一种掩模板制造技术

技术编号:10679430 阅读:160 留言:0更新日期:2014-11-26 13:00
本实用新型专利技术提供一种掩模板,包含:第一子掩模板;第二子掩模板,与所述第一子掩模板交叉;所述第一子掩模板在与所述第二子掩模板交叉区域,设置有第一凹槽,所述第一凹槽能够收纳第二子掩模板。本实用新型专利技术通过在交叉处设置凹槽,使得交叉处的总高度降低,与非交叉处的高度保持平齐,这样能够提高掩模板铺设的平坦度,提高张网精度,提高蒸镀良率。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术提供一种掩模板,包含:第一子掩模板;第二子掩模板,与所述第一子掩模板交叉;所述第一子掩模板在与所述第二子掩模板交叉区域,设置有第一凹槽,所述第一凹槽能够收纳第二子掩模板。本技术通过在交叉处设置凹槽,使得交叉处的总高度降低,与非交叉处的高度保持平齐,这样能够提高掩模板铺设的平坦度,提高张网精度,提高蒸镀良率。【专利说明】一种掩模板
本技术涉及一种掩模板,尤其涉及一种用于有机发光器件蒸镀的金属掩模板。
技术介绍
有机发光二极管(OLED)显示装置的特性是自发光,不像液晶显示器(IXD)需要背光,因此可视度和亮度均高,其次是电压需求低且省电效率高,加上反应快、重量轻、高度薄,构造简单,成本低等,被视为21世纪最具前途的产品之一。 OLED利用电激发的有机荧光化合物发光,其具有阴极和阳极,二者中间有由有机化合物组成的有机膜。当向阴极、阳极上施加电压时,施加正电压的电极中,空穴通过空穴传输层(HTL)迁移到有机发光区,施加负电压的电极中,电子通过电子传输层(ETL)迁移到有机发光区,空穴和电子在有机发光区中发生复合产生激子,激子被激发后发出光,为OLED显示提供光源。 一般而言,OLED器件中的有机材料通常采用蒸镀工艺实现,随着OLED手机屏幕尺寸的增大,为提高生产效率,蒸镀用金属掩模板的尺寸也不断增大,如何提高蒸镀精度是工艺上面临的一个重要问题。
技术实现思路
本技术为了解决上述现有技术存在的问题,提供了一种掩模板,包含:第一子掩模板;第二子掩模板,与所述第一子掩模板交叉;所述第一子掩模板在与所述第二子掩模板交叉区域,设置有第一凹槽,所述第一凹槽能收纳第二子掩模板。 可选地,第二子掩模板在与所述第一子掩模板交叉处,设置有第二凹槽,所述第二凹槽与所述第一凹槽配合,收纳所述第一子掩模板。 可选地,第一凹槽和所述第二凹槽高度之和等于所述第一子掩模板和所述第二子掩模板高度之和的二分之一。 可选地,第一凹槽和所述第二凹槽中的的至少一个平面是不平整表面。 可选地,第一凹槽或所述第二凹槽的截面,至少有一条边为斜线或台阶状或曲线。 可选地,第一凹槽或所述第二凹槽的截面形状为楔形。 可选地,楔形的斜边与水平边的夹角为45° -70°。 可选地,还包含框架,第一子掩模板和第二子掩模板的两端固定在所述框架上。 可选地,第一凹槽或/和所述第二凹槽的高度范围为10-60 μ m。 可选地,第一凹槽的宽度范围为2_20mm或/和所述第二凹槽的宽度范围为10-30mmo 可选地,第一凹槽或所述第二凹槽采用半刻蚀的方法制成。 可选地,掩模板还包含第三子掩模板,所述第三子掩模板覆盖于第一子掩模板和所述第二子掩模板上方。 可选地,有机层采用上述的掩模板蒸镀制成。 本技术还包括一种有机发光显示面板,包含有机层,其特征在于,所述有机层是采用上述掩模板制成的。 本技术具有如下一种或多种的技术效果: 1、通过在交叉处设置凹槽,使得交叉处的总高度降低,与非交叉处的高度保持平齐,这样能够提高掩模板铺设的平坦度,提高张网精度,提高蒸镀良率。 2、通过楔形设计,提高遮蔽掩模板和支撑掩模板的组装精度,减少框架机械加工精度低的风险。 3、通过凹槽的不平整表面设计,确保遮蔽掩模板和支撑掩模板不发生移位,保证组装稳定性。 【专利附图】【附图说明】 图1为现有技术的掩模板结构俯视图示意图; 图2a为图1中A-A’的剖视图; 图2b为图1中B-B,的剖视图; 图2c为图1中C-C’的剖视图; 图3为本技术一实施例提供的掩模板结构俯视图示意图; 图4为本技术一实施例提供的掩模板结构俯视图示意图; 图5a为本技术图3中D_D’的剖视图; 图5b为本技术一实施例提供的掩模板结构剖视图; 图5c为本技术图3中E-E’的剖视图; 图5d为本技术一实施例提供的掩模板结构剖视图; 图6a为本技术一实施例提供的掩模板结构的剖视图; 图6b为本技术一实施例提供的掩模板结构的剖视图; 图7a为本技术一实施例提供的掩模板结构的剖视图; 图7b为本技术一实施例提供的掩模板结构的剖视图; 图8a为本技术一实施例提供的掩模板结构的剖视图; 图Sb为本技术一实施例提供的掩模板结构的剖视图; 图9a为本技术一实施例提供的掩模板结构的剖视图; 图9b为本技术一实施例提供的掩模板结构的剖视图。 【具体实施方式】 为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本技术的几种实施例,而非全部实施方式,基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。 图1为现有技术中有机发光显示器件蒸镀用掩模板的示意图,掩模板包含框架101,框架101上设置有第一子掩模板102和第二子掩模板103。请参照图2a、2b,分别为图I沿A-A’、B-B’的剖视图,从图中可以知道,框架101上设置有一凹槽,第一子掩模板102及第二子掩模板103分别设置在框架101的凹槽内。请参照图2c,图2c为图1沿C-C’的剖视图,从图2c中可以看出,在第一子掩模板102和第二子掩模板103交叉处,第一子掩模板102位于第二子掩模板103的上方。 图3是本技术的一个实施例包含的有机发光显示器件蒸镀用掩模板的俯视图。图3中包含框架201,框架201上设置有第一子掩模板202和第二子掩模板203。可选地,第一子掩模板202是起支撑作用的支撑掩模板(support mask),尤其在大尺寸OLED器件的制备过程中,由于掩模板的尺寸较大,容易在重力的影响下发生变形,支撑掩模板可以给大尺寸掩模板以支撑力,从而消除大尺寸掩模板的变形。请参照图4,图4是本技术的一个实施例包含的有机发光显示器件蒸镀用掩模板的俯视图。图4中还包含第三子掩模板206,第三子掩模板206覆盖在第一子掩模板202及第二子掩模板203上方。可选地,第三子掩模板206是分区掩模板(divided mask),分区掩模板206将这个基板分成蒸镀区域与非蒸镀区域,其允许有机物沉积到蒸镀区域,阻止有机物沉积到非蒸镀区域,一般来讲,蒸镀区域是有机发光的像素单元区域。可选地,第二子掩模板203是起遮蔽作用的遮蔽掩模板(cover mask),而遮蔽掩模板203则遮挡在两个相邻分区掩模板206之间,其作用是防止有机物蒸镀到相邻分区掩模板206中间的非蒸镀区域。通过上述三种掩模板的作用,蒸发室中从蒸发源中蒸发出来的有机物气体蒸镀于有机发光装置中,尤其形成红、绿、蓝有机层及空穴传输层(HTL)。可选地,第一子掩模板或第二子掩模板或第三子掩模板的材料为金属。 请参照图5a,是本技术图3沿D_D’的剖视图。在掩模板张网工艺中,由于分区掩模板需要设置在框架201、第一子掩模板202、第二子掩模板203的上方,为了保证张网的精度,需要保证下方掩模板的平坦度。因此,本实施例中,本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩模板,其特征在于,包含: 第一子掩模板; 第二子掩模板,与所述第一子掩模板交叉设置; 所述第一子掩模板在与所述第二子掩模板交叉区域,设置有第一凹槽,所述第一凹槽能收纳第二子掩模板。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:孙田雨叶添昇毕德锋
申请(专利权)人:上海天马有机发光显示技术有限公司天马微电子股份有限公司
类型:新型
国别省市:上海;31

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