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一种消除半波孔的短波通滤光片制造技术

技术编号:10541789 阅读:223 留言:0更新日期:2014-10-15 17:15
本发明专利技术属于薄膜光学领域,具体涉及一种消除半波孔的短波通滤光片,主要针对短波通滤光片中影响半波孔的一个关键因素——材料非均质性。膜系设计包含两部分:薄膜周期结构和与基板和空气的导纳匹配层。薄膜由H和L组成,H,L分别表示光学厚度为1/4参考波长的高、低折射率膜层。膜系基本周期结构为(0.5LH0.5LHL),周期为N,参考波长为高反射带中心波长。采用常规薄膜设计软件,在基板与薄膜周期结构之间,空气与薄膜周期结构之间分别添加匹配层,得到消除半波孔的膜系设计。该发明专利技术将薄膜基本周期结构的导纳误差降到近似为零,该发明专利技术直接针对半波孔进行设计和优化,不再回避半波孔,具有理想的透射带宽。该发明专利技术具有针对性强、品质高、简单易行的特点。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术属于薄膜光学领域,具体涉及一种消除半波孔的短波通滤光片,主要针对短波通滤光片中影响半波孔的一个关键因素——材料非均质性。膜系设计包含两部分:薄膜周期结构和与基板和空气的导纳匹配层。薄膜由H和L组成,H,L分别表示光学厚度为1/4参考波长的高、低折射率膜层。膜系基本周期结构为(0.5LH0.5LHL),周期为N,参考波长为高反射带中心波长。采用常规薄膜设计软件,在基板与薄膜周期结构之间,空气与薄膜周期结构之间分别添加匹配层,得到消除半波孔的膜系设计。该专利技术将薄膜基本周期结构的导纳误差降到近似为零,该专利技术直接针对半波孔进行设计和优化,不再回避半波孔,具有理想的透射带宽。该专利技术具有针对性强、品质高、简单易行的特点。【专利说明】
本专利技术属于光学薄膜领域,具体涉及一种消除半波孔的短波通滤光片。 一种消除半波孔的短波通滤光片
技术介绍
在光学薄膜中,短波通截止滤光片是经常用到的一种膜系,它要求在长波截 止,短波透过;它的基本周期结构为(0.5L H 0.5L),其中H、L分别表示光学厚度为1 /4 参考波长的高、低折射率膜层。在短波通滤光片的实际制备中往往会在通带区域,即反射 带中心波长的一半处出现一个反射峰,我们称之为半波孔,也有称它为滤光片的半波跌落。 它的出现极大地影响了短波通滤光片的光,谱性能,甚至可能根本无法使用。 对于产生半波孔的原因,国内外许多专家学者进行了广泛研究。普遍认为薄膜 折射率的非均质性是造成短波通半波孔的一个重要原因。对于常规的薄膜设计软件,其设 计参数主要包含折射率和膜层厚度等,但不包含折射率非均质性,因此,在设计薄膜时,无 法解决由折射率非均质性引起的半波孔问题,也因此无法制备出消除半波孔的短波通滤光 片。
技术实现思路
本专利技术利用常规薄膜设计软件,提供了一种可消除半波孔的简单设计方法,由此 可制备出消除半波孔的短波通滤光片。 本专利技术提出的消除半波孔的短波通滤光片,所述滤光片包括基板、薄膜周期结构 和导纳匹配层,所述薄膜周期结构为0. 5LH0. 5LHL,周期为N,参考波长为高反射带中心波 长,其中:Η,L分别表示光学厚度为1 /4参考波长的高、低折射率膜层;采用常规薄膜设 计软件,在基板与薄膜周期结构之间,空气与薄膜周期结构之间分别添加匹配层;基本周 期的总厚度为参考波长的一个波长光学厚度。 对于HO. 5LH,设高折射率材料Η、低折射率材料L和基板在半波处的折射率分别为 /V,和&,则新结构导纳为: 【权利要求】1. 一种消除半波孔的短波通滤光片,其特征在于所述滤光片包括基板、薄膜周期结构 和导纳匹配层,所述薄膜基本周期结构为0. 5LH0. 5LHL,周期为N,参考波长为高反射带中 心波长,其中:Η,L分别表示光学厚度为1 /4参考波长的高、低折射率膜层;采用常规薄 膜设计软件,在基板与薄膜周期结构之间,空气与薄膜周期结构之间分别添加匹配层;基本 周期的总厚度为参考波长的一个波长光学厚度。【文档编号】G02B5/28GK104101932SQ201410336342【公开日】2014年10月15日 申请日期:2014年7月16日 优先权日:2014年7月16日 【专利技术者】焦宏飞, 赵阳, 鲍刚华, 程鑫彬, 王占山 申请人:同济大学本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种消除半波孔的短波通滤光片,其特征在于所述滤光片包括基板、薄膜周期结构和导纳匹配层,所述薄膜基本周期结构为0.5LH0.5LHL,周期为N,参考波长为高反射带中心波长,其中: H , L分别表示光学厚度为1 /4参考波长的高、低折射率膜层;采用常规薄膜设计软件,在基板与薄膜周期结构之间,空气与薄膜周期结构之间分别添加匹配层;基本周期的总厚度为参考波长的一个波长光学厚度。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:焦宏飞赵阳鲍刚华程鑫彬王占山
申请(专利权)人:同济大学
类型:发明
国别省市:上海;31

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