一种半导体集成电路细微加工研磨剂制造技术

技术编号:10607468 阅读:177 留言:0更新日期:2014-11-05 17:43
本发明专利技术公开了一种半导体集成电路细微加工研磨剂,其特征在于,包括下列重量份数的物质:硫氰酸盐15-35份,碳酸钙7-10份,分散剂1-3份,增稠剂1-3份,阻燃剂4-6份,硬脂酸4-8份,滑石粉4-6份,硬脂酸锌4-6份,硬脂酸钙1-3份,聚丙烯酯5-9份。本发明专利技术的有益效果是:腐蚀速度低,研磨效果好,对半导体损伤小。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种半导体集成电路细微加工研磨剂,其特征在于,包括下列重量份数的物质:硫氰酸盐15‑35份,碳酸钙7‑10份,分散剂1‑3份,增稠剂1‑3份,阻燃剂4‑6份,硬脂酸4‑8份,滑石粉4‑6份,硬脂酸锌4‑6份,硬脂酸钙1‑3份,聚丙烯酯5‑9份。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:范向奎
申请(专利权)人:青岛宝泰新能源科技有限公司
类型:发明
国别省市:山东;37

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