三维有序大孔BiVO4负载AgBr和Pd光催化剂、制备及应用制造技术

三维有序大孔BiVO4负载AgBr和Pd光催化剂、制备及应用，属于可见光响应催化剂技术领域。以3DOM BiVO4光催化材料为载体，采用PMMA微球硬模板法、低温沉淀-沉积法和鼓泡还原法制备3DOM BiVO4负载AgBr物质和Pd的新型高效可见光响应纳米杂化光催化剂。此催化剂同时具有3DOM结构、异质结、梯度结构表面以及等离子体共振效应，AgBr均匀地铺展于BiVO4载体表面，Pd以纳米团簇形式附着于3DOM结构表面，其比表面积为16m2/g，带隙能为2.49eV，在可见光照射下对对氯苯酚的降解表现出高效的可见光催化活性，150min后4-CP已基本完全降解。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
三维有序大孔BiVO4负载AgBr和Pd纳米光催化剂Pd/AgBr/3DOM BiVO4，其特征在于，该催化剂具有3DOM结构，平均孔径为100～200nm，二级窗口大小为40～70nm，孔壁壁厚为15～30nm，光敏材料AgBr均匀地铺展于BiVO4载体孔表面，微量Pd以纳米团簇形式附着于BiVO4载体孔表面，其比表面积为16m2/g，带隙能为2.49eV。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：戴洪兴，吉科猛，邓积光，
申请(专利权)人：北京工业大学，
类型：发明
国别省市：北京;11