一种半导体电路研磨剂制造技术

技术编号:10466574 阅读:132 留言:0更新日期:2014-09-24 18:28
本发明专利技术公开了一种半导体电路研磨剂,其特征在于,包括下列重量份数的物质:磷酸钠1-9份,焦磷酸钠6-10份,氢氧化铝1-6份,山梨醇3-8份,聚丙烯3-7份,聚乙烯9-16份,甘油2-6份,二本甲酮7-16份,偶联剂1-7份,硬脂酸钙1-3份,硬脂酸4-10份,纳米石墨粉1-2份,氨水7-13份,硝酸钾5-16份,亚硫酸钠2-4份,聚丙烯酯5-9份。本发明专利技术的有益效果是:腐蚀速度低,研磨效果好,对半导体损伤小。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种半导体电路研磨剂,其特征在于,包括下列重量份数的物质:磷酸钠1‑9份,焦磷酸钠6‑10份,氢氧化铝1‑6份,山梨醇3‑8份,聚丙烯3‑7份,聚乙烯9‑16份,甘油2‑6份,二本甲酮7‑16份,偶联剂1‑7份,硬脂酸钙1‑3份,硬脂酸4‑10份,纳米石墨粉1‑2份,氨水7‑13份,硝酸钾5‑16份,亚硫酸钠2‑4份,聚丙烯酯5‑9份。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:范向奎
申请(专利权)人:青岛宝泰新能源科技有限公司
类型:发明
国别省市:山东;37

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