格片。 一种优选的实施方式中，冷却装置为第二热交换器13，本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种湿法刻蚀机，包括刻蚀槽(1)及其盖板(3)、清洗槽(2)及其盖板(4)；所述刻蚀槽(1)下侧设有储液罐(5)，二者之间设有注液管道(6)和回流管道(7、8)，所述储液罐(5)内设有第一热交换器(9)；所述清洗槽(2)下侧设有储水罐(10)，二者之间设有注水管道(11)和回水管道(12)；其特征在于，所述湿法刻蚀机还包括冷却所述储水罐(10)内介质的冷却装置，所述冷却装置的预设温度小于或等于所述第一热交换器(9)的预设温度。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：李永洋，李建朋，吴成新，王月超，杨晓超，
申请(专利权)人：天津英利新能源有限公司，
类型：新型
国别省市：天津;12
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