一种太阳能硅片研磨液配方组成比例

本发明专利技术公开了一种太阳能硅片研磨液配方，包括磨料5％～25％，有机硅油1％～5％，分散渗透剂3％～8％，增稠剂1％～10％，金属螯合剂0.1％～1％，pH调节剂，蒸馏水。本发明专利技术提供的太阳能硅片研磨液，具有研磨性能好，易清洁，性能稳定，便于长期储存，经济性能优异且无二次污染。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种太阳能硅片研磨液配方，包括磨料5％～25％，有机硅油1％～5％，分散渗透剂3％～8％，增稠剂1％～10％，金属螯合剂0.1％～1％，pH调节剂，蒸馏水。本专利技术提供的太阳能硅片研磨液，具有研磨性能好，易清洁，性能稳定，便于长期储存，经济性能优异且无二次污染。【专利说明】一种太阳能硅片研磨液配方
: 本专利技术涉及太阳能硅片领域，特别涉及一种太阳能硅片研磨液配方。
技术介绍
: 目前集成电路技术已经得到了迅速发展，并且成为世界上最高新和最庞大的产业之一。在微电子工艺中，从硅棒的拉制、切片、磨片到后来的抛光，都伴随着大量的机械加工过程及大量的热量产生，从而在娃片中产生大量的机械应力和热应力。由于脆性材料的表面张力大和前面工序应力的积累，再加上剧烈的研磨机械作用，使硅片表面极易产生裂纹，严重的还会导致崩边、碎片，对后续工艺造成恶劣的影响。磨片在硅片的加工成型过程中占有重要地位，它是切片后硅片表面的第一次机械加工，为去除硅片表面的切片刀痕和凹凸不平，是表面加工损伤达到一致，使其在化学腐蚀过程中，表面腐蚀速率达到均匀一致。美国专利技术的多氨19-C是世界上销售量最大的悬浮状磨削液。但多氨-19C价格昂贵，粘度大，表面吸附比严重，不容易清洗，导致磨片清洗后表面出现花斑，CN1872930A提供一种硅片研磨液，该专利技术稳定性能差，只能现配现用，久置易变质，且清洁能力弱。
技术实现思路
: 专利技术目的:针对现有技术中的缺陷，提供一种性能稳定，经济，磨削效果优良，易清洁的太阳能硅片研磨液。 为实现上述专利技术目的，一种太阳能硅片研磨液配方，采用以下的技术配方:包括磨料5%~25%，有机硅油1%~5%，分散渗透剂3%~8%，增稠剂1%~10%，金属螯合剂 0.1%~ 1%，PH调节剂，蒸馏水。 所述有机硅油为氨基硅油氨乙基亚胺丙基聚硅氧烷； 所述分散渗透剂选择脂肪醇聚氧乙烯醚AE0-9，AE0-15或其混合； 所述增稠剂为羧甲基羟丙基纤维素； 所述金属螯合剂EDTA 二钠盐； 所述PH调节剂选择氨或有机胺碱溶液，特别是氨水、二乙醇胺溶液； 根据以上的技术方案，可以实现以下的有益效果:本专利技术提供的太阳能硅片研磨液，具有研磨性能好，易清洁，性能稳定，便于长期储存，经济性能优异且无二次污染。 【具体实施方式】 : 下面结合实施例对本专利技术做进一步地详细说明，但是本专利技术要求保护的范围并不局限于实施例表不的范围。 实施例1: 一种太阳能硅片研磨液的配方: 【权利要求】1.一种太阳能硅片研磨液配方，其特征在于，采用以下的技术配方:包括质量比为磨料5%~25%，有机硅油1%~5%，分散渗透剂3%~8%，增稠剂1%~10%，金属螯合剂0.1%~ 1%，PH调节剂，蒸馏水。2.根据权利要求1所述一种太阳能硅片研磨液配方，其特征在于:有机硅油为氨基硅油氨乙基亚胺丙基聚硅氧烷。3.根据权利要求1所述一种太阳能硅片研磨液配方，其特征在于:分散渗透剂选择脂肪醇聚氧乙烯醚AEO-9，AEO-15或其混合。4.根据权利要求1所述一种太阳能硅片研磨液配方，其特征在于:增稠剂为羧甲基羟丙基纤维素。5.根据权利要求1所述一种太阳能硅片研磨液配方，其特征在于:金属螯合剂EDTA二钠盐。6.根据权利要求1所述一种太阳能硅片研磨液配方，其特征在于:PH调节剂选择氨或有机胺碱溶液。7.根据权利要求6所述一种太阳能硅片研磨液配方，其特征在于:PH调节剂选择氨水、二乙醇胺 溶液。【文档编号】C09G1/02GK104130717SQ201410387363【公开日】2014年11月5日 申请日期:2014年8月7日 优先权日:2014年8月7日 【专利技术者】徐俊 申请人:佳明新材料科技有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种太阳能硅片研磨液配方，其特征在于，采用以下的技术配方：包括质量比为磨料5％～25％，有机硅油1％～5％，分散渗透剂3％～8％，增稠剂1％～10％，金属螯合剂0.1％～1％，PH调节剂，蒸馏水。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：徐俊，
申请(专利权)人：佳明新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32