一种掩膜板的清洗方法技术

本发明专利技术公开了一种掩膜板的清洗方法，包括以下步骤：将掩膜板浸泡在丙酮中，同时用滚筒刷对掩膜板的表面从各个方向进行滚动刷洗；再将掩膜板浸泡在去离子水中进行超声清洗；重复以下步骤5次：将掩膜板放入气体和液体的强力混合流体中进行清洗后，再将掩膜板放入流动的去离子水中进行冲洗；最后将掩膜板用气体吹干。本发明专利技术方法采用丙酮并配以聚乙烯醇材质的滚筒刷来代替SPM溶液，清洗效果与现有SPM溶液清洗方法相当，但是由于丙酮不会与Cr发生化学反应，它只是将光刻胶等杂质去除而不会将掩膜板上的图形破坏，因此减少了因清洗而对掩膜板造成的损伤，从而提高掩膜板的寿命，降低企业的生产成本。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了，包括以下步骤：将掩膜板浸泡在丙酮中，同时用滚筒刷对掩膜板的表面从各个方向进行滚动刷洗；再将掩膜板浸泡在去离子水中进行超声清洗；重复以下步骤5次：将掩膜板放入气体和液体的强力混合流体中进行清洗后，再将掩膜板放入流动的去离子水中进行冲洗；最后将掩膜板用气体吹干。本专利技术方法采用丙酮并配以聚乙烯醇材质的滚筒刷来代替SPM溶液，清洗效果与现有SPM溶液清洗方法相当，但是由于丙酮不会与Cr发生化学反应，它只是将光刻胶等杂质去除而不会将掩膜板上的图形破坏，因此减少了因清洗而对掩膜板造成的损伤，从而提高掩膜板的寿命，降低企业的生产成本。【专利说明】
本专利技术涉及半导体元器件制造技术，尤其涉及。
技术介绍
现有的清洗掩膜板的方法是将其浸泡在SPM溶液中，SPM溶液即为用浓硫酸和双 氧水按一定比例配成的溶液。其具体步骤为： S1 :配制SPM溶液，并将其加热到所需的温度； S2 :将掩膜板在SPM溶液中浸泡一定时间后取出； S3 :将掩膜板放入气体和液体的强力混合流体中清洗一定时间后取出； S4 :将掩膜板放入流动的去离子水中冲洗一定时间； S5 :重复步骤S3、S4的操作进行5次； S6 :将掩膜板用气体吹干。 上述这种方法的清洗效果很好，清洗后掩膜板的表面很干净。但是由于掩膜板上 的图形是Cr材质，经常用SPM溶液浸泡会使硫酸将Cr腐蚀掉，使图形发生变化而不精确。 因此用这种方法清洗掩膜板，掩膜板的使用次数很少，需要经常更换掩膜板，这样会提高生 产的成本。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有技术的缺陷而提供。 本专利技术的目的是这样实现的： 本专利技术的，包括以下步骤： S1 :将掩膜板浸泡在丙酮中，同时用滚筒刷对掩膜板的表面从各个方向进行滚动 刷洗； S2 :将掩膜板浸泡在去离子水中进行超声清洗； S3 :将掩膜板放入气体和液体的强力混合流体中进行清洗； S4 :将掩膜板放入流动的去离子水中进行冲洗； S5 :重复步骤S3、S4的操作进行5次； S6 :将掩膜板用气体吹干。 上述的，其中，步骤S1中，所述滚筒刷包括滚筒、轴、叉形 支架和手柄，所述滚筒套在所述轴上，所述轴的两端安装在所述叉形支架上，所述手柄安装 在所述叉形支架的下方，所述滚筒由聚乙烯醇（PVA)制成。 在清洗干净的前提下，现有清洗方法主要是通过化学腐蚀并辅以物理方法将掩膜 板上的杂质去除，但这种化学试剂在去除杂质的同时也将掩膜板上的图形损坏，因此长期 使用会导致掩膜板的图形发生变形而不得不更换掩膜板。 本专利技术方法采用丙酮并配以聚乙烯醇（PVA)材质的滚筒刷来代替SPM溶液，在这 种化学腐蚀和物理冲刷和震荡的共同作用下清洗的掩膜板，清洗后掩膜板表面的干净程度 与现有SPM溶液清洗方法相当，但是由于丙酮不会与Cr发生化学反应，它只是将光刻胶等 杂质去除而不会将掩膜板上的图形破坏，因此减少了因清洗而对掩膜板造成的损伤，从而 提高掩膜板的寿命，降低企业的生产成本。 【专利附图】【附图说明】 图1是本专利技术中滚筒刷的结构示意图。 【具体实施方式】 下面将结合实施例，对本专利技术作进一步说明。 本专利技术掩膜板的清洗方法，包括以下步骤： S1 :将掩膜板浸泡在丙酮中，同时用滚筒刷对掩膜板的表面从各个方向进行滚动 刷洗； S2 :将掩膜板浸泡在去离子水中进行超声清洗； S3 :将掩膜板放入气体和液体的强力混合流体中进行清洗； S4 :将掩膜板放入流动的去离子水中进行冲洗； S5 :重复步骤S3、S4的操作进行5次； S6 :将掩膜板用气体吹干。 步骤S1中，如图1所示，滚筒刷包括滚筒1、轴2、叉形支架3和手柄4,滚筒1套在 轴2上，轴2的两端安装在叉形支架3上，手柄4安装在叉形支架3的下方，滚筒1采用聚 乙烯醇（PVA)制成。 以上实施例仅供说明本专利技术之用，而非对本专利技术的限制，有关
的技术人 员，在不脱离本专利技术的精神和范围的情况下，还可以作出各种变换或变型，因此所有等同的 技术方案也应该属于本专利技术的范畴，应由各权利要求所限定。【权利要求】1. ，其特征在于，所述清洗方法包括以下步骤： 51 :将掩膜板浸泡在丙酮中，同时用滚筒刷对掩膜板的表面从各个方向进行滚动刷 洗； 52 :将掩膜板浸泡在去离子水中进行超声清洗； 53 :将掩膜板放入气体和液体的强力混合流体中进行清洗； 54 :将掩膜板放入流动的去离子水中进行冲洗； 55 :重复步骤S3、S4的操作进行5次； 56 :将掩膜板用气体吹干。2. 如权利要求1所述的，其特征在于，步骤S1中，所述滚筒刷包 括滚筒、轴、叉形支架和手柄，所述滚筒套在所述轴上，所述轴的两端安装在所述叉形支架 上，所述手柄安装在所述叉形支架的下方，所述滚筒由聚乙烯醇制成。【文档编号】H01L21/00GK104157546SQ201310173911【公开日】2014年11月19日 申请日期:2013年5月13日 优先权日:2013年5月13日 【专利技术者】陈子勇, 李雪峰, 管玉成, 黄震寰, 赵云翔, 李鑫, 许晓翠, 李方圆, 倪智平 申请人:上海鸿辉光通科技股份有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜板的清洗方法，其特征在于，所述清洗方法包括以下步骤：S1：将掩膜板浸泡在丙酮中，同时用滚筒刷对掩膜板的表面从各个方向进行滚动刷洗；S2：将掩膜板浸泡在去离子水中进行超声清洗；S3：将掩膜板放入气体和液体的强力混合流体中进行清洗；S4：将掩膜板放入流动的去离子水中进行冲洗；S5：重复步骤S3、S4的操作进行5次；S6：将掩膜板用气体吹干。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈子勇，李雪峰，管玉成，黄震寰，赵云翔，李鑫，许晓翠，李方圆，倪智平，
申请(专利权)人：上海鸿辉光通科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31