抗蚀剂剥离剂组合物制造技术

本发明专利技术公开了一种抗蚀剂剥离剂组合物，包括：1重量%至10重量%的有机氢氧化季铵；40重量%至80重量%的二甲亚砜；1重量%至25重量%的基于乙二醇醚的有机溶剂；1重量%至25重量%的具有1个至20个碳原子的烷基胺；0.001重量%至1重量%的无机碱或其盐；和余量的水。根据具有上述构成的抗蚀剂剥离剂，可以通过溶解从基板去除滤色器抗蚀剂，从而获得极佳的剥离能力，可以使器件中的滤色器堵塞降到最低程度，并且可以剥离负型有机绝缘膜抗蚀剂和正型有机绝缘膜抗蚀剂以及滤色器抗蚀剂，而不损坏底层和各种金属布线。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种抗蚀剂剥离剂组合物，包括：1重量%至10重量%的有机氢氧化季铵；40重量%至80重量%的二甲亚砜；1重量%至25重量%的基于乙二醇醚的有机溶剂；1重量%至25重量%的具有1个至20个碳原子的烷基胺；0.001重量%至1重量%的无机碱或其盐；和余量的水。根据具有上述构成的抗蚀剂剥离剂，可以通过溶解从基板去除滤色器抗蚀剂，从而获得极佳的剥离能力，可以使器件中的滤色器堵塞降到最低程度，并且可以剥离负型有机绝缘膜抗蚀剂和正型有机绝缘膜抗蚀剂以及滤色器抗蚀剂，而不损坏底层和各种金属布线。【专利说明】抗蚀剂剥离剂组合物
本专利技术涉及一种抗蚀剂剥离剂组合物。
技术介绍
滤色器可安装在具有图像传感器(如，互补式金属氧化物半导体（CMOS)或电荷耦 合器件（CCD))的彩色成像器件中且实际用于生成彩色图像。此外，滤色器广泛用于等离子 显示板（PDP)、液晶显示器（IXD)、场发射显示器（FEL)、发光器件（LED)等的成像器件的应 用中，并且如今快速地扩展了这些应用领域的范围。特别地，随着近年来LCD的使用日益增 多，认为滤色器是复制LCD的色调中的最重要的器件之一。 滤色器基板包括：黑色矩阵，该黑色矩阵起到屏蔽红色（R)图案、绿色（G)图案和 蓝色（B)图案与每个像素之间的漏光的作用，同时提高它们之间的对比度；和对液晶盒施 加电压的公共电极。 根据滤色器的用途，滤色器可通过下述方法来制造：将黑色矩阵材料涂覆到玻璃 基板、形成黑色掩模图案、以及在光刻工艺期间形成彩色抗蚀剂图案。 在制造如上文所述的滤色器期间，不可避免地会出现差的彩色抗蚀剂图案。一旦 彩色抗蚀剂固化，基本上不可以从彩色抗蚀剂中去除缺陷部分以及修复该缺陷部分。此外， 由于几乎不存在去除彩色抗蚀剂的溶剂，故差的滤色器大多数被丢弃，从而降低了生产率。 为了解决前述问题，已开发出用于去除已固化的彩色抗蚀剂的组合物。 抗蚀剂主要分为正型抗蚀剂和负型抗蚀剂。与易于通过基于有机溶剂的剥离剂在 40°C至50°C的温度下在1分钟内去除的正型抗蚀剂不同，彩色抗蚀剂具有负型抗蚀剂的特 征，该负型抗蚀剂具有高的固化度，且通过热处理变硬，从而几乎不能被剥离和去除。因此， 在高于70°C的温度下去除彩色抗蚀剂至少需要5分钟，所以仍需要更加改进的剥离性能。 第2009-75516号韩国专利公开申请公开了一种用于TFT (薄膜晶体管）LCD的彩 色抗蚀剂剥离溶液组合物，然而，该组合物不具有极佳的剥离能力和长期维持剥离能力的 效果。
技术实现思路
因此，本专利技术的目的是提供一种具有优异的剥离固化的滤色器抗蚀剂的能力的抗 蚀剂剥离溶液。 本专利技术的另一个目的是提供这样一种抗蚀剂剥离溶液，该抗蚀剂剥离溶液能够剥 离负型有机绝缘膜抗蚀剂和正型有机绝缘膜抗蚀剂以及滤色器抗蚀剂，而不损坏底层和各 种金属布线。 将通过下列特征实现本专利技术的以上目的： (1) 一种抗蚀剂剥离剂组合物，包括：1重量％至10重量％的有机氢氧化季铵；40 重量％至80重量％的二甲亚砜；1重量％至25重量％的基于乙二醇醚的有机溶剂；1重量％ 至25重量％的具有1个至20个碳原子的烷基胺；0. 001重量％至1重量％的无机碱或其 盐；和余量的水。 (2)根据上文（1)的抗蚀剂剥离剂组合物，其中，所述有机氢氧化季铵选自四甲 基氢氧化铵（TMAH)、四乙基氢氧化铵（TEAH)、四丙基氢氧化铵（TPAH)和四丁基氢氧化铵 (TBAH)中的至少一种。 (3)根据上文（1)的抗蚀剂剥离剂组合物，其中，所述基于乙二醇醚的有机溶剂选 自乙二醇单甲醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、乙二醇单乙醚、三乙二醇单乙醚、三乙 二醇单甲醚、二乙二醇甲基乙醚、二丙二醇单甲醚、三丙二醇单甲醚和丙二醇单甲醚中的至 少一种。 (4)根据上文（1)的抗蚀剂剥离剂组合物，其中，所述具有1个至20个碳原子的烷 基胺选自甲胺、乙胺、异丙胺、单异丙胺、二乙胺、二异丙胺、二丁胺、三甲胺、三乙胺、三异丙 胺、三丁胺、乙二胺、丙二胺、1，3_丙二胺、1，2_丙二胺、二乙烯三胺和二己烯三胺中的至少 一种。 (5 )根据上文（1)的抗蚀剂剥离剂组合物，其中，所述无机碱或其盐选自氢氧化钠、 氢氧化钾、碳酸钠、碳酸钾、碳酸氢钠、硝酸钠、硝酸钾、硫酸钠、硫酸钾、硅酸钠和硅酸钾中 的至少一种。 (6)根据上文（1)的抗蚀剂剥离剂组合物，其中，所述抗蚀剂为滤色器抗蚀剂和有 机绝缘膜抗蚀剂中的至少一种。 根据本专利技术，通过溶解抗蚀剂而非升离抗蚀剂，可从基板去除滤色器抗蚀剂，从而 获得极佳的剥离能力。 此外，根据本专利技术，可以使器件中的滤色器堵塞降低到最低程度，同时长期维持极 佳的剥离能力，从而当再使用滤色器时提高生产率。 另外，根据本专利技术，可以剥离负型有机绝缘膜抗蚀剂和正型有机绝缘膜抗蚀剂以 及滤色器抗蚀剂，而不损坏底层和各种金属布线。 【具体实施方式】 本专利技术公开了一种抗蚀剂剥离剂组合物，包括：1重量％至10重量％的有机氢氧 化季铵；40重量％至80重量％的二甲亚砜；1重量％至25重量％的基于乙二醇醚的有机溶 剂；1重量％至25重量％的具有1个至20个碳原子的烷基胺；0. 001重量％至1重量％的 无机碱或其盐；和余量的水，由此可以通过溶解从基板去除滤色器抗蚀剂，从而获得极佳的 剥离能力，使器件中的滤色器堵塞降低到最低程度，并且剥离负型有机绝缘膜抗蚀剂和正 型有机绝缘膜抗蚀剂以及滤色器抗蚀剂，而不损坏底层和各种金属布线。 下文将更加详细地描述本专利技术。 根据本专利技术的有机氢氧化季铵可以起到释放氢氧根离子的作用，该氢氧根离子渗 入到抗蚀剂中，以便加速抗蚀剂的溶解。 根据本专利技术的有机氢氧化季铵没有特别的限制，但可以包括：例如，四甲基氢氧化 铵（TMAH)、四乙基氢氧化铵（TEAH)、四丙基氢氧化铵（TPAH)、四丁基氢氧化铵（TBAH)等，这 些有机氢氧化季铵被单独使用或以其中的两种或多于两种的组合使用。 相对于抗蚀剂剥离剂组合物的总重量，所包括的如上所述的有机氢氧化季铵的量 可以为1重量％至10重量％,优选为2重量％至8重量％。如果有机氢氧化季铵的含量小 于1重量％，则会降低组合物渗入到聚合物。当有机氢氧化季铵的含量超过10重量％时，溶 解需要过量的水，因此，其他成分的含量相对减少，从而使组合物相对于抗蚀剂的溶解力或 溶解度降低。 二甲亚砜渗入到溶胀的抗蚀剂中，起到溶解抗蚀剂的作用。 相对于抗蚀剂剥离剂组合物的总重量，所包括的二甲亚砜的量可以为40重量％至 80重量％，优选为40重量％至70重量％。如果二甲亚砜的含量小于40重量％，则会降低组 合物相对于抗蚀剂的溶解力。当二甲亚砜的含量超过80重量％时，其他成分以及有机氢氧 化季铵的含量相对减少，从而降低组合物渗入到抗蚀剂。 根据本专利技术的基于乙二醇醚的有机溶剂可渗入到抗蚀剂中，以增强溶胀性能，从 而增强从基板的表面剥离抗蚀剂的效果。另外，这种溶剂可提高本专利技术的清洗剂组合物的 水溶性，从而使得在清洗期间容易地去除残留物。 如上所述的基于乙二醇醚的有机溶剂没有特别的限制，但可以本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抗蚀剂剥离剂组合物，包括：1重量%至10重量%的有机氢氧化季铵；40重量%至80重量%的二甲亚砜；1重量%至25重量%的基于乙二醇醚的有机溶剂；1重量%至25重量%的具有1个至20个碳原子的烷基胺；0.001重量%至1重量%的无机碱或其盐；和余量的水。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：尹嚆重，金祐逸，房淳洪，
申请(专利权)人：东友精细化工有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR