一种可提高入射光效率的CMOS图像像素阵列制造技术

技术编号:10668555 阅读:195 留言:0更新日期:2014-11-20 13:46
本发明专利技术公开了一种可提高入射光效率的CMOS图像像素阵列,通过在像素阵列的光通道中设置光纤,并取消了现有技术的微透镜层,而将原构成微透镜层的微透镜和颜色滤镜合理设置在光纤内,使入射光可沿光纤几乎无反射地抵达感光区域,大大提高了入射光的利用效率,同时也利用光纤的屏蔽效应有效抑制了相邻像素间的串扰现象,并使得像素阵列的整体高度明显降低。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种可提高入射光效率的CMOS图像像素阵列,包括上层金属层和下层感光二极管层,所述金属层和感光二极管层设有互通的光通道,所述感光二极管层设有感光二极管,所述光通道连通所述感光二极管,其特征在于,所述光通道中设有光纤,所述光纤的一端通向所述光通道位于所述金属层的上端开口,另一端密合连通所述感光二极管,所述光纤内按上下位置设有微透镜、颜色滤镜;其中,入射光可直接从所述金属层的上方通过所述光纤的上端开口进入,经过所述光纤内的所述微透镜的汇聚、所述颜色滤镜的还原,沿所述光纤传导至所述感光二极管。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:陈嘉胤
申请(专利权)人:上海集成电路研发中心有限公司成都微光集电科技有限公司
类型:发明
国别省市:上海;31

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