粘合剂组合物及粘合片制造技术

本发明专利技术涉及粘合剂组合物及粘合片。本发明专利技术提供能够形成防静电性、再剥离性（轻剥离性）和外观特性优良的粘合剂层的水分散型的丙烯酸系粘合剂组合物。本发明专利技术的再剥离用水分散型丙烯酸系粘合剂组合物的特征在于，含有以70重量%～99.5重量%的（甲基）丙烯酸烷基酯和0.5重量%～10重量%的含羧基不饱和单体作为单体成分而构成的丙烯酸类乳液型聚合物、交联剂、离子性化合物和HLB值为6以上的非离子性表面活性剂。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术涉及粘合剂组合物及粘合片。本专利技术提供能够形成防静电性、再剥离性（轻剥离性）和外观特性优良的粘合剂层的水分散型的丙烯酸系粘合剂组合物。本专利技术的再剥离用水分散型丙烯酸系粘合剂组合物的特征在于，含有以70重量%～99.5重量%的（甲基）丙烯酸烷基酯和0.5重量%～10重量%的含羧基不饱和单体作为单体成分而构成的丙烯酸类乳液型聚合物、交联剂、离子性化合物和HLB值为6以上的非离子性表面活性剂。【专利说明】粘合剂组合物及粘合片
本专利技术涉及能够形成可再剥离的粘合剂层的水分散型丙烯酸系粘合剂组合物。具 体而言，本专利技术涉及能够形成防静电性、再剥离性(轻剥离性）和外观特性优良的粘合剂层 的水分散型丙烯酸系粘合剂组合物。另外，本专利技术涉及设置有包含上述粘合剂组合物的粘 合剂层的粘合片。
技术介绍
以偏振板、相位差板、防反射板等光学薄膜为代表的光学构件(光学材料）的制造、 加工过程中，出于防止表面划痕、污渍、提高切割加工性、抑制破裂等目的，在光学构件的表 面上粘贴表面保护薄膜来使用（参考专利文献1、2)。作为这些表面保护薄膜，一般使用在塑 料薄膜基材的表面设置有再剥离性的粘合剂层的再剥离性的粘合片。 以往，这些表面保护薄膜用途中使用溶剂型的丙烯酸系粘合剂作为粘合剂(参考 专利文献1、2)，这些溶剂型丙烯酸系粘合剂含有有机溶剂，因此从涂布时的作业环境性的 观点考虑，试图向水分散型的丙烯酸系粘合剂转换(参考专利文献3?5)。 这些表面保护薄膜要求在粘贴到光学构件上的期间发挥充分的胶粘性。另外，因 为要在光学构件的制造工序等中使用后被剥离，因此要求优良的剥离性(再剥离性)。另外， 为了具有优良的再剥离性，需要剥离力小(轻剥离)。 另外，一般而言，表面保护薄膜或光学构件由塑料材料构成，因此电绝缘性高，在 摩擦或剥离时产生静电。因此，在从偏振板等光学构件上将表面保护薄膜剥离时，产生静 电，在残留有此时产生的静电的状态下对液晶施加电压时，存在液晶分子的取向损失，并且 产生面板的缺损的问题。 另外，静电的存在具有引起吸引尘埃或碎屑的问题、作业性下降的问题等的可能 性。因此，为了解决上述问题，对表面保护薄膜实施了各种防静电处理。 作为抑制带静电的尝试，公开了在粘合剂中添加低分子量的表面活性剂，将表面 活性剂从粘合剂中转印到被保护体上来防静电的方法(例如，参考专利文献6)。但是，所述 方法中，添加的低分子的表面活性剂容易渗出到粘合剂表面，在应用于表面保护薄膜的情 况下，担心会污染被粘物(被保护体)。 另外，公开了含有以反应性表面活性剂作为单体成分的聚合物以及离子液体的粘 合剂组合物(专利文献7)。在此得到的粘合剂层通过反应性表面活性剂中含有的醚基、酯基 与离子液体配位，抑制离子液体的渗出，实现了防静电性和低污染性。但是，在此的粘合剂 层有时因表面上的凹陷或凝胶物等的生成而使外观产生问题，在光学构件的外观检查的工 序等中，作业性差而成为问题。 现有技术文献 专利文献 专利文献1 :日本特开平11-961号公报 专利文献2 :日本特开2001-64607号公报 专利文献3 :日本特开2001-131512号公报 专利文献4 :日本特开2003-27026号公报 专利文献5 :日本专利第3810490号说明书 专利文献6 :日本特开平9-165460号公报 专利文献7 :日本特开2007-217441号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题 如上所述，这些方案均还不能以良好的平衡解决上述问题，在静电、污染成为特别 严重的问题的电子设备相关的
，现状是难以应对对于具有防静电性等的表面保护 薄膜的进一步改良的要求，另外，没有得到防静电性、再剥离性(轻剥离性）和外观特性等优 良的水分散型丙烯酸系粘合剂。 因此，本专利技术的目的在于提供能够形成防静电性、再剥离性(轻剥离性）和外观特 性优良的粘合剂层的水分散型的丙烯酸系粘合剂组合物。另外，本专利技术的目的在于提供具 有由上述粘合剂组合物形成的粘合剂层的粘合片。 用于解决问题的方法 本专利技术人为了实现上述目的进行了深入的研究，结果发现，将由特定组成的原料 单体得到的特定丙烯酸类乳液型聚合物、交联剂、离子性化合物和具有特定HLB值的非离 子性表面活性剂作为构成成分，可以得到能够形成防静电性、再剥离性(轻剥离性）和外观 特性优良的粘合剂层的水分散型丙烯酸系粘合剂组合物，并且完成了本专利技术。 S卩，本专利技术的再剥离用水分散型丙烯酸系粘合剂组合物(有时仅称为"粘合剂组合 物"）的特征在于，含有以70重量％?99. 5重量％的（甲基）丙烯酸烷基酯和0. 5重量％? 10重量％的含羧基不饱和单体作为单体成分而构成的丙烯酸类乳液型聚合物、交联剂、离 子性化合物和HLB值为6以上的非离子性表面活性剂。 本专利技术的粘合剂组合物中，优选上述非离子性表面活性剂含有炔结构。 本专利技术的粘合剂组合物中，优选上述非离子性表面活性剂含有炔二醇结构。 本专利技术的粘合剂组合物中，优选上述离子性化合物含有包含氟原子的阴离子。 本专利技术的粘合剂组合物中，优选上述离子性化合物含有包含氮原子的阴离子。 本专利技术的粘合剂组合物中，优选上述离子性化合物含有具有磺酰基的阴离子。 本专利技术的粘合剂组合物中，优选上述离子性化合物为离子液体，上述离子液体含 有选自由下式（A)?（E)表示的阳离子中的至少一种阳离子， 【权利要求】1. 一种再剥离用水分散型丙烯酸系粘合剂组合物，其特征在于， 含有以70重量％?99. 5重量％的（甲基）丙烯酸烷基酯和0. 5重量％?10重量％的 含羧基不饱和单体作为单体成分而构成的丙烯酸类乳液型聚合物、交联剂、离子性化合物 和HLB值为6以上的非离子性表面活性剂。2. 如权利要求1所述的再剥离用水分散型丙烯酸系粘合剂组合物，其特征在于， 所述非离子性表面活性剂含有炔结构。3. 如权利要求1所述的再剥离用水分散型丙烯酸系粘合剂组合物，其特征在于， 所述非离子性表面活性剂含有炔二醇结构。4. 如权利要求1所述的再剥离用水分散型丙烯酸系粘合剂组合物，其特征在于， 所述离子性化合物含有包含氟原子的阴离子。5. 如权利要求1所述的再剥离用水分散型丙烯酸系粘合剂组合物，其特征在于， 所述离子性化合物含有包含氮原子的阴离子。6. 如权利要求1所述的再剥离用水分散型丙烯酸系粘合剂组合物，其特征在于， 所述离子性化合物含有具有磺酰基的阴离子。7. 如权利要求1所述的再剥离用水分散型丙烯酸系粘合剂组合物，其特征在于， 所述离子性化合物为离子液体， 所述离子液体含有选自由下式（A)?（E)表示的阳离子中的至少一种阳离子，式（A)中的Ra表示碳原子数4?20的烃基，所述烃基的一部分可以为由杂原子取代的 官能团，Rb和R。相同或不同，表示氢或碳原子数1?16的烃基，所述烃基的一部分可以为 由杂原子取代的官能团，其中，氮原子具有双键的情况下，不存在R。； 式（B)中的Rd表示碳原子数2?20的烃基，所述烃基的一部分可以为由杂原子取代的 官能团，&、&和Rg相同或不同，表示氢或碳本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种再剥离用水分散型丙烯酸系粘合剂组合物，其特征在于，含有以70重量%～99.5重量%的（甲基）丙烯酸烷基酯和0.5重量%～10重量%的含羧基不饱和单体作为单体成分而构成的丙烯酸类乳液型聚合物、交联剂、离子性化合物和HLB值为6以上的非离子性表面活性剂。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：高岛杏子，森本有，三井数马，米崎幸介，北原纲树，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP