一种单工位硅抛光片载体盘冷却清洗机制造技术

一种单工位硅抛光片载体盘冷却清洗机，适用于单晶硅片抛光生产技术领域。本实用新型专利技术是在同一工位中同时采用了传导散热和喷淋降温两种冷却方式对装片后的载体盘进行冷却、淋洗，以此来完成抛光前的准备工序。操作人员只需将装片后的载体盘放置在冷却盘（3）上，按下按钮（11），闭合舱盖（7），冷却盘（3）就会按设定工艺要求完成载体盘的冷却、淋洗工作，使接近90℃高温的陶瓷载体盘通过单面水冷、淋洗等方式降低至30℃以下，以满足下道抛光工序要求。本实用新型专利技术设备体积小，移动方便，占空间位置不足0.5平方米。使得原先需要三、四个工位才能完成的冷却、淋洗工序集中在一台设备上完成，降低了成本，节约了投资，明显提高了工作效率。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于单晶硅片抛光生产
，主要涉及一种单工位硅抛光片载体盘冷却清洗机。
技术介绍
目前，单晶硅抛光片生产主要采用有蜡抛光工艺，在硅片抛光前需将待抛光硅片按照一定的工艺标准，用蜡粘在高温陶瓷载体盘上，载体盘经过冷却降温后进入下一道抛光工序。此工艺过程称为“装片”,由自动化的装片成套设备来完成。装片设备一般由预清洗、装片、冷却/淋洗三个部分组成，其中预清洗部分完成陶瓷载体盘的清洗工作，装片部分完成陶瓷载体盘的加热及将蜡均匀涂覆在陶瓷载体盘，冷却/淋洗部分负责将粘好蜡的高温陶瓷载体盘冷却降温。但现有技术中的冷却/淋洗部分占用装片设备四个工位，占用面积大，载体盘工位之间转换耗时较长，员工操作也不十分方便。
技术实现思路
鉴于现有技术中所存在的问题，本技术设计了一种单工位硅抛光片载体盘冷却清洗机，将冷却、淋洗部分从装片设备中分离出来，四个工位合为一体，实现一个工位即可完成载体盘的冷却降温工作，以解决单晶硅抛光片装片设备上冷却、淋洗部分占用装片设备四个工位、占用面积大、载体盘工位之间转换耗时长、员工操作不方便的问题。为实现上述专利技术目的，本技术采取的具体技术方案是：一种单工位硅抛光片载体盘冷却清洗机，主要是由支架、底舱、冷却盘、管道支架、吹气管、喷淋花洒、舱盖、气缸、下连杆、上连杆、磁信号传感器、按钮构成；其中底舱安装在支架上，冷却盘安放在底舱的底部前侧位置，底舱的底部后部装一个直立的管道支架，喷淋花洒和吹气管安装在管道支架上；舱盖罩在底舱上，舱盖通过底舱外部两侧的气缸、下连杆、上连杆与底舱铰接在一起，装在底舱两边外壁的按钮控制舱盖的开/关；气缸底部位置安装有磁信号传感器，保证在舱盖完全闭合时设备方能运行。所述的一种单工位硅抛光片载体盘冷却清洗机，其中底舱是一个700mm×700mm×400mm的方形槽；所述的一种单工位硅抛光片载体盘冷却清洗机，其中采用不锈钢焊接组件制成的支架尺寸为700mm×700mm；所述的一种单工位硅抛光片载体盘冷却清洗机，其中舱盖顶部装有透明的有机玻璃。本技术所述的一种单工位硅抛光片载体盘冷却清洗机，其结构简单，操作方便，设备体积小，占位少，移动方便。使得原先需要三、四个工位才能完成的冷却、淋洗工序集中在一台设备的一个工位上即可完成，所占空间不足0.5平方米，仅为原设备所占空间的1/6，大大节省了空间，使生产线衔接更加紧凑，在引进全套设备时可以减少相应部分的设备订购，节约了成本和投资。附图说明图1为本技术的结构示意图；图2为安装了冷却盘和支架的底舱结构示意图；图中：1、支架，2、底舱，3、冷却盘，4、管道支架，5、吹气管，6、喷淋花洒，7、舱盖，8、气缸，9、下连杆，10、上连杆，11、按钮，12、磁信号传感器。具体实施方式下面结合附图给出本技术的具体实施方式如下：如图1、图2所示，本技术所述的一种单工位硅抛光片载体盘冷却清洗机，主要是由支架1、底舱2、冷却盘3、管道支架4、吹气管5、喷淋花洒6、舱盖7、气缸8、下连杆9、上连杆10、按钮11、磁信号传感器12构成。底舱2安装在用不锈钢焊接组件制成的尺寸为700mm×700mm的支架1上；底舱2是一个700mm×700mm×400mm的方槽，冷却盘3安放在底舱2的底部前侧位置，冷却水接入冷却盘的循环水道中；直立的管道支架4固定在底舱2的底部后部位置，通纯水的喷淋花洒6和通氮气/压空气体的吹气管5安装在管道支架4上；舱盖7罩在底舱2上，舱盖7通过底舱2外部两侧的气缸8和下连杆9、上连杆10与底舱2铰接在一起，底舱2两侧的两组按钮11控制舱盖7的开/关；气缸8的底部安装磁信号传感器，舱盖7合上后触发延时继电器开始工作。工作时，操作人员将已经粘好硅片的载体盘放置到冷却盘3的中央位置，双手同时按下底舱2两侧的按钮11，气缸8回缩带动上连杆10、下连杆9关闭舱盖7，此时磁信号传感器12触发，冷却过程开始。冷却水由循环水道进出冷却盘3，带走载体盘的部分热量，初步冷却载体盘；接着喷淋花洒6将纯水喷淋在载体盘表面，对载体盘及硅片进行进一步的淋洗冷却；淋洗冷却完成后，吹气管5吹出氮气/压空将载体盘表面的水珠吹走，完成全部工作过程后。听到蜂鸣提醒后，操作人员同时按下底舱2两侧按钮11，开启舱盖7，即可取走载体盘，并开始下一次工作循环。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种单工位硅抛光片载体盘冷却清洗机，其特征是：硅抛光片载体盘冷却清洗机主要是由支架（1）、底舱（2）、冷却盘（3）、管道支架（4）、吹气管（5）、喷淋花洒（6）、舱盖（7）、气缸（8）、下连杆（9）、上连杆（10）、按钮11）、磁信号传感器（12）构成；其中底舱（2）安装在支架（1）上，冷却盘（3）安放底舱（2）的底部前侧位置；底舱（2）的底部后部装有一个直立的管道支架（4），管道支架（4）上安装有喷淋花洒（6）和吹气管（5）；舱盖（7）罩在底舱（2）上，通过底舱（2）两侧外壁上的气缸（8）、下连杆（9）、上连杆（10）与底舱（2）铰接在一起；底舱（2）两侧外壁上装有控制舱盖（7）开/关的按钮（11）；气缸（8）的底部装有磁信号传感器（12）。

【技术特征摘要】
1.一种单工位硅抛光片载体盘冷却清洗机，其特征是：硅抛光片载体盘冷却清洗机主要是由支架（1）、底舱（2）、冷却盘（3）、管道支架（4）、吹气管（5）、喷淋花洒（6）、舱盖（7）、气缸（8）、下连杆（9）、上连杆（10）、按钮11）、磁信号传感器（12）构成；其中底舱（2）安装在支架（1）上，冷却盘（3）安放底舱（2）的底部前侧位置；底舱（2）的底部后部装有一个直立的管道支架（4），管道支架（4）上安装有喷淋花洒（6）和吹气管（5）；舱盖（7）罩在底舱（2）上，通过底舱（2）两侧外壁上的气缸（8）、下连杆（9）、上连杆（10）...

【专利技术属性】
技术研发人员：牛海涛，范强，焦二强，李珩粉，张磊，
申请(专利权)人：洛阳单晶硅有限责任公司，
类型：新型
国别省市：河南;41