本发明专利技术涉及一种电离室调节装置，包括：基座，基座上具有第一导轨；电离室位置调整装置，包括：一级移动载物平台，在第一导轨上平动，且具有第二导轨，第一导轨沿X射线主束方向，第二导轨与第一导轨的方向垂直；二级移动载物平台，在第二导轨上平动；三级移动载物平台，包括竖直升降调整平台，竖直升降调整平台上具有夹具夹持电离室，用于调节电离室的高度；调节一级移动载物平台在第一导轨上平动，二级移动载物平台在第二导轨上平动，竖直升降调整平台调节电离室高度，使得激光中心对准电离室的灵敏体积中心，激光中心与X射线主束中心位置相同。本发明专利技术电离室调节装置实现了方便和精确的电离室位置的调整。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种电离室调节装置，尤其涉及一种电离室位置的调节装置。 电离室调节装置
技术介绍
X射线标准辐射装置用于X射线辐射仪表的检定、校准与检测，以及工业无损检测 等领域，对于待检测的电离室需要很方便的被夹持和位置调整，由此使得X射线方便的射 入。
技术实现思路
本专利技术的目的是针对现有技术的缺陷，提供一种电离室调节装置，从而实现方便 和精确的电离室位置的调整。 为实现上述目的，本专利技术提供了一种电离室调节装置，所述电离室调节装置包 括： 基座，所述基座上具有第一导轨； 电离室位置调整装置，包括： 一级移动载物平台，滑设在第一导轨上，在所述第一导轨上平动，且具有第二导 轨，所述第一导轨沿X射线主束方向，所述第二导轨与所述第一导轨的方向垂直； 二级移动载物平台，滑设在所述第二导轨上，在所述第二导轨上平动； 三级移动载物平台，与所述二级移动载物平台相接设，包括坚直升降调整平台，所 述坚直升降调整平台上具有夹具夹持电离室，用于调节所述电离室的高度； 其中，调节一级移动载物平台在所述第一导轨上平动，二级移动载物平台在所述 第二导轨上平动，坚直升降调整平台调节所述电离室高度，使得激光中心对准所述电离室 的灵敏体积中心，所述激光中心与所述X射线主束中心位置相同。 进一步的，所述二级移动载物平台包括：滑块，与所述第二导轨滑设；丝杠，一端 与电机连接，另一端与所述滑块连接，通过所述电机驱动丝杠带动所述滑块在所述第二导 轨滑动。 进一步的，所述坚直升降调整平台具有交叉的支撑臂和第一转轴，通过转动所述 第一转轴改变所述支撑臂的交叉角度从而调节高度。 进一步的，所述夹具包括： 底盘座，所述底盘座具有螺纹孔，利用螺钉与支撑平台固定； 支撑杆，螺接在所述底盘座上，所述支撑杆的上端具有插口； 夹具头，所述夹具头包括： 固定部件，所述固定部件利用连接杆插接在所述支撑杆的插口上； 移动部件，包括金属杆，金属杆的一端插接在所述固定部件上，另一端利用连接件 相固定，所述连接件上开具有螺孔；夹持部，套接在所述金属杆上；调节杆，螺接在所述螺 孔内，并且一端为调节头，另一端与所述夹持部相固定； 其中，调节所述调节头时，螺设在所述螺孔内的调节杆与所述金属杆平行移动，调 节杆带动所述夹持部与所述固定部件共同夹持电离室。 进一步的，所述底盘座、支撑杆、固定部件、连接杆、夹持部和连接件的材质为有机 玻璃。 进一步的，所述金属杆和调节杆的材质为金属。 进一步的，所述固定部件与夹持部的相对面为平面或者弧形面，所述夹持部与固 定部件的相对面为平面或者弧形面。 本专利技术电离室调节装置实现了方便和精确的电离室位置的调整。 【附图说明】 图1为本专利技术电离室调节装置的示意图； 图2为本专利技术电离室调节装置的工作状态示意图 图3为本专利技术电离室调节装置的夹具的示意图； 图4为本专利技术电离室调节装置的夹具头的俯视图。 【具体实施方式】 下面通过附图和实施例，对本专利技术的技术方案做进一步的详细描述。 图1为本专利技术电离室调节装置的示意图，图2为本专利技术电离室调节装置的工作状 态示意图；如图所示，本专利技术电离室位置调整装置包括：基座5和电离室位置调整装置6。 电离室位置调整装置6包括一级移动载物平台1、二级移动载物平台2和三级移动 载物平台3。 基座5上具有第一导轨10。 -级移动载物平台1滑设在第一导轨10上，在第一导轨10上平动，且具有第二导 轨11，第一导轨10沿X射线主束方向，第二导轨11与第一导轨10的方向垂直；二级移动 载物平台2,滑设在第二导轨11上，在第二导轨11上平动；三级移动载物平台3与二级移 动载物平台2相接设，包括坚直升降调整平台30,坚直升降调整平台30上具有夹具7夹持 电离室，用于调节电离室的高度；调节一级移动载物平台1在第一导轨10上平动，二级移动 载物平台2在第二导轨11上平动，坚直升降调整平台30调节电离室高度，使得激光中心对 准电离室的灵敏体积中心，激光中心与X射线主束中心位置相同。 具体的，一级移动载物平台1沿着X射线光束方向的X轴调整。二级移动载物平 台2在水平面内沿着垂直于X轴方向的Y轴调整。三级移动载物平台3沿着坚直方向的升 降调整，即是Z轴调整。 第一导轨10固定在基座5上，基座5通过膨胀螺栓固定于地面上，且在安装后保 证基座5的水平。基座5上表面的平面度水平度小于1mm，以保证第一导轨10和光栅尺安 装的水平性。第一导轨10为两平行导轨通过螺钉固定安装于基座5上，与上方搭载的一级 移动载物平台1通过滑块连接。齿条安装于基座5右侧通过螺钉固定于基座5上，齿条与 第一导轨10上的一级移动载物平台电机通过齿轮连接，用以完成整个一级移动载物平台1 的精确移动。光栅尺安装在基座的左边沿，通过传感器实现一级移动载物平台IX轴方向的 精确定位。一级载物平台1置于第一导轨10上方，用于二级移动载物平台2和三级移动载 物平台3,且包括两条沿Y轴方向的第二导轨11。 二级移动载物平台2包括滑块、丝杠和电机，滑块与第二导轨滑设；丝杠的一端与 电机连接，另一端与滑块连接，通过电机驱动丝杠带动滑块在第二导轨滑动。 具体的，二级移动载物平台2与第二导轨11间通过滑块连接。丝杠与两第二导轨 11平行，置于导轨中心，一端与电机相连，另一端固定于一级载物平台1上（丝杠可实现转 动），丝杠穿过固定于二级载物平台2下表面类似于螺帽装置的结构，从而通过电机带动丝 杠转动来实现二级移动载物平台2在Υ轴方向的移动。 三级移动载物平台3包括坚直升降调整平台，例如为剪形手动升降平台，具有交 叉的支撑臂和第一转轴，通过转动所述第一转轴改变所述支撑臂的交叉角度从而调节高 度。还包括精研丝杠驱动，上下两面多孔位设计剪形手动升降平台，配有锁紧手轮，与二级 载物平台2通过螺钉固定。坚直升降调整平台上表面有多个螺纹孔，可实现夹具通过螺钉 固定于升降平台上表面。 电离室最终是通过夹具夹持住，固定于三级移动载物平台3上。 安装与电离室型号相适应的夹具于三极载物平台3上，取出待测量电离室由夹具 夹持固定住。连接电离室测量系统。调整二级极载物平台和三级极载物平台位置，使得十 字激光中心（十字激光中心位置即是X射线主束中心位置）照在电离室的灵敏体积中心。 之后打开X射线光机，设置X光机参数，转动附加过滤转盘于实验所需规范处。由 步进电机软件控制一级载物平台进行X轴移动到工作位置。然后开始进行电离室电离电流 测量，该规范下测量完毕，保存数据。再调整X光机参数，调整X轴位置，测量不同规范。 由于电离室的型号种类的不同，测量的规范不同，因此需要在距离X射线管的不 同位置处进行测量，也即是在测量过程中需要的X轴位置调整。由于电离室的尺寸大小的 不同，为使得电离室的灵敏体积位于X射线主束的中心位置，因此不同的电离室需要进行 不同的Υ轴和Ζ轴的位置调整。 最终通过完成Υ轴与Ζ轴移动，实行电离室的灵敏位置处于X射线束的中心位置。 通过X轴的位置移动，完成不同电离室不同规范的测量。 图3为本专利技术电离室调节装置的夹具的本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种电离室调节装置，其特征在于，所述电离室调节装置包括：基座，所述基座上具有第一导轨；电离室位置调整装置，包括：一级移动载物平台，滑设在第一导轨上，在所述第一导轨上平动，且具有第二导轨，所述第一导轨沿X射线主束方向，所述第二导轨与所述第一导轨的方向垂直；二级移动载物平台，滑设在所述第二导轨上，在所述第二导轨上平动；三级移动载物平台，与所述二级移动载物平台相接设，包括竖直升降调整平台，所述竖直升降调整平台上具有夹具夹持电离室，用于调节所述电离室的高度；其中，调节一级移动载物平台在所述第一导轨上平动，二级移动载物平台在所述第二导轨上平动，竖直升降调整平台调节所述电离室高度，使得激光中心对准所述电离室的灵敏体积中心，所述激光中心与所述X射线主束中心位置相同。
【技术特征摘要】
1. 一种电离室调节装置，其特征在于，所述电离室调节装置包括： 基座，所述基座上具有第一导轨； 电离室位置调整装置，包括： 一级移动载物平台，滑设在第一导轨上，在所述第一导轨上平动，且具有第二导轨，所 述第一导轨沿X射线主束方向，所述第二导轨与所述第一导轨的方向垂直； 二级移动载物平台，滑设在所述第二导轨上，在所述第二导轨上平动； 三级移动载物平台，与所述二级移动载物平台相接设，包括坚直升降调整平台，所述坚 直升降调整平台上具有夹具夹持电离室，用于调节所述电离室的高度； 其中，调节一级移动载物平台在所述第一导轨上平动，二级移动载物平台在所述第二 导轨上平动，坚直升降调整平台调节所述电离室高度，使得激光中心对准所述电离室的灵 敏体积中心，所述激光中心与所述X射线主束中心位置相同。2. 根据权利要求1所述的电离室调节装置，其特征在于，所述二级移动载物平台包括： 滑块，与所述第二导轨滑设； 丝杠，一端与电机连接，另一端与所述滑块连接，通过所述电机驱动丝杠带动所述滑块 在所述第二导轨滑动。3. 根据权利要求1所述的电离室调节装置，其特征在于，所述坚直升降调整平台具有 交叉的支撑臂和第一转轴，通过转动所...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴金杰，蒋伟，李兵，陈法君，杨元第，
申请(专利权)人：中国计量科学研究院，
类型：发明
国别省市：北京;11
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