液体喷出头的制造方法技术

技术编号:10674045 阅读:159 留言:0更新日期:2014-11-26 10:31
一种液体喷出头的制造方法,包括进行第一曝光以形成第一喷出口列的步骤和进行第二曝光以形成第二喷出口列的步骤,在第二喷出口列中,喷出口通过连接部与形成第一喷出口列的喷出口配置成列。在由第一喷出口列和第二喷出口列形成的喷出口列中,关于喷出口的中心之间的在喷出口的开口面上的喷出口配置方向上的距离,以如下方式形成喷出口:彼此相邻且在彼此之间具有连接部的两个喷出口的中心之间的距离比彼此相邻但在彼此之间不具有连接部的两个喷出口的中心之间的距离长。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】一种,包括进行第一曝光以形成第一喷出口列的步骤和进行第二曝光以形成第二喷出口列的步骤,在第二喷出口列中,喷出口通过连接部与形成第一喷出口列的喷出口配置成列。在由第一喷出口列和第二喷出口列形成的喷出口列中,关于喷出口的中心之间的在喷出口的开口面上的喷出口配置方向上的距离,以如下方式形成喷出口:彼此相邻且在彼此之间具有连接部的两个喷出口的中心之间的距离比彼此相邻但在彼此之间不具有连接部的两个喷出口的中心之间的距离长。【专利说明】
本专利技术涉及。
技术介绍
液体喷出装置将液体从液体喷出头喷出至记录介质并记录图像等。专利文献I中描述了一种方法,作为这种。将简要地描述专利文献I所述的。首先,制备包括能量产生元件的元件基板,其中能量产生元件产生用于从喷出口喷出液体的能量。接着,在元件基板上形成包括光吸收剂的正型感光性树脂层。然后,曝光正型感光性树脂层,形成包括流路的形状的图案。接着,以负型感光性树脂层覆盖该图案的方式形成将要作为喷出口形成构件的负型感光性树脂层。使负型感光性树脂层曝光于i线(波长为365nm),并形成喷出口列,在该喷出口列中,喷出口沿配置方向布置成列。最后,移除图案并形成液体的流路。 当通过专利文献I的方法在液体喷出头中形成喷出口列时,存在需要曝光比场角尺寸(field angle size)大的图案的情况,其中场角尺寸是能够被曝光设备曝光的区域。如专利文献2所述,在这种情况下,可以使用被称为“分割曝光(fract1nated exposure) ”的制造方法。分割曝光是如下方法:在掩模上划分不能位于场角中的图案,使得图案位于场角中并曝光图案。换言之,使用包括多个喷出口列图案的掩模进行曝光并且通过连接部连接由多个喷出口列图案形成的多个喷出口列,以在一个元件基板中形成一个喷出口列。通常,连接部配置在沿配置方向(纵向)划分喷出口列的位置处。 专利文献1:日本特开2009-166492号公报 专利文献2:日本特开2003-145769号公报
技术实现思路
本专利技术提供一种,其包括:在感光性树脂层上进行第一曝光并在所述感光性树脂层中形成第一喷出口列的步骤;和在所述感光性树脂层上进行第二曝光并在所述感光性树脂层中形成第二喷出口列的步骤,在所述第二喷出口列中,喷出口通过连接部与形成所述第一喷出口列的喷出口配置成列。其中,在由所述第一喷出口列和所述第二喷出口列形成的喷出口列中,关于所述喷出口的中心之间的在所述喷出口的开口面上的喷出口配置方向上的距离,以如下方式形成所述喷出口:彼此相邻且在彼此之间具有所述连接部的两个喷出口的中心之间的距离比彼此相邻但在彼此之间不具有所述连接部的两个喷出口的中心之间的距离长。 通过下面参照附图对示例性实施方式的说明,本专利技术的其他特征将变得明显。 【专利附图】【附图说明】 图1是液体喷出头的示意图。 图2是示出曝光设备的图。 图3是示出在缩小投影方式的曝光中的光束的倾斜的示意截面图。 图4是示出液体的着落位置的示意图。 图5是具有喷出口列图案的掩模的示意图。 图6A是示出分割曝光的示意图。 图6B是示出分割曝光的示意图。 图7是通过传统方法制造的液体喷出头的示意截面图。 图8是示出通过本专利技术制造的液体喷出头的示例的示意截面图。 图9是示出通过本专利技术制造的液体喷出头的示例的示意截面图。 【具体实施方式】 根据专利技术人的研究,观察到从彼此相邻且在彼此之间具有连接部的喷出口喷出的液滴的着落位置彼此偏移,并且在记录介质上出现条纹(streak)。因为着落的点彼此接近,并且这些点彼此接触,从而出现条纹。 本专利技术防止当通过使用如下液体喷出头将液体喷出至记录介质时在记录介质上出现条纹:该液体喷出头具有由分割曝光形成的喷出口列。 下面,将参照【专利附图】【附图说明】本专利技术的实施方式。在以下说明中,具有相同功能的部件将在附图中给予相同的附图标记并省略其说明。 图1是示出通过本专利技术的制造的液体喷出头的示例的示意图。液体喷出头包括元件基板1,元件基板I包括能量产生元件2。虽然在图1中能量产生元件2直接设置于元件基板I,但是能量产生元件2可以相对于元件基板I浮在空中。能量产生元件2以预定的节距(pitch)配置成两列。例如,将由硅形成的基板用作元件基板 I。元件基板I包括向流路6和喷出口 5供给液体的供给口 3。形成喷出口 5的喷出口形成构件9形成于元件基板I。多个喷出口 5共同形成为一个喷出口列7。喷出口 5沿配置方向配置以形成喷出口列7。喷出口 5的配置方向为由图1中的A-A’线所示出的方向。在图1中,形成有两个喷出口列7。供给口 3通过流路6与喷出口 5连通。喷出口形成构件9还是形成流路6的流路形成构件。以图1的形式,喷出口 5和能量产生元件2彼此对向,并且向通过供给口 3充填流路6的液体(墨)施加由能量产生元件2产生的能量。由此,从喷出口 5喷出液滴。 将说明图1所示的的示例。首先,制备包括能量产生元件2的元件基板I。接着,在元件基板I上形成正型感光性树脂层,并通过光刻法使正型感光性树脂层图案化,从而形成将要作为流路6的流路图案(流路的形式)。在形成有流路图案的元件基板I上涂布将要作为喷出口形成构件9的负型感光性树脂,并形成负型感光性树脂层。接着,通过使用掩模使被涂布的负型感光性树脂层曝光。曝光后,进行预烘焙和显影处理以形成喷出口 5。进一步地,通过各向异性蚀刻等形成供给口 3,然后移除流路图案以形成流路6。最后,从晶片上切割液体喷出头的芯片,并且液体喷出头与元件基板I的接触用焊盘电连接。 接着,将更详细地说明形成喷出口的曝光。通过使用例如图2所示的曝光设备来进行曝光。通过使用例如从高压水银蒸气灯照射的光线的i线来进行发自光源21的光线的照射。用于曝光的光线并不限于此,而是可以使用任何具有使待被图案化的构件感光的波长的光线。曝光设备包括缩小投影光学系统23并曝光喷出口形成构件9,喷出口形成构件9为元件基板I上的负型感光性树脂层。 当进行曝光时,光线可以相对于光学系统的光轴倾斜。光线相对于光学系统的光轴的倾斜称为远心现象(telecentric phenomenon)。倾斜的程度称为轴外远心度(off-axis telecentric degree)。特别地,远心现象发生在缩小投影光学系统中。 光线束20的外侧光线261的轴外远心度的绝对值趋向于比在光线束20的中心处的光线25的轴外远心度的绝对值大。光线束的中心是指光线束的在与掩模22平行的方向上的截面的重心。当光线束的中心和掩模的中心彼此相对应时(同轴配置时),外侧光线261、即穿过掩模的边缘附近的光线的轴外远心度的绝对值比穿过掩模的中心的光线25的轴外远心度的绝对值大。掩模的中心与透镜的中心基本上彼此相对应,从而上述关系同样适用于透镜。由于远心现象的影响,从光源照射至掩模的光线相对于与喷出口形成构件9的表面垂直的面倾斜。当光线的倾斜角度为X时,由I微米散焦造成的扭曲引起的图像形成位置的改变被表示为“1000*tanX(nm)”。在常规喷嘴芯片(nozzle chip)的情况下,图像形成位置的改变以nm为单位。因此,倾斜角度X是非常小的值,本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种液体喷出头的制造方法,其包括:在感光性树脂层上进行第一曝光并在所述感光性树脂层中形成第一喷出口列的步骤;和在所述感光性树脂层上进行第二曝光并在所述感光性树脂层中形成第二喷出口列的步骤,在所述第二喷出口列中,喷出口通过连接部与形成所述第一喷出口列的喷出口配置成列;其中,在由所述第一喷出口列和所述第二喷出口列形成的喷出口列中,关于所述喷出口的中心之间的在所述喷出口的开口面上的喷出口配置方向上的距离,以如下方式形成所述喷出口:彼此相邻且在彼此之间具有所述连接部的两个喷出口的中心之间的距离比彼此相邻但在彼此之间不具有所述连接部的两个喷出口的中心之间的距离长。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:藤井谦儿真锅贵信黑须敏明渡边诚山口裕久雄村冈千秋关纱绫香
申请(专利权)人:佳能株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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