可挠透光基板及其制造方法技术

技术编号:10656449 阅读:138 留言:0更新日期:2014-11-19 17:19
一种可挠透光基板及其制造方法,该可挠透光基板包含:一个由可挠性材料制成且包括一个设置面的透光基材、一个配置于该透光基材的设置面上且其材料为氮化硅或硅碳氮化合物的缓冲膜,以及一个配置于该缓冲膜上且其材料为碳氢化合物的类钻碳膜。通过该缓冲膜能稳固地结合该透光基材与该类钻碳膜,并且通过该类钻碳膜优异的疏水效果,进而使得该可挠透光基板的表面容易清洁而不易累积污垢。此外,该类钻碳膜具有优异的抗刮性,不易因碰撞而产生磨损或伤痕,因此将该可挠透光基板封装成显示器模组时,所述显示器模组可维持良好的影像品质。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种,该可挠透光基板包含:一个由可挠性材料制成且包括一个设置面的透光基材、一个配置于该透光基材的设置面上且其材料为氮化硅或硅碳氮化合物的缓冲膜,以及一个配置于该缓冲膜上且其材料为碳氢化合物的类钻碳膜。通过该缓冲膜能稳固地结合该透光基材与该类钻碳膜,并且通过该类钻碳膜优异的疏水效果,进而使得该可挠透光基板的表面容易清洁而不易累积污垢。此外,该类钻碳膜具有优异的抗刮性,不易因碰撞而产生磨损或伤痕,因此将该可挠透光基板封装成显示器模组时,所述显示器模组可维持良好的影像品质。【专利说明】
本专利技术涉及一种基板及其制造方法,特别是涉及一种适合配合一个背板及一个发 光单元等构件进行封装,进而构成一个显示器模组的。
技术介绍
-般显示器模组通常包含一个透光基板、一个与该透光基板间隔的背板,以及设 置于该透光基板与该背板之间的一个发光单元、一个触控感应单元或一个液晶单元等。其 中,该透光基板能将该发光单元投射而来的光线向外导出,然而由于该透光基板的材料通 常为玻璃,因此韧性不佳而容易因碰撞而破裂、损坏。 另一方面,随着科技的进步,以有机发光二极管(Organic Light-EmittingDiode, 简称0LED)做为发光单元的可触控式显示器模组是目前科技研发的重点,这是因为0LED具 有高亮度、高对比、广视角与厚度薄等优点,还能符合显示器模组的轻薄化要求。此外,0LED 还可配合可挠的透光基板与背板进行封装,进而制成可收折的显示器模组,并具有方便携 带等人性化的优点。 所述可挠的透光基板的材料可以是聚对苯二甲酸乙二酯(PET),其可弯挠的性质 可克服以往使用玻璃透光基板容易因碰撞而损坏的问题,然而所述可挠性的透光基板的硬 度较低,其表面容易产生刮痕也容易累积污垢,进而影响该发光单元投射光线的透光效果, 使得所述显示器模组的影像品质不佳。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种层体之间的结合性佳且兼具优异的抗污效果与抗刮 效果的。 本专利技术可挠透光基板,包含一个由可挠性材料制成的透光基材。该透光基材包括 一个设置面,而该可挠透光基板还包含一个配置于该透光基材的设置面上且其材料为氮化 硅或硅碳氮化合物的缓冲膜,以及一个配置于该缓冲膜上且其材料为碳氢化合物并具有疏 水性的类钻碳膜。 本专利技术所述可挠透光基板,该缓冲膜的厚度为10?700nm。 本专利技术所述可挠透光基板,该类钻碳膜的厚度为5?100nm。 本专利技术所述可挠透光基板,该透光基材的材料为聚碳酸酯、聚乙烯醇、聚酰胺纤 维、聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯对苯二甲酸酯、聚苯乙烯或双轴延伸聚苯乙烯。 本专利技术可挠透光基板的制造方法,包含(A)将一个可挠的透光基材放入一个表面 处理装置的一个反应室内,并位于该表面处理装置的两片电极板之间;(B)通过辉光放电 方式,在该透光基材的一个设置面上形成一个缓冲膜,且该缓冲膜的材料为氮化硅或硅碳 氮化合物;及(C)通过辉光放电方式,在该缓冲膜上形成一个类钻碳膜,且该类钻碳膜的材 料为碳氢化合物并具有疏水性,就能制得该可挠透光基板。 本专利技术所述可挠透光基板的制造方法,在步骤(B)中,先将该反应室抽真空后,再 将硅源气体与氮源气体分别通入该反应室内反应,而制得材料为氮化硅的该缓冲膜,所述 硅源气体与所述氮源气体的体积比例为D :E,D为1且E为0. 1?20。 本专利技术所述可挠透光基板的制造方法,在步骤(B)中,先将该反应室抽真空后,再 将硅源气体、碳源气体与氮源气体分别通入该反应室内反应,而制得材料为硅碳氮化合物 的该缓冲膜,所述硅源气体、所述碳源气体与所述氮源气体的体积比例为A :B :C,A为1,B 为 0· 1 ?10, C 为 0· 1 ?20。 本专利技术所述可挠透光基板的制造方法,在步骤(C)中,先将该反应室抽真空后,再 将碳源气体与保护气体分别通入该反应室内反应,而制得材料为碳氢化合物的该类钻碳 膜,所述碳源气体与所述保护气体的体积比例为F :G,F为1且G为0. 1?1000。 本专利技术所述可挠透光基板的制造方法,在步骤(B)中,该反应室内的温度为20? 100。。。 本专利技术所述可挠透光基板的制造方法,在步骤(C)中,该反应室内的温度为20? 100。。。 本专利技术的有益效果在于:通过该缓冲膜能稳固地结合该透光基材与该类钻碳膜, 因此该可挠透光基板的层体之间的结合性优异,同时通过该类钻碳膜疏水性佳而具有优异 的阻水效果,进而使得该可挠透光基板的表面容易清洁而不易累积污垢。此外,该类钻碳膜 也具有优异的抗刮性,不易因碰撞而产生磨损或伤痕。此外,该可挠透光基板能维持良好的 透光品质,并且将该可挠透光基板封装成显示器模组时,所述显示器模组可维持良好的影 像品质。 【专利附图】【附图说明】 图1是本专利技术可挠透光基板的一个较佳实施例的一个局部侧视示意图; 图2是一个侧视剖视示意图,显示本专利技术可挠透光基板的制造方法的一个较佳实 施例所使用的一个表面处理装置; 图3是该制造方法的一个步骤流程方块图; 图4是该制造方法的一个步骤流程示意图。 【具体实施方式】 下面结合附图及实施例对本专利技术进行详细说明。 参阅图1,本专利技术可挠透光基板1的一个较佳实施例,适合配合一个背板及一个发 光单元等构件进行封装,进而构成一个显示器模组。其中,所述发光单元可以是薄膜电晶体 (Thin-FilmTransistor,简称 TFT)、发光二极管(Light-EmittingDiode,简称 LED)、有机发 光二极管(OrganicLight-EmittingDiode,简称0LED)等,当然实施上不限于前述举例。而 所述显示器模组可为触控或非触控的形式,由于所述显示器模组非本专利技术的重点,不再说 明。 而该可挠透光基板1可供所述显示器模组的发光单元投射光线并将光线向外导 出。该可挠透光基板1包含一个透光基材11,以及由邻近而远离该透光基材11而设置的一 个缓冲膜12与一个类钻碳膜13。 本实施例的透光基材11由可挠性材料制成,具体材料可为聚碳酸酯(PC)、聚乙烯 醇(PVA)、聚酰胺纤维(PA)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚乙烯对苯二甲酸酯(PET)、聚苯乙 烯(PS)或双轴延伸聚苯乙烯(OPS)等,但不限于前述举例。而该透光基材11包括一个朝 外的设置面111。 本实施例的缓冲膜12配置于该透光基材11的设置面111上,其材料为氮化硅 (SiN x,X为0· 5?1. 5)或硅碳氮化合物(SiNxCy,X为0· 1?1且y为0· 5?1),且其厚度 为10?700nm。其中,当该缓冲膜12的厚度小于10nm时,该缓冲膜12的厚度不足,进而影 响后续设置该类钻碳膜13时的结合性,因而无法稳固地结合该透光基材11与该类钻碳膜 13,使该类钻碳膜13容易坏损、剥落而失去阻水与抗刮的保护效果。当该缓冲膜12的厚度 大于700nm时,无功效上的助益,仅是徒增材料的消耗而增加生产成本。 本实施例的类钻碳膜13配置于该缓冲膜12上,其材料为碳氢化合物,具体可由C1 至C3的烷类制得,其中,由于该类钻碳膜13具有与钻石相近的性质,本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种可挠透光基板,包含一个由可挠性材料制成的透光基材;其特征在于:该透光基材包括一个设置面,而该可挠透光基板还包含一个配置于该透光基材的设置面上且其材料为氮化硅或硅碳氮化合物的缓冲膜,以及一个配置于该缓冲膜上且其材料为碳氢化合物并具有疏水性的类钻碳膜。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:黄建智李鸿昇简谷卫黄有为吴清沂
申请(专利权)人:北儒精密股份有限公司
类型:发明
国别省市:中国台湾;71

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