能量线照射系统和工件输送机构技术方案

本发明专利技术提供能量线照射系统和工件输送机构，能大幅度改善生产率，并且有助于有效地利用能量线。能量线照射系统包括能量线射出机构、以及把照射所述能量线的工件（W）在规定的工件交接区域和能量线的照射区域（AR）之间输送的工件支架（21），把所述工件交接区域设置在隔着通过所述照射区域（AR）的虚拟直线（C）相对的两个部位，并且作为所述工件支架（21）设置有：第一工件支架（21（1）），在一方的工件交接区域和所述照射区域（AR）之间移动；以及第二工件支架（21（2）），在另一方的工件交接区域和所述照射区域（AR）之间移动。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供能量线照射系统和工件输送机构，能大幅度改善生产率，并且有助于有效地利用能量线。能量线照射系统包括能量线射出机构、以及把照射所述能量线的工件（W）在规定的工件交接区域和能量线的照射区域（AR）之间输送的工件支架（21），把所述工件交接区域设置在隔着通过所述照射区域（AR）的虚拟直线（C）相对的两个部位，并且作为所述工件支架（21）设置有：第一工件支架（21（1）），在一方的工件交接区域和所述照射区域（AR）之间移动；以及第二工件支架（21（2）），在另一方的工件交接区域和所述照射区域（AR）之间移动。【专利说明】能量线照射系统和工件输送机构
本专利技术涉及如离子注入系统或电子线照射系统等所示的、向作为目标的工件照射 能量线的能量线照射系统以及用于其的工件输送机构。
技术介绍
在以往的这种离子注入系统中，设置有中间输送机构，用于在把晶片输送到离子 束的照射区域的台板和加载互锁室之间传递晶片。例如，专利文献1的中间输送机构的左 右输送臂可以同时动作，在一个台板上一下子把晶片配置在两列上，由此可以实现提高装 置的处理能力，即可以实现提高生产率。 现有技术文献 专利文献1 :日本专利公报特許4766156号 可是，在所述的结构中，在对某个晶片照射(注入）离子束结束后，到向晶片照射离 子束为止，产生相当多的白白浪费的时间，在要进一步改善生产率时，所述白白浪费的时间 成为了它的瓶颈。 具体说明的话，从对晶片照射(离子注入）离子束结束后，到对未进行离子注入的 下一个晶片照射离子束为止，需要把完成离子注入的晶片通过加载互锁室输送到外部，把 下一个晶片从外部通过加载互锁室搭载到台板上，并输送到离子束的照射区域的工序，所 述白白浪费的时间变得相当长，对生产率有恶劣的影响，并且其间离子束被白白消耗。 这样的问题不仅是离子注入装置存在，而且这样的问题在向工件照射能量线的能 量线照射装置全体中是共通的问题。
技术实现思路
鉴于所述的问题，本专利技术的目的是在所述的能量线照射系统中，大幅度改善生产 率，并且有助于有效地利用能量线。 S卩，本专利技术提供一种能量线照射系统，其包括：能量线射出机构，向规定的照射区 域射出能量线；以及工件支架，在规定的工件交接区域和所述照射区域之间输送作为被照 射所述能量线的目标的工件，所述工件交接区域设置在隔着虚拟直线的相对的两个部位， 所述虚拟直线通过所述能量线的照射区域，作为所述工件支架设置有：第一工件支架，在作 为一方的工件交接区域的第一工件交接区域和所述照射区域之间输送工件；以及第二工件 支架，在作为另一方的工件交接区域的第二工件交接区域和所述照射区域之间输送工件。 按照所述的能量线照射系统，由于可以在向由一方的工件支架输送到照射区域的 工件照射能量线期间，通过另一方的工件支架把完成能量线照射的工件交换成未照射的工 件并进行保持，所以在通过一方的工件支架使能量线照射结束的工件退避后，可以通过另 一方的工件支架快速地把未照射能量线的下批的工件输送到照射区域，开始照射能量线。 即，按照本专利技术，由于可以大幅度缩短从对一批工件照射能量线结束后到对下批 的工件照射能量线为止的时间，所以可以大幅度改善生产率，并且可以更有效地利用能量 线。 为了可以处理不同尺寸的工件、提高系统的通用性，优选的是，所述第一工件支架 和所述第二工件支架能输送尺寸相互不同的工件。更详细地说，可以是各个工件支架把尺 寸分别不同的工件混合输送；也可以是在一个工件支架内输送同一尺寸的工件，但是一个 工件支架和其他的工件支架能输送的工件尺寸不同。 在把能量线射出机构和工件支架配置在保持规定的真空度的能量线照射室内的 情况下，有时设置加载互锁室内的工件放置部，用于中途放置从外部搬入的未照射能量线 的工件和要搬到外部的完成能量线照射的工件。 在该情况下，为了适用本专利技术，确保生产率，优选的是，将所述工件放置部设置在 隔着所述虚拟直线相对的两个部位；并且设置：第一输送构件，在所述第一工件交接区域 和所述第一工件放置部之间输送工件；以及第二输送构件，在所述第二工件交接区域和所 述第二工件放置部之间输送工件。 作为尽可能提高生产率的具体方式，优选的是，所述能量线照射系统还包括：中间 工件放置部，设置在所述第一工件放置部和所述第二工件放置部之间；第三输送构件，在所 述第一工件交接区域和所述中间工件放置部之间输送工件；以及第四输送构件，在所述第 二工件交接区域和所述中间工件放置部之间输送工件。 在所述结构中，为了处理不同尺寸的工件，优选的是，所述各输送构件能输送尺寸 相互不同的工件。 为了简化输送构件的结构，优选的是，所述工件支架在所述工件交接区域从输送 构件接收工件后，移动规定距离，从所述输送构件接收另外的工件，由此能在移动方向上放 置多列工件。 作为本专利技术的效果特别显著的实施方式，可以例举的是所述能量线是离子束，向 工件注入尚子。 按照所述构成的本专利技术，由于在对最初的工件照射能量线结束后，可以立刻开始 对下批的工件照射能量线，所以可以大幅度提高生产率，并且白白消耗能量线的时间短，因 此可以高效地利用能量线。 【专利附图】【附图说明】 图1是示意性地表示本专利技术第一实施方式的离子注入装置的整体俯视图。 图2是表示第一实施方式的晶片输送机构的局部立体图。 图3是表不第一实施方式的晶片输送工序例子的工序图。 图4是表不第一实施方式的晶片输送工序例子的工序图。 图5是表不第一实施方式的离子注入和晶片输送时机的时序图。 图6是表不第一实施方式的离子注入和晶片输送时机的时序图。 图7是示意性地表示本专利技术第二实施方式的离子注入装置的整体俯视图。 图8是表示第二实施方式的晶片输送工序例子的工序图。 图9是表示第二实施方式的晶片输送工序例子的工序图。 附图标记说明 100…能量线照射系统(离子注入装置） W…工件 21…台板(工件支架） AR…照射区域 12…工件放置台（工件放置部） 31…输送臂 Ο·虚拟直线 【具体实施方式】 第一实施方式 下面参照附图对作为本专利技术第一实施方式的能量线照射系统的离子注入系统100 进行说明。此外在以下的说明和附图中，当同种的构件和构造存在多个并需要区别它们时， 在附图标记末尾附上（1)、（2)等，并且对构件和构造名称冠以第一、第二等。 如图1所示，所述离子注入系统100包括：离子束射出装置（图中没有表示)，在设 定成真空的离子注入室10中射出离子束IB ;工件输送装置20,把工件(在此为晶片)W输送 到照射所述离子束IB的照射区域AR，使得离子束IB照射该工件W。 离子束射出装置例如把带状的离子束IB朝向所述照射区域AR射出。此外，离子 束IB的形状不限于带状，例如也可以是正方形。此外，图1中的附图标记"9"是用于监视 离子束IB的强度分布特性等的束轮廓仪，也是遮挡超出范围的离子束IB的行进的构件。 工件输送装置20包括：工件出入机构1，使工件W在离子注入室10内外之间出入； 工件输送机构2,把要注入离子的工件W送入到离子本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种能量线照射系统，其特征在于，所述能量线照射系统包括：能量线射出机构，向规定的照射区域射出能量线；以及工件支架，在规定的工件交接区域和所述照射区域之间输送作为被照射所述能量线的目标的工件，所述工件交接区域设置在隔着虚拟直线的相对的两个部位，所述虚拟直线通过所述能量线的照射区域，作为所述工件支架设置有：第一工件支架，在作为一方的工件交接区域的第一工件交接区域和所述照射区域之间输送工件；以及第二工件支架，在作为另一方的工件交接区域的第二工件交接区域和所述照射区域之间输送工件。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：小野田正敏，立道润一，松本武，
申请(专利权)人：日新离子机器株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP